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五金工具产品及配附件制造技术
  • 本公开涉及金属表面玻璃涂层技术领域,尤其涉及一种换热器防腐涂层的制备方法及应用。该制备方法包含以下步骤:制备玻璃浆料;将玻璃浆料刷涂至换热器基体表面,并干燥;将干燥后的换热器基体经过第一次热处理,得到表面涂覆有玻璃涂层的换热器基体;然后制备...
  • 本发明公开了一种可拆卸周转的单元板块吊运装置,涉及高空吊运领域,包括钢结构框架、配重块和倾斜的桁架吊臂,钢结构框架上设有卷扬机,卷扬机的下方设有安装板,卷扬机的输出端连接有绕绳辊,绕绳辊上缠绕有钢丝绳,钢丝绳的一端经过导向滑轮连接有吊钩;钢...
  • 本发明公开了一种有助于提高骨密度的调制乳粉及其制备方法,涉及乳制品领域,本发明提供的调制乳粉,通过科学配比多种关键营养素,实现了对骨骼健康的多靶点、系统性干预,不仅能高效补充易于吸收的钙质,更能通过组分之间的协同作用,有效提高骨密度,为防治...
  • 本发明提供了一种多元素合金共渗剂及其应用,多元素合金共渗剂包括:复合锌铝合金粉、Zn粉、复合AIMg合金粉以及稀土化合物,所述稀土化合物包括氢氧化镧。本发明通过采用复合锌铝合金粉、Zn粉、复合AIMg合金粉和稀土化合物的组合,能够在铁道设备...
  • 本实用新型属于锌镍渗层防腐处理技术领域,具体涉及一种道岔板渗层用工装,包括工件置入框,所述工件置入框为上端呈开口状的长方体容器,所述工件置入框设置有数个,所述工件置入框上开设有数个第一通孔;所述夹紧组件,用于将数个工件置入框进行夹紧,本方案...
  • 本发明涉及陶化剂技术领域,尤其涉及一种纳米陶化剂及其制备方法,一种纳米陶化剂,其原料按重量份包括:硅烷偶联剂0.5—4份、钛酸酯偶联剂0.4—4份、锆盐1—10份、醇类溶剂3—5份、硝酸或硝酸盐0.5—2份、改性纳米粘土0.2—2份、六偏磷...
  • 本发明的方式的遮挡装置包括具有开口部的框体、多个遮挡板以及多个驱动部。多个驱动部与多个遮挡板连结,并被构造为变更所述多个遮挡板的姿势。所述开口部的至少一部分区域是从靶材发射的溅射颗粒通过的通过区域。所述多个驱动部被构造为将遮挡板的状态变更为...
  • 本发明提供一种靶材组件的丝套安装方法,包括先后进行的钻孔和丝套安装;所述钻孔的深度贯穿于靶材组件的背板,并延伸至靶材组件的靶材内部;所述丝套安装的位置处于靶材内部,且采用的丝套为盲孔型自攻丝套;所述盲孔型自攻丝套包括丝套本体,所述丝套本体沿...
  • 本发明提供一种自卷曲电感稳态管径的调节方法,包括清洗衬底片、沉积锗牺牲层、沉积双频氮化硅应力层、沉积氧化铝保护层。第一次光刻与反应离子刻蚀定义台面结构、第二次光刻形成金属导电层、第三次光刻与反应离子刻蚀定义刻蚀窗口。第二次光刻形成金属导电层...
  • 本申请涉及一种门座起重机回转支承更换方法及装置,属于门座起重机技术领域,其包括S1、调节门座起重机至稳定状态;S2、将门座起重机停机;S3、安装连接更换轴承所需部件,安装顶升设备;S4、检查门座起重机的圆筒加固情况,并检查连接部件安装强度是...
  • 本实用新型公开了一种反吹式内循环流化床锅炉装置,解决了现有循环流化床锅炉中风帽结构复杂、易堵塞、维护困难的技术问题。它包括炉膛和螺旋给料机,所述炉膛包括炉膛上部、炉膛中部、沸腾层以及炉膛底部,炉膛内设有同轴心布置的一次风管和二次风管,一次风...
  • 一种连续镀膜系统以及连续镀膜方法,其中连续镀膜系统包括:第一缓冲仓,用于接收待镀膜的器件;工艺仓,用于对所述器件进行镀膜,所述工艺仓设置于所述第一缓冲仓的下游;抽真空组件,至少用于对所述第一缓冲仓抽真空;其中,在所述第一缓冲仓的入口开放以接...
  • 本实用新型公开了一种立式反应炉及镀膜设备,包括设有反应腔体的炉管本体,所述反应腔体的内侧壁设有支撑组件,所述支撑组件朝向所述反应腔体的轴心的一侧设有至少一层由非金属材料制成的第一防护层,所述第一防护层用于防止所述反应腔体内的反应气体与所述支...
  • 本申请涉及一种用于管式等离子体增强化学气相沉积设备的石墨舟,所述石墨舟包括至少两组石墨杆组和至少一组活动杆组,所述石墨杆组间隔排列,且每组所述石墨杆组分别设有至少一个第一石墨触点;每组所述活动杆组设有至少两个第二石墨触点,所述第一石墨触点和...
  • 本发明公开了一种旋转式靶材座,属于靶材座技术领域,包括靶材座主体,靶材座主体上连接有驱动机构,驱动机构上连接有靶材板,靶材板与靶材座主体之间设置有冷却机构,靶材座主体顶端连接有钼支架,钼支架上连接有钼片。本发明采用上述的一种旋转式靶材座,通...
  • 本实用新型所提供的真空镀膜线冲划伤结构包括平板和设置在平板侧边的冲划伤单元,冲划伤单元能够将真空镀膜线底板上沉积的溅射物冲碎,尤其是沉积高度过高的溅射物,从而避免底板上溅射物的沉积高度超过传送辊轮的胶圈高度,有效降低溅射物沉积对真空镀膜线上...
  • 本发明涉及基板生产技术领域,名称是一种基板的氧化装置,其包括装置架和安装在装置架上的氧化槽,所述的氧化槽具有左侧的进入端和右侧的出来端,在进入端安装有基板的送进辊轮,在氧化槽的外周的装置架上还安装有导向辊轮,这些导向辊轮是外导向辊轮,还有环...
  • 本实用新型属于导体治具技术领域,尤其为一种U型的镀锡导体治具,包括机架,所述机架的底部设有定位安装孔,所述机架的侧壁上固定安装有一个驱动电机,所述驱动电机的输出端固定连接有一个驱动轴,所述驱动轴上固定连接有主齿盘,所述主齿盘上啮合有链条,所...
  • 本发明涉及激光熔覆设备技术领域,具体公开了一种具备管排与单管激光熔覆的专用设备,包括管排加工台,所述管排加工台的两侧设有支撑台,所述支撑台上设有可移动的横梁,所述横梁上设有滑座,滑座上设有激光熔覆头,其特征在于:所述支撑台的一侧设有单管加工...
  • 一种连续镀膜系统以及连续镀膜方法,其中连续镀膜系统包括:第一缓冲仓,用于接收待镀膜的器件;至少一个工艺仓,用于对器件进行镀膜,至少一个工艺仓设置于第一缓冲仓的下游;抽真空组件,至少用于对第一缓冲仓抽真空;其中,在第一缓冲仓的入口开放以接收器...
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