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最新专利技术
  • 一种钛合金构件表面耐盐雾抗氧化高熵非晶涂层及其制备方法
    一种钛合金构件表面耐盐雾抗氧化高熵非晶涂层及其制备方法_北京科技大学_202511481795.7
    本发明公开了一种钛合金构件表面耐盐雾抗氧化高熵非晶涂层及其制备方法，涉及物理气相沉积领域。以高熵合金靶材作为原料，采用高功率脉冲磁控溅射复合直流磁控溅射技术制备，所述高熵合金靶材按质量百分含量包括：Ti : 18‑25%，V：20‑25%，...
    2026-01-14
  • 半导体工艺腔室及设备
    半导体工艺腔室及设备_北京集成电路装备创新中心有限公司_202511178847.3
    本发明提供一种半导体工艺腔室及设备，涉及半导体技术领域。该半导体工艺腔室包括腔室本体、承载组件、加热组件和冷却组件，其中，腔室本体内部具有腔体；承载组件设于腔体内，承载组件配置为：承载基片；加热组件设于腔体内并围设于承载组件，加热组件配置为...
    2026-01-14
  • 镀膜运料装置及镀膜方法
    镀膜运料装置及镀膜方法_光驰科技(上海)有限公司_202410817575.6
    本发明属于镀膜设备技术领域，公开了一种镀膜运料装置及镀膜方法，镀膜运料装置包括机体、第一运料机构和第二运料机构。机体包括第一腔室和第二腔室，第一运料机构包括第一运料驱动器和第三腔室，第二运料机构包括限位部和第二运料驱动器，第一运料驱动器能够...
    2026-01-14
  • 一种用于钙钛矿器件的蒸镀与真空过渡集成系统
    一种用于钙钛矿器件的蒸镀与真空过渡集成系统_江西钛矽芯能科技有限公司_202511743909.0
    本发明涉及钙钛矿器件制备技术领域，公开了一种用于钙钛矿器件的蒸镀与真空过渡集成系统，该系统，包括过渡腔体，所述过渡腔体通过第一输送道连接有蒸镀设备，所述过渡腔体通过第二输送道连接有ALD设备，所述过渡腔体、蒸镀设备和ALD设备的侧壁均开设有...
    2026-01-14
  • 一种真空蒸镀机用活动调控式旋转机构
    一种真空蒸镀机用活动调控式旋转机构_苏州佑伦真空设备科技有限公司_202511781293.6
    本发明公开了一种真空蒸镀机用活动调控式旋转机构，属于真空蒸镀机技术领域，本发明包括支撑柱以及安装在支撑柱内部的传动齿轮，传动齿轮的侧边啮合连接有联动齿轮，所述联动齿轮键连接在动力杆上，所述动力杆上固定有定位套，且定位套的周向通过旋转臂与限位...
    2026-01-14
  • 一种合金相真空蒸镀锂膜的方法
    一种合金相真空蒸镀锂膜的方法_北京健联医疗科技有限公司_202511747863.X
    本发明公开了一种合金相真空蒸镀锂膜的方法，涉及核医学放射治疗技术领域，该方法针对传统金属锂蒸镀中易氧化、受热喷溅导致锂膜均匀性和致密性差的问题，通过将金属锂用金属锡箔包裹并碾轧紧实形成锂‑锡复合体，经真空环境准备后，程序升温使锂与锡反应形成...
    2026-01-14
  • 一种激光反射镜蒸发式镀膜装置及使用方法
    一种激光反射镜蒸发式镀膜装置及使用方法_江苏盛益光电有限责任公司_202511364908.5
    本发明涉及光学镜片镀膜加工技术领域，具体涉及一种激光反射镜蒸发式镀膜装置及使用方法，包括安装架、安装架底部设置的多个安装框，以及安装框内安装的对反射镜进行夹紧的夹紧模块，所述夹紧模块包括外环、外环内设置的中轴线重合的内环、内环外周面和外环内...
    2026-01-14
  • 一种成膜均匀的光学镀膜装置
    一种成膜均匀的光学镀膜装置_杭州鑫铂光学材料有限公司_202511375726.8
    本发明涉及镀膜领域，其公开了一种成膜均匀的光学镀膜装置，包括镀膜室及可拆卸设置在镀膜室内的基片架组件，基片架组件包括下安装盘，下安装盘的表面均匀阵列设置有若干个安装孔，每个安装孔内均同轴设置有安装环，每个安装环内均设置有夹持组件，夹持组件包...
    2026-01-14
  • 调节组件、镀膜装置、位置调节方法
    调节组件、镀膜装置、位置调节方法_四川九天真空科技有限公司_202511448103.9
    本申请提供一种调节组件、镀膜装置、位置调节方法，涉及材料镀膜技术领域。调节组件包括：第一调节机构和第二调节机构；其中，第一调节机构设置在第二调节机构的第一端，第二调节机构的第二端连接外部的材料；第一调节机构用于控制第二调节机构和材料在平行于...
    2026-01-14
  • 一种低温等离子真空镀膜设备及方法
    一种低温等离子真空镀膜设备及方法_惠州鑫途纳米科技有限公司_202511649947.X
    本发明涉及镀膜设备技术领域，公开了一种低温等离子真空镀膜设备，包括镀膜组件和辅助降温组件，同时公开了一种低温等离子真空镀膜设备的使用方法，包括如下步骤：步骤一：设备检查与参数预设、步骤二：工件装载密封、步骤三：镀膜准备、步骤四：镀膜与气流辅...
