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最新专利技术
  • 钢材
    钢材_日本制铁株式会社_202480019107.2
    一种钢材，其具有由下述式子表示的α为4.0～16.0的特定的化学组成，抗拉强度为590MPa～930MPa，距离表面为厚度的1/4的部位的显微组织包含下贝氏体及马氏体，下贝氏体与马氏体的面积率的合计为15.0％以上，并且上贝氏体、下贝氏体和...
    2025-11-22
  • 取向性电磁钢板和卷绕铁芯
    取向性电磁钢板和卷绕铁芯_杰富意钢铁株式会社_202480022613.7
    本发明提供磁特性优异且弯折加工精度也优异的取向性电磁钢板和使用了上述取向性电磁钢板的卷绕铁芯，该取向性电磁钢板具有如下成分组成：含有C：0.0050质量％以下、Si：2.0～8.0质量％和Mn：0.02～1.0质量％，剩余部分由Fe和不可避...
    2025-11-22
  • 钢材
    钢材_日本制铁株式会社_202480023841.6
    提供兼顾80ksi以上(552MPa以上)的屈服强度和‑70℃以下的极低温环境下的优异的低温韧性的钢材。本公开的钢材以质量％计包含C：0.26～0.35％、Si：0.10～1.00％、Mn：1.00～1.40％、P：0.015％以下、S：0...
    2025-11-22
  • 方向性电磁钢板
    方向性电磁钢板_日本制铁株式会社_202480026803.6
    本发明涉及一种方向性电磁钢板，在表面导入有在相对于长度方向为60~120°的方向上延伸的多个线状应变，其中，相邻的所述多个线状应变的所述长度方向的间隔分别为2~10mm，所述线状应变的与所述线状应变的延伸方向垂直的方向的宽度即所述线状应变的...
    2025-11-22
  • 无取向电工钢和制造无取向电工钢的方法
    无取向电工钢和制造无取向电工钢的方法_安赛乐米塔尔公司_202480027501.0
    本发明涉及无取向电工钢板，其具有包含以下元素的组成：以重量百分比表示，0.0001%≤碳≤0.007%、0.15%≤锰≤0.25%、2.9%≤硅≤3.4%、0.7%≤铝≤1.3%、0.05%≤镍≤1%、磷≤0.15%、硫≤0.006%、氮≤...
    2025-11-22
  • 用四方氮化钒涂覆衬底的方法
    用四方氮化钒涂覆衬底的方法_赛峰集团_202480026224.1
    本发明涉及一种借助于高功率脉冲磁控溅射、用四方氮化钒涂覆衬底的方法。本发明还涉及一种涂覆有至少一层四方氮化钒的衬底。本发明的方法在电子元件、传感器的换能器、光学、机械和微机械、装饰和保护表面、机动车、航空或航天的领域中特别有用。
    2025-11-22
  • 用于基板处理腔室的偏压或浮动处理屏蔽件
    用于基板处理腔室的偏压或浮动处理屏蔽件_应用材料公司_202480027569.9
    于此提供了具有准直器的处理腔室的实施例。在一些实施例中，一种处理腔室包括：腔室主体，具有侧壁和顶板，以在其中界定内部空间，顶板配置为支撑内部空间中的靶材；基板支撑件，设置在与顶板相对的内部空间中；准直器，设置在顶板和基板支撑件之间的内部空间...
    2025-11-22
  • 通过化学气相沉积形成涂层的方法
    通过化学气相沉积形成涂层的方法_赛峰集团陶瓷_202480023263.6
    一种在反应器中通过化学气相沉积方法沉积涂层的方法，所述方法包括：在基底(20)的表面上，使用含硅前驱体形成粘结涂层，并且在形成粘结涂层时将路易斯酸加入反应器中。
    2025-11-22
  • 衬底处理系统的室清洁
    衬底处理系统的室清洁_朗姆研究公司_202480020780.8
    一衬底处理系统，其包含：处理室、处理站和枢纽部。处理站设置于该处理室中。处理站中的每一者包含各自的衬底支撑件。该枢纽部设置于这些处理站之间。该枢纽部在第一位置与第二位置之间旋转，当于该第一位置处时引导气体清洁该处理室的第一区域，且当于该第二...
    2025-11-22
  • 薄膜沉积装置反应室
    薄膜沉积装置反应室_皮考逊公司_202480026000.0
    一种装置，包括层状流反应室(120)的主体部件，该主体部件包括位于该主体部件的前侧处的前驱物气体的入口开口、位于该主体部件的后侧处的排气开口和位于该主体部件的顶侧或底侧处的盖开口，以及衬底固持器(140)，该衬底固持器被配置为容纳一批衬底(...
