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五金工具产品及配附件制造技术
  • 一种用于压铸机压射组件的Fe基激光熔覆层参数优化方法
    一种用于压铸机压射组件的Fe基激光熔覆层参数优化方法_浙大宁波理工学院_202511476732.2
    本发明属于压铸技术领域，具体是涉及一种用于压铸机压射组件的Fe基激光熔覆层参数优化方法，包括如下步骤：选择基体与待激光熔覆的金属粉末；对激光熔覆系统进行参数设定；分别测量激光熔覆后各参数；设计正交实验方案，将激光功率和扫描速度作为变量，熔覆...
    2026-01-16
  • 一种锅炉管排的耐腐蚀层激光熔覆设备及其控制方法
    一种锅炉管排的耐腐蚀层激光熔覆设备及其控制方法_江苏兴特嘉环保设备制造有限公司_202511212635.2
    本发明公开了一种锅炉管排的耐腐蚀层激光熔覆设备及其控制方法，包括输送机，所述输送机上两侧设置有安装台，两个安装台上固定设置有物料箱，物料箱底部设置有激光熔覆组件，输送机一端两侧均设置有自由伸缩的V形导料组件，利用两个所述V形导料组件实现宽度...
    2026-01-16
  • 一种热喷涂用等离子控制柜
    一种热喷涂用等离子控制柜_唐山博菲克热喷涂有限公司_202520232530.2
    本实用新型公开了一种热喷涂用等离子控制柜，包括等离子控制柜，所述等离子控制柜的底部两侧均开设有凹槽，凹槽的一侧内壁上开设有滑动槽，滑动槽内滑动安装有滑动块，滑动块的一端延伸至滑动槽内，滑动块的另一端延伸至滑动槽外，滑动块延伸至滑动槽外的一端...
    2026-01-16
  • 一种热喷涂用抽风除尘设备
    一种热喷涂用抽风除尘设备_廊坊斯博瑞精密机械有限公司_202520232633.9
    本实用新型公开了一种热喷涂用抽风除尘设备，包括热喷涂设备和设备外壳，所述设备外壳的两侧均开设有开孔，开孔内滑动安装有排气扇，开孔的顶部和底部内壁上均固定安装有固定块，设备外壳的一侧开设有转动槽，转动槽的底部内壁上开设有固定孔，排气扇的顶部和...
    2026-01-16
  • 一种不锈钢板表面磷化处理装置
    一种不锈钢板表面磷化处理装置_晨光真空技术(东莞)有限公司_202423193438.4
    本实用新型公开了一种不锈钢板表面磷化处理装置，涉及金属表面处理领域，包括U型板，所述U型板内壁相对面均开设有若干个水平的条形凹槽，且两个对应的所述条形凹槽之间滑动连接有钢板；所述U型板上固定连接有限位架组件用于对钢板不与U型板对应的两侧限位...
    2026-01-16
  • 一种等离子喷涂可调升降台
    一种等离子喷涂可调升降台_唐山博菲克热喷涂有限公司_202520232538.9
    本实用新型公开了一种等离子喷涂可调升降台，包括等离子喷涂设备和喷涂枪，所述等离子喷涂设备的一侧固定安装有横杆，横杆的顶部开设有滑动孔，滑动孔内滑动安装有滑动杆，滑动杆的两端均延伸至滑动孔外，滑动杆的顶部固定安装有升降台，升降台的顶部开设有卡...
    2026-01-16
  • 组合式大深度井式氮化炉
    组合式大深度井式氮化炉_爱协林热处理系统(北京)有限公司_202423250563.4
    本实用新型涉及热处理技术领域，具体公开了一种组合式大深度井式氮化炉。其包括：上段炉体、下段炉体、上段炉盖及风扇循环系统(1)、上段加热系统和控制(3)、上段导风系统(4)、上下端接口及压紧装置(7)、下段加热系统和控制(9)、下段导风系统(...
    2026-01-16
  • 一种防止酒瓶晃动的酒瓶镀膜用组件
    一种防止酒瓶晃动的酒瓶镀膜用组件_江苏晶瑞玻璃有限公司_202520310845.4
    本实用新型公开了一种防止酒瓶晃动的酒瓶镀膜用组件，包括转盘组件和挂瓶组件，挂瓶组件置于转盘组件上且能旋转，由支撑柱和支撑杆组件构成，支撑杆组件含倾斜支撑管、内设螺纹连接的可调连接件，其一端有内六角孔及三个折弯弹性片，还有与支撑管间隙配合的推...
    2026-01-16
  • 一种石英扁管加工装置及方法
    一种石英扁管加工装置及方法_合肥赛默科思半导体材料有限公司_202511729356.3
    本发明公开了一种石英扁管加工装置及方法，涉及石英扁管加工技术领域；而本发明包括两个安装座、底座、石英圆管和椭圆石墨模具，安装座的顶端均固定连接有环形座，环形座相对的一侧均设置有卡盘，石英圆管夹持固定在两个卡盘之间，石英圆管的两端均设置有扩张...
    2026-01-16
  • 铝钕合金靶材及其制备方法
    铝钕合金靶材及其制备方法_常州苏晶电子材料有限公司_202511832285.X
    本发明涉及靶材制造技术领域的一种铝钕合金靶材及其制备方法，包括以下步骤：添加高纯铝和原子百分比为0.15‑2%的金属钕，以及30‑100ppm硅为原料，经熔炼法制备AlNd合金锭；在350‑450℃均匀化退火，消除偏析，并切头去尾，铣掉表皮...
