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五金工具产品及配附件制造技术
  • 本发明公开了一种薄壁异形件热障涂层的等离子喷涂方法和薄壁异形件。所述薄壁异形件热障涂层的等离子喷涂方法,包括如下步骤:S1、对基体表面依次进行粗化处理和预热,得到预热后的基体;S2、在预热后的基体表面,采用镍铬铝钇粉末经等离子喷涂制备粘结层...
  • 本实用新型公开了一种钢结构表面防漏镀锌装置,包括:装置主体、防漏镀组件。本实用新型所述的一种钢结构表面防漏镀锌装置,料架两侧排列安装的分隔块,可对其上端放置的钢结构件进行均匀的分隔,以在料架下移至镀锌箱内后,通过镀锌箱两侧的固定板和插杆,进...
  • 本申请公开了一种蒸镀用电子束偏置设计方法及蒸镀设备,涉及蒸镀的技术领域,包括如下步骤:确定入射角度初始值θ;根据入射角度初始值θ计算出电子束的偏转半径R;根据电子束偏转半径R确定磁感应强度B值;建立带电粒子移动轨迹的追踪模型;将所述磁感应强...
  • 本发明涉及表面处理技术领域,具体为一种用于曲面基体的镀膜工艺。本发明克服了传统镀膜工艺在曲面基体上出现溢镀现象以及镀层易剥离的问题。通过特制的亲水性刻蚀液对曲面基体进行化学蚀刻,在基体表面构建纳米级倒三角形微孔结构;随后利用PVD技术沉积铬...
  • 本发明提供成膜装置、成膜方法及电子器件的制造方法,能够使形成在基板上的薄膜整体的膜厚成为所希望的膜厚。成膜装置具备至少一个蒸发源单元(203),利用从蒸发源单元(203)所具备的多个开口部射出的成膜材料,在多个基板(S)上连续地形成薄膜,其...
  • 本申请公开了一种气相沉积设备,属于化学气相沉积技术领域。所述气相沉积设备包括底壳、转台、第一旋转轴和第二旋转轴,所述转台可转动地设置于所述底壳;所述第一旋转轴设置于所述转台,用于定位至少一个待加工件,且所述第一旋转轴的轴线与所述转台的转动轴...
  • 本发明涉及镀锌技术领域,特别是一种钢管热镀锌的锌锅装置,包括用于对钢管进行快速热镀锌的加热部件,所述加热部件的两端沿其对称轴对称设置有用于对钢管进行批量输送的输送部件,所述输送部件的上端滑动连接有用于阵列放置钢管的放置架,所述加热部件的下方...
  • 本发明涉及化学气相沉积技术领域,公开了一种控制铝化物气流的供给装置及使用方法,定位片与固定支架的配合,便于装置快速装夹,适配大批量工程化生产需求。气流分配器可将工艺气体均分,其出气孔与涡轮叶片腔室精准对应,有效改善层流现象,实现工艺气体的精...
  • 提供能够抑制使用晶圆而制造的半导体装置的成品率降低的成膜方法、基座及气相生长装置。实施方式的成膜方法是使用气相生长装置在晶圆的面上形成膜的成膜方法。实施方式的成膜方法包含在所述晶圆的面上形成膜的成膜处理。所述气相生长装置具有对所述晶圆进行支...
  • 公开了一种掩模片支撑装置和掩模制造装置。所述掩模片支撑装置包括支撑板和多个夹具。支撑板被构造为支撑多个掩模片。支撑板包括主体部和设置在主体部的一个表面上的防损坏板。多个夹具被构造为夹持多个掩模片。多个夹具与支撑板间隔开并且沿着支撑板的边缘设...
  • 本发明公开了一种悬浮液等离子喷涂氧化铝致密耐磨涂层及其制法与应用。所述制法包括:对基材进行预处理;采用轴向悬浮液等离子喷涂技术将氧化铝悬浮液施加于基材表面,从而制得氧化铝致密耐磨涂层;其中,所述轴向悬浮液等离子喷涂技术采用的工艺参数包括:喷...
  • 本发明公开了一种功能性复合粉体的磁控装置及多层包覆方法,包括有真空磁控包覆室和阴极单元,还包括有粉体分散室,缓冲涡流室和粉体收集室,所述真空磁控包覆室设有多个,多个真空磁控包覆室呈竖直状态布置形成多级磁控溅射室,相邻两个真空磁控包覆室之间通...
  • 本发明提供一种改善半导体工艺设备膜厚稳定性的方法。所述方法包括:判断喷淋头的累积膜厚是否达到预设阈值,若达到则执行清洗;在清洗结束后执行等离子体加热步骤,通过非反应性气体等离子体的轰击效应提升喷淋头温度,解决清洗初期膜厚跳高问题;在执行沉积...
  • 本发明公开了一种自动化精准定量翻转加锌机,属于连续镀锌自动化生产线设备,包括翻转机构和测距仪;需要对锌锅内的锌液进行补料时,只需要通过平移加锌组件将锌锭钩住,翻起所述翻转支架,配合平移加锌组件的移动,即可使得锌锭接触锌锅内的高温锌液实现补料...
  • 本发明涉及一种连续化带状泡沫铜锰合金及其制备方法,属于新能源材料技术领域。所述方法包括:提供连续化带状开孔泡沫铜基材;对其进行除油和采用含三价锰盐的酸性溶液活化;在保护气氛下涂布含锰浆料并烘干;随后在氢气气氛中进行多阶段热处理,包括低温有机...
  • 本实用新型属于薄膜制备技术领域,涉及一种工件装载装置与真空处理腔室,所述工件装载装置包括:固定件,所述固定件用于固定工件;掩膜件,所述掩膜件连接所述固定件,所述工件具有至少一个突出部,所述掩膜件与所述突出部间隔设置,且所述掩膜件与所述突出部...
  • 本发明提供了一种膜厚标准片及其制备方法、膜厚测量设备的校准方法。该膜厚标准片中,在基片上形成有凹槽和/或凸起,并使薄膜层覆盖该凹槽和/或凸起,从而可根据凹槽和/或凸起在覆盖薄膜层前后的尺寸变化,以准确的获得该标准片上的薄膜层的厚度值,满足标...
  • 本发明提供一种基座及单片式化学气相沉积装置。所述基座包括:托盘,其上表面用于承载晶圆;感应加热组件,通过电磁感应加热的方式加热所述托盘;所述感应加热组件由位于外圈的第一感应线圈和位于内圈的至少一个第二感应线圈组成,所述第一感应线圈和所述至少...
  • 本申请涉及蒸镀系统技术领域,特别是涉及一种自动调整膜厚检测仪探头精准度的检测方法。所述方法,包括:建立膜厚检测仪探头的晶振片的使用程度与Tooling参数之间的对应关系;在蒸镀过程中,实时监测所述晶振片的当前使用程度;基于所述当前使用程度和...
  • 本发明公开了一种磁控溅射靶材组件及薄膜沉积设备。本发明的平面靶为大面积的平面靶,背板连接于平面靶的靶连接面,盖板连接于背板背离平面靶的一侧,盖板与背板共同限定出至少两条冷却通道。一方面冷却通道的设置使得冷却液能够在背板与盖板之间流动,进而快...
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