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最新专利技术
  • 成像设备
    成像设备_佳能株式会社_202511277561.0
    一种成像设备包括盒和设备主体，设备主体包括泵部、包括调色剂容置部的显影剂容器、和管。盒包括调色剂室、过滤器、空气室、排出端口、和管道。当执行调色剂输送操作时，在调色剂仅被装载于过滤器的分隔部的一部分上的第一状态下调色剂室与空气室之间的压力差...
    2026-05-15
  • 图像形成装置
    图像形成装置_佳能株式会社_202511277219.0
    本公开涉及一种图像形成装置，其包括第一盒、第二盒和装置本体，所述装置本体包括泵部分、第一显影剂容器、第二显影剂容器、第一管和第二管。第一管的比从第一端到第二端的长度的一半更长的部分配置成沿水平方向、沿向下倾斜方向、或者沿相对于水平方向成45...
    2026-05-15
  • 盒
    盒_佳能株式会社_202511277178.5
    一种盒，包括：第一室，用于储存调色剂；第二室，设置成与第一室在第一方向上排列；过滤器，设置成分隔第一室和第二室，过滤器允许空气通过并限制调色剂通过；排出口，用于将储存在第一室中的调色剂排出到盒的外部；进气口，用于将空气从盒的外部引入到第二室...
    2026-05-15
  • 图像形成装置
    图像形成装置_佳能株式会社_202511273212.1
    公开了图像形成装置。一种图像形成装置的控制部分能够执行：i)第一处理，在第一处理中在转印电压被施加使得形成第一电位差的状态下，第一区域形成转印部分；ii)第二处理，在第二处理中在显影电压被施加使得形成第二电位差的状态下，第一区域形成显影部分...
    2026-05-15
  • 图像形成装置
    图像形成装置_佳能株式会社_202511265661.1
    本公开涉及一种图像形成装置，所述图像形成装置包括：第一显影单元，所述第一显影单元配置在第一调色剂容器和第二调色剂容器的上方；第二显影单元，所述第二显影单元在与第一方向和重力方向相交的第二方向上与所述第一显影单元对齐，并且被配置在所述第一调色...
    2026-05-15
  • 显影剂担载体及其制造方法
    显影剂担载体及其制造方法_京瓷办公信息系统株式会社_202511246548.9
    本发明涉及显影剂担载体及其制造方法。显影剂担载体具备轴、磁铁、套筒、凸缘以及粘接剂，凸缘具有第一嵌合部、第二嵌合部以及槽部，粘接剂配置于槽部，第一槽部以及第二槽部依次从第一嵌合部侧朝向第二嵌合部侧连续地形成，从第二槽部的底面到第一嵌合部的外...
    2026-05-15
  • 显影剂担载体及其制造方法
    显影剂担载体及其制造方法_京瓷办公信息系统株式会社_202511244756.5
    本发明涉及显影剂担载体及其制造方法。显影剂担载体具备轴、磁铁、套筒、凸缘以及粘接剂，凸缘具有第一嵌合部、第二嵌合部以及槽部，粘接剂配置于槽部，第一槽部、第二槽部以及第三槽部按该顺序从第一嵌合部侧朝向第二嵌合部侧连续地形成，从第二槽部的底面到...
    2026-05-15
  • 一种显影盒
    一种显影盒_中山诚威科技有限公司_202511241261.7
    本发明提供了一种显影盒，包括：盒体用于储存显影剂；盒体的内部容纳设置有容纳腔；显影辊可绕沿第一方向延伸的显影轴线旋转，显影辊位于第三端；送粉辊可绕沿第一方向延伸的送粉轴线旋转，送粉辊位于第三端；第六端设置有底壁，底壁的延伸方向与第二方向和第...
    2026-05-15
  • 静电消除器、图像形成系统和电荷调整装置
    静电消除器、图像形成系统和电荷调整装置_佳能株式会社_202511265659.4
    公开了静电消除器、图像形成系统和电荷调整装置。一种图像形成系统包括被配置为在片材上形成图像的图像形成装置以及具有电荷消除组件的静电消除器，该电荷消除组件被配置为对由图像形成装置形成有图像的片材进行中和。静电消除器包括第一设置单元，该第一设置...
    2026-05-15
  • 片材传送设备和图像形成设备
    片材传送设备和图像形成设备_佳能株式会社_202511269637.5
    本申请涉及一种片材传送设备，其包括形成夹持部分的传送辊对以及能够在第一位置和第二位置之间移动的传送引导件。传送辊对沿片材传送方向传送在夹持部分处被夹持的片材。在传送引导件处于第二位置的状态下，片材传送路径的至少一部分是打开的。在片材的前缘通...
    2026-05-15
  • 半导体的叠对测量方法
    半导体的叠对测量方法_联芯集成电路制造(厦门)有限公司_202411199767.1
    本发明提供一种半导体的叠对测量方法，包含提供一晶圆，晶圆上包含有多个区域排列成阵列，其中各区域内包含有一产品编号图案，提供一系统，系统中包含有一资料池，资料池中存储有多个英文字母图案以及数字图案，从资料池中找出符合产品编号图案的英文字母图案...