    2026-01-16
  • 一种改善PECVD制备硅氧烷涂层外观质量的方法
    一种改善PECVD制备硅氧烷涂层外观质量的方法_兰州空间技术物理研究所_202511523883.9
    本发明提供一种改善PECVD制备硅氧烷涂层外观质量的方法。在化学气象沉积反应初期阶段在真空室内充入氩气或氮气等惰性气体，优化气氛比例，防止单体过度反应，从而抑制白色粉末污染物的产生。通过该方法的实施，在镀制硅氧烷涂层过程中，可有效消除镀膜初...
    2026-01-16
  • 一种基底无关的非金属透明辐射冷却结构
    一种基底无关的非金属透明辐射冷却结构_河南师范大学_202511516101.9
    本发明公开了一种基底无关的非金属透明辐射冷却结构，其包括基底及镀制于基底上的透明辐射冷却薄膜，该透明辐射冷却薄膜的膜系结构为：基底/MBAB/Air，其中A表示厚度为40nm的氧化铟锡薄膜，B表示厚度为1450nm的氧化铪薄膜，M表示厚度为...
    2026-01-16
  • 用于在基材上进行大气压力等离子体射流涂层沉积的改进护罩
    用于在基材上进行大气压力等离子体射流涂层沉积的改进护罩_分子等离子集团股份有限公司_202080087929.6
    本发明涉及一种用于对包括物体轮廓的物体进行等离子体涂覆的方法，包括以下步骤：a.提供可更换护罩(2)，该护罩包括射流入口(22)、喷嘴出口(24)和从射流入口延伸到喷嘴出口的侧壁(21)，其中，喷嘴出口包括与物体轮廓的至少一部分基本一致的边...
    2026-01-16
  • 基板处理腔室和基板处理设备
    基板处理腔室和基板处理设备_天合光能股份有限公司_202520107891.4
    本申请提供了一种基板处理腔室和基板处理设备，涉及半导体制备技术领域。本申请在基板处理腔室的壳体内设置混合腔、反应腔和承载装置，经混合腔混合的气体在反应腔内电离，电离产生的等离子体经反应腔底部的喷淋孔喷于承载装置承载的基板上，提高制备的薄膜的...
    2026-01-16
  • 光纤芯层的制备方法
    光纤芯层的制备方法_武汉睿芯特种光纤有限责任公司_202411302407.X
    本发明提供一种光纤芯层的制备方法，光纤包括沉积管、头管和尾管，该制备方法包括以下步骤：通过夹具分别将头管和尾管固定在沉积车床的两端；将沉积管放置在头管和尾管之间，并在对应沉积管的位置放置同心部件，通过同心部件使头管、沉积管和尾管沿同一轴心设...
    2026-01-16
  • 一种弧判断电路及弧判断方法、灭弧方法
    一种弧判断电路及弧判断方法、灭弧方法_西安爱科赛博电气股份有限公司_202511516989.6
    本发明提供了一种弧判断电路及弧判断方法、灭弧方法，涉及溅射镀膜技术领域。弧判断电路包括依次通信连接的采样电路、比较电路和控制器；所述采样电路用于采集溅射镀膜设备的溅射电源输出的电信号；所述比较电路用于分别对所述电信号与不同电平基准信号进行比...
    2026-01-16
  • 一种2-(2-联苯氧基)乙醇的制备方法
    一种2-(2-联苯氧基)乙醇的制备方法_浙江皇马尚宜新材料有限公司_202511345856.7
    本发明属于有机合成技术领域，公开了一种2‑(2‑联苯氧基)乙醇的制备方法。该制备方法如下：将邻苯基苯酚融化，在反应温度下，加入第一步环氧乙烷进行一次反应；反应结束后向反应体系中加入弱碱性催化剂，经脱水处理后，加入第二步环氧乙烷进行二次反应，...
    2026-01-16
  • 一种用于PVD涂层设备的智能工艺控制系统及方法
    一种用于PVD涂层设备的智能工艺控制系统及方法_常州夸克涂层科技有限公司_202511312596.3
    本发明公开了一种用于PVD涂层设备的智能工艺控制系统及方法，涉及物理气相沉积技术领域，包括人机交互模块、工艺数据库、数据处理模块、数据采集模块，所述人机交互模块用于用户通过设备显示端输入实际工件信息，以便核对实际工件信息，随后获取反馈结果，...
    2026-01-16
  • 可更换吊具的起重设备及其吊具自动更换控制方法
    可更换吊具的起重设备及其吊具自动更换控制方法_中联重科股份有限公司_202411569205.1
    本申请公开了一种可更换吊具的起重设备及其吊具自动更换控制方法，属于作业机械技术领域，该起重设备包括起重本体、吊具库组件和第一机械臂，起重本体包括连接件；吊具库组件内容置有至少一个吊具；所述第一机械臂用于在所述连接件到达所述吊具库组件的更换区...
    2026-01-16
  • 利用含氟材料涂覆用于半导体处理的组件
    利用含氟材料涂覆用于半导体处理的组件_应用材料公司_202480040245.9
    范例处理方法可包括提供用于半导体处理的组件至处理腔室的处理区。此方法可包括提供一或多种沉积前体至所述处理区。此一或多种沉积前体可包括含金属前体与含氟前体。此方法可包括在所述处理区中用于半导体处理的所述组件上沉积材料层。此材料层包括含金属与氟...
    2026-01-16
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