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  • 本实用新型提供了一种物理气相沉积机台,包括:壳体,设有一开口;顶罩,盖设于所述开口处,用以封闭所述壳体;至少一个升降机构,设于所述顶罩靠近所述壳体的一侧,用以带动所述顶罩沿第一方向朝靠近或背离所述壳体的方向移动。本实用新型通过在顶罩的底部设...
  • 本实用新型涉及微柱面镜生产技术领域,且公开了一种适用于微柱面镜的镀膜夹持工装,包括支撑底座,所述支撑底座的上表面固定连接有支撑板,所述支撑板的外侧壁固定连接有驱动电机,所述驱动电机的输出端固定连接有U型连接架,所述U型连接架的内壁固定连接有...
  • 本申请公开了载具、镀膜设备及其控制方法。载具包括多个第一极板、多个第二极板、第一导电块、第二导电块、第三导电块和第四导电块。第一极板和第二极板在第二方向上交替间隔设置。第一导电块设置于相邻第一极板之间靠近第一端的一侧,第二导电块设置于相邻第...
  • 本申请公开了一种二维CrS纳米片及其制备方法和应用。所述二维CrS纳米片的制备方法包括以下步骤:在载气的流通方向上,将硫粉和铬源前驱体分别置于化学气相沉积系统的上游和中央,所述铬源前驱体的正上方设有衬底,通过程序升温进行反应,得到二维硫化镉...
  • 本申请涉及一种真空腔体的关门系统、真空镀膜机及真空刻蚀机;所述关门系统包括:控制器、延时触发装置、压力传感器和腔门压紧机构;压力传感器设于真空腔体上,用于检测真空腔体的腔门关紧状态并输出触发信号;腔门压紧机构连接在腔门上,用于在控制器的控制...
  • 本实用新型提供一种承载装置及气相反应装置,承载装置设置有若干用于承载基片的凹穴,凹穴的边部开设有弧形槽,当基片放置在凹穴的承载面上时,基片的部分边部悬空于弧形槽的上方,可以在减少凹穴侧壁对基片边部温度过热的不利影响。同一周向的各凹穴构成一凹...
  • 本发明公开了一种真空蒸镀机用活动调控式旋转机构,属于真空蒸镀机技术领域,本发明包括支撑柱以及安装在支撑柱内部的传动齿轮,传动齿轮的侧边啮合连接有联动齿轮,所述联动齿轮键连接在动力杆上,所述动力杆上固定有定位套,且定位套的周向通过旋转臂与限位...
  • 本发明提供镀锌线上用于控制带材镀层厚度的镀锌装置,包括镀锌池与镀层调节机构,镀层调节机构包括移位机构及气刀机构,移位机构安装在镀锌池的相对两侧侧壁的顶面,包括顶升机构以及若干纵移机构,顶升机构包括可升降的升降板,若干纵移机构安装在升降板上,...
  • 本发明提供了一种球形滚珠镀膜机构及球形滚珠镀膜装置,镀膜机构包括转动件、导向结构以及用于放置滚珠的托盘组件,所述托盘组件具有供所述滚珠滚动的滚动面,所述转动件与所述托盘组件活动连接,驱动所述托盘组件绕第一方向转动,所述托盘组件由所述导向结构...
  • 本实用新型公开了一种石墨烯纳米复合薄膜沉积装置,包括圆柱形体、多通道气体分配器、可旋转基材托盘、气溶胶喷射模块及磁控溅射组件,所述圆柱形体的内部为真空腔体,所述多通道气体分配器通过法兰盘固定安装在圆柱形体的顶端,所述圆柱形体的底端通过法兰盘...
  • 本发明提供一种掩模框架、掩模组件和蒸镀装置,掩模框架用于支撑固定掩模板,所述掩模框架包括框架主体,所述框架主体的第一区域上设置连接件,所述连接件被配置为与掩模板固定连接,所述连接件与所述框架主体可拆卸连接,且所述连接件在所述框架主体上的正投...
  • 本实用新型公开了一种防飞溅的真空卷绕镀膜装置,所述防飞溅的真空卷绕镀膜装置包括:底支撑板、挡板组件以及围板组件,所述围板组件为上下开口的矩形框架结构,所述围板组件围设在所述底支撑板的上端边缘,所述底支撑板上交错间隔设置有多个蒸发源;所述挡板...
  • 本发明涉及真空镀膜技术领域,公开一种镀膜系统。其中镀膜系统包括镀膜腔和冷却装置,镀膜腔内设置有具有多个承载位的膜料承载件,镀膜腔内设置有用于镀膜的镀膜位,承载位能依次置于镀膜位;冷却装置设置于镀膜腔,冷却装置包括用于冷却置于镀膜位的承载位的...
  • 本实用新型公开了一种便于维护的镀膜室,涉及磁控溅射设备维护领域,包括镀膜室以及镀膜室的两个侧壁侧壁一与侧壁二,所述镀膜室的内腔中设有可移动遮挡板,所述遮挡板的上端设有用于驱动遮挡板移动的第一驱动装置,所述遮挡板的底端设有用于遮挡板移动的第一...
  • 本实用新型公开了一种新型镀膜工装夹具,属于镀膜技术领域,包括底盘,所述底盘的顶面上固定安装有顶盘,所述底盘上设置有多个定位槽,所述底盘的顶面上设置有两个顶滑槽,所述顶滑槽的内部设置有定位组件,所述定位组件包括纵滑杆与横滑轴,所述纵滑杆固定安...
  • 本发明的一种自动化铜箔卷绕镀膜装置及其方法,属于自动化铜箔卷绕镀膜技术领域,包括以下步骤:数据采集:通过非接触式轮廓感测架实时监测铜箔在宽度方向的平整度轮廓,获取实时形貌阵列;误差计算:控制器将所述实时形貌阵列与基于全局基准张力计算的理论悬...
  • MOCVD薄膜沉积装置,涉及薄膜制备技术领域,本发明包括下述部分:反应腔(4),其具有进气口和排气口;左右两个带轮(2),带轮表面设有多个定位槽,用于限制带材位移;反应腔(4)和带轮(2)与安装架连接,所述安装架上还装有带材张紧结构。本发明...
  • 本实用新型公开了一种光伏支架型材表面镀锌设备,包括镀锌架,所述镀锌架的后壁开设的滑槽一内滑动连接有十字架,十字架的上侧左右两端均设有电液推杆一,电液推杆一的伸缩端均安装有升降架,升降架的下端均安装有镀锌框,镀锌架的底壁中部设有镀锌池,还包括...
  • 本申请涉及一种蒸镀装置。包括蒸发源、源喷嘴和导向机构。蒸发源用于蒸发蒸镀材料。源喷嘴设置在所述蒸发源喷嘴上,用于决定所述蒸镀材料的喷射方向。导向机构设置于所述源喷嘴上,用于对所述蒸镀材料的喷射方向进行导向。所述源喷嘴的喷射方向为第一方向,所...
  • 本申请提供一种掩膜板及其制备方法、掩膜装置,其掩膜板包括掩膜板本体和支撑结构,掩膜板本体上设置有掩膜开口;支撑结构设置于掩膜板本体朝向基板的一侧,支撑结构凸出于掩膜板本体朝向基板的表面,支撑结构在掩膜板本体上的正投影与掩膜开口在掩膜板本体上...
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