    2025-11-22
  • 取向性电磁钢板用绝缘覆膜处理液和取向性电磁钢板的制造方法
    取向性电磁钢板用绝缘覆膜处理液和取向性电磁钢板的制造方法_日本制铁株式会社_202480022449.X
    一种取向性电磁钢板用绝缘覆膜处理液的制造方法，包括：在胶体状二氧化硅中添加Na化合物，将所述胶体状二氧化硅中的以Na2O换算的Na量和以SiO2换算的Si量的质量％的Na2O/SiO2比调整为0.5％以上10％以下的调整工序；以及将所述Na...
    2025-11-22
  • 取向性电磁钢板用绝缘覆膜处理液和取向性电磁钢板的制造方法
    取向性电磁钢板用绝缘覆膜处理液和取向性电磁钢板的制造方法_日本制铁株式会社_202480023282.9
    一种取向性电磁钢板用绝缘覆膜处理液的制造方法，包括：在胶体状二氧化硅中添加K化合物，将所述胶体状二氧化硅中的以K2O换算的K量和以SiO2换算的Si量的质量％的K2O/SiO2比调整为0.5％以上10％以下的调整工序；以及不添加铬酸盐而将所...
    2025-11-22
  • 用于水性环境的金属部件
    用于水性环境的金属部件_意大利学院科技基金会_202380092619.7
    用于水性环境的金属部件，包括金属材料主体和施加至锆合金主体外表面的保护涂层，保护涂层用于接触水性工作流体，其中所述保护涂层包括至少一个氧化物层，所述氧化物层包括基质氧化物和分散在所述基质氧化物中的至少一种掺杂元素，所述基质氧化物选自由Y2O...
    2025-11-22
  • 加工多晶金刚石材料体的方法
    加工多晶金刚石材料体的方法_第六元素(英国)有限公司_202380095252.4
    一种浸出多晶金刚石(PCD)切削元件的方法，所述方法包括：提供具有内部容积的浸出容器；将一定体积的液体酸浸出混合物引入所述浸出容器中，所述体积为所述浸出容器的内部容积的约5％至约80％；将所述PCD切削元件附接至夹具；将密封构件施加在所述P...
    2025-11-22
  • 蚀刻液组合物、蚀刻方法和基体的制造方法
    蚀刻液组合物、蚀刻方法和基体的制造方法_株式会社ADEKA_202480023921.1
    提供：对于含有铜的层而言能够边充分抑制侧面蚀刻边沿着深度方向进行充分蚀刻的蚀刻液组合物。一种蚀刻液组合物，其为用于对含有铜的层进行蚀刻的蚀刻液组合物，其为含有(A)下述通式(1)所示的化合物(通式(1)中，R1和R2各自独立地表示氢原子、氨...
    2025-11-22
  • 用于水电解应用的选择性隔膜及其制造方法
    用于水电解应用的选择性隔膜及其制造方法_科慕埃弗西有限公司_202480017419.X
    描述了一种选择性隔膜，该选择性隔膜包括多孔聚合物隔膜和在至少一个外表面上的选择性材料。包含离子交换聚合物和分布在整个该离子交换聚合物中的氧化锆颗粒(ZrO2)的复合材料的选择性材料可以通过喷涂方法作为液体施加。通过本文所描述的方法制成的选择...
    2025-11-22
  • 电解质溶液及其制造方法
    电解质溶液及其制造方法_马来西亚国家石油公司_202480022092.5
    披露了一种电解质溶液，其包含电解质，其中该电解质以范围在该电解质溶液的1 wt%至10 wt%之间的量使用；离子液体，其中该离子液体以范围在该电解质溶液的1 wt%至5 wt%之间的量使用；以及溶剂，其中该溶剂以范围在该电解质溶液的75 w...
    2025-11-22
  • 电解液的制造方法和氟气的制造方法
    电解液的制造方法和氟气的制造方法_株式会社力森诺科_202480026381.2
    提供一种能够通过简单操作且在短时间内就制造水分浓度低的电解液的电解液的制造方法。一种电解液的制造方法，其是制造为了通过使用碳质电极作为阳极的电解而生成氟气的电解液的制造方法，其具备：向含有氟化氢和无机氟化物、且水分浓度为超过100质量ppm...
    2025-11-22
  • 膜电极组件和水电解槽
    膜电极组件和水电解槽_格林纳瑞缇有限公司_202480022216.X
    本发明涉及用于水电解槽的膜电极组件(1)，包括阳极(2)、阴极(3)和位于阳极(2)和阴极(3)之间的烃膜(4)，还包括布置在阳极(2)和烃膜(4)之间的第一气体重组层(5)，其中在气体重组层(5)和烃膜(4)之间布置至少一个粘附层(6)，...
    2025-11-22
  • 用于电化学电池的全金属编织间隔网
    用于电化学电池的全金属编织间隔网_ACS工业股份有限公司_202480022390.4
    全丝编织间隔网用作碱性电解池内的电极/流场/集电极板。双层或多层全丝编织间隔网可以用作用以桥接电极流场间隙的组合电极/双极板/电极以及介于两个相邻传输隔膜之间的气体密封件。
    2025-11-22
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