    2026-05-15
  • 一种基于碱溶性金属剥离胶的双层剥离工艺
    一种基于碱溶性金属剥离胶的双层剥离工艺_儒芯微电子材料(上海)有限公司_202512056236.8
    本发明公开了一种基于碱溶性金属剥离胶的双层剥离工艺，属于微电子制造技术领域。本发明用于解决传统的双层lift‑off金属剥离工艺中，交联固化后的胶膜难以用常规的有机溶剂/碱性溶液彻底去除，极易产生胶残留；单层负胶lift‑off金属剥离工艺...
    2026-05-15
  • 负性光刻胶去边方法
    负性光刻胶去边方法_芯联集成电路制造股份有限公司_202512047655.5
    本发明提供了一种负性光刻胶去边方法，包括提供晶圆，在晶圆的表面旋涂负性光刻胶，在晶圆边缘的负性光刻胶上形成环状掩模，以环状掩模遮挡晶圆边缘的负性光刻胶，对负性光刻胶进行曝光；以及，显影去除环状掩模和环状掩模遮挡的负性光刻胶。本发明实现对负性...
    2026-05-15
  • 一种适用于RDL工艺的剥膜液
    一种适用于RDL工艺的剥膜液_湖北兴福电子材料股份有限公司_202511840165.4
    本发明提供了一种适用于RDL工艺的剥膜液，该剥膜液由醇类、扩溶剂、金属腐蚀抑制剂、解离剂和有机溶剂组成。醇类为2‑正丙基‑1, 3‑丙二醇、3‑甲氧基‑1, 2‑丙二醇、2, 2‑二异丁基‑1, 3‑丙二醇中的一种或几种。扩溶剂为苄基甲基醚...
    2026-05-15
  • 一种适用于凸点工艺的剥膜液
    一种适用于凸点工艺的剥膜液_湖北兴福电子材料股份有限公司_202511611041.9
    本发明提供了一种适用于凸点工艺的剥膜液，该剥膜液由增溶剂、醇类、金属腐蚀抑制剂、解胶剂和有机溶剂组成。其中增溶剂为单乙醇胺、三乙醇胺、N, N‑二乙基乙醇胺、N‑乙基二乙醇胺、氨水和四甲基氢氧化铵中的组合。金属腐蚀抑制剂为唑类和多酚类物质中...
    2026-05-15
  • 一种线路板用显影设备及工艺
    一种线路板用显影设备及工艺_深圳市英诺泰克科技有限公司_202610128631.4
    本发明属于线路板加工技术领域，具体的说是一种线路板用显影设备及工艺，包括机架、传送单元、分区显影单元、超声辅助单元、在线检测单元、显影液循环回收单元、控温控压单元和中央控制系统；所述传送单元、分区显影单元、超声辅助单元、在线检测单元、显影液...
    2026-05-15
  • 具有散热系统的灯室以及光刻设备
    具有散热系统的灯室以及光刻设备_智慧星空(上海)工程技术有限公司_202610156595.2
    本申请公开了一种具有散热系统的灯室以及光刻设备，属于半导体设备技术领域。在本申请中，具有散热系统的灯室包括：光源单元、反射单元、遮光单元、散热单元、支承架、外框架以及出光口。散热单元采用整体与局部相结合的分级散热策略，具备：第一散热模块，通...
    2026-05-15
  • 用于全息光刻照明系统的光轴标记方法和装置
    用于全息光刻照明系统的光轴标记方法和装置_光科芯图(北京)科技有限公司_202610135653.3
    本申请提供一种用于全息光刻照明系统的光轴标记方法和装置，包括以下步骤：采用波前检测设备对照明系统进行波前测量，获取标准入射光轴对应的照明系统透射波前像差满足预设阈值；在照明系统的入光口设置光轴标记元件，光轴标记元件具有中心透射区域和外围反射...
    2026-05-15
  • 光刻派工方法、系统以及电子设备
    光刻派工方法、系统以及电子设备_广州增芯科技有限公司_202610114341.4
    本申请提供了一种光刻派工方法、系统以及电子设备，方法包括：获取各晶圆批次的光刻信息，根据晶圆批次的当前状态以及工艺路线，确定晶圆批次的预测状态，根据光刻信息以及预测状态，确定晶圆批次的多个待选执行方案，根据预设的派工策略、光刻信息以及晶圆批...
    2026-05-15
  • 一种基于手动调节的曝光机工作台
    一种基于手动调节的曝光机工作台_苏州中特微电子科技有限公司_202610070382.8
    本发明公开了一种基于手动调节的曝光机工作台，X轴载板具有相对底座沿X轴方向活动的自由度；Y轴载板具有相对X轴载板沿Y轴方向活动的自由度；旋转台具有相对Y轴载板沿C轴方向活动的自由度；调平台设置于旋转台上；X轴载板和底座的二者之间、和/或Y轴...
    2026-05-15
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