    2026-01-14
  • 偏压装置
    偏压装置_无锡尚积半导体科技股份有限公司_202511784957.4
    本发明提供一种偏压装置，包括：载台主体；载台，设置在载台主体上；所述载台主体和载台能够升降；绝缘导热盘，设置在载台上，绝缘导热盘的上表面用于承载晶圆；在载台主体、载台和绝缘导热盘中对应设有顶针孔；绝缘顶针，穿设在载台主体、载台和绝缘导热盘中...
    2026-01-14
  • 一种空间型磁场组件、环形旋转阴极和磁控溅射镀膜设备
    一种空间型磁场组件、环形旋转阴极和磁控溅射镀膜设备_安徽华远装备科技有限公司_202511320174.0
    本发明涉及磁控溅射设备技术领域，具体涉及一种空间型磁场组件、环形旋转阴极和磁控溅射镀膜设备，通过磁铁基体至少分设有四条，并采用紧邻冷却管道内圈的空间布局，在磁铁基体的两端端部做出以下的至少一种调整，使得磁铁基体端部区域的磁场强度呈非均匀性梯...
    2026-01-14
  • 一种陶瓷电容多层膜镀膜装置
    一种陶瓷电容多层膜镀膜装置_邯郸市奥能电子股份有限公司_202511367851.4
    本申请提供了一种陶瓷电容多层膜镀膜装置，属于镀膜技术领域，包括第一半壳体以及第二半壳体；第一半壳体的一侧开口，另一侧具有避让孔；第一半壳体的外周壁于避让孔位置固定连接有框体；框体于连接框和密封板之间连接有管道，管道上设有阀门；磁控组件安装在...
    2026-01-14
  • 铝稀土改性模具涂层制备方法及模具
    铝稀土改性模具涂层制备方法及模具_广州市型腔模具制造有限公司_202511764977.5
    本发明涉及一种铝稀土改性模具涂层制备方法及模具，方法包括以下步骤：对模具基体表面进行预处理，所述预处理包括激光表面织构化，以在所述基体表面形成微米级的织构阵列；预处理后，氩离子轰击清洗所述模具基体的表面；清洗后，采用磁控溅射技术在所述模具基...
    2026-01-14
  • 流媒体后视镜盖板用多层渐变色薄膜的真空溅射制备工艺
    流媒体后视镜盖板用多层渐变色薄膜的真空溅射制备工艺_佛山市晶玻科技有限公司_202511769883.7
    本发明公开了流媒体后视镜盖板用多层渐变色薄膜的真空溅射制备工艺，属于磁控溅射镀膜技术领域，该工艺依托包含上片平移台、上片台、进片室、前精抽室、前缓冲室、第一镀膜室、过渡室、第二镀膜室、后缓冲室、后精抽室、出片室、下片台和下片平移台等部件的真...
    2026-01-14
  • 一种用于降低光罩基板缺陷的靶材及其处理方法
    一种用于降低光罩基板缺陷的靶材及其处理方法_绍兴芯链半导体科技有限公司_202410567657.X
    本发明涉及半导体技术领域，具体公开了一种用于降低光罩基板缺陷的靶材及其处理方法，该处理方法利用离子植入法对靶材进行处理，使得处理后的靶材的维氏硬度达1000Hv以上。包括如下步骤：S20，对真空腔体进行抽真空处理，使得真空腔体的真空度达到预...
    2026-01-14
  • 可转动的承载装置
    可转动的承载装置_四川九天真空科技有限公司_202511448113.2
    本申请提供了一种可转动的承载装置，包括基座、驱动组件、第一级交叉滚子轴承、传动件以及支撑盘承载组件；传动件具有中心部，中心部与驱动组件的输出端连接；传动件背向驱动组件的一侧与支撑盘承载组件连接；传动件朝向驱动组件的一侧的旋转面与第一级交叉滚...
    2026-01-14
  • 蒸发源的温度控制方法和蒸镀设备
    蒸发源的温度控制方法和蒸镀设备_江苏英联复合集流体有限公司_202511392415.2
    本申请涉及一种蒸发源的温度控制方法和蒸镀设备。上述方法包括：在送丝装置为蒸发舟进行送丝的过程中，在检测到送丝过程的送丝结果满足预设送丝需求时，控制蒸发舟中的铝液进入成膜流程；在成膜的过程中，根据检测到的蒸发舟的温度变化情况和/或铝液蒸发速度...
    2026-01-14
  • 一种PVD加热室的温度控制方法
    一种PVD加热室的温度控制方法_浙江晟霖益嘉科技有限公司_202511767113.9
    本发明公开了一种PVD加热腔室的温度控制方法，涉及半导体领域，PVD加热室包括腔室和测温组件，腔室的底壁设有支撑座，腔室的顶壁设有反射板和红外辐射灯，测温组件包括红外检测仪和控制终端，红外检测仪的探测头伸入腔室，温度控制方法包括：开启红外辐...
    2026-01-14
  • 一种反应腔室的处理方法
    一种反应腔室的处理方法_北京集成电路装备创新中心有限公司_202511240745.X
    本发明提供一种反应腔室的处理方法，包括：提供反应腔室步：反应腔室的内壁面具有洁净的耐等离子体腐蚀涂层；第一沉积步：碳基工艺气体气氛下，在耐等离子体腐蚀涂层的表面沉积无定形碳层，以填充耐等离子体腐蚀涂层的孔隙直至无定形碳层的上表面高于孔隙的上...
    2026-01-14
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