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  • 本发明公开了一种全自动镜片开槽倒角机控制系统,包括稳压模块、磨削加工模块、多轴运动控制模块、人机交互模块、微控制器、数据传输模块、清洁模块和数据采集模块;所述控制系统由外部电源适配器供电,用户通过人机交互模块设置参数后,微控制器控制多轴运动...
  • 本发明公开了一种光学镜片用抛光无损检测装置,本发明涉及无损探伤仪器领域。本发明所述的一种光学镜片用抛光无损检测装置,包括底板、固定连接在底板上表面一侧的固定板、开设在底板其中两个侧壁的安装槽、滑动连接在两个安装槽槽壁的第一U形柱和固定连接在...
  • 本发明提供了一种数控磨床合金刀具加工支撑装置,涉及数控磨床加工技术领域,包括支撑机构与打磨机构,支撑机构由回转组件、加压组件及抵消组件构成,回转组件使支撑装置能周向随动,加压组件通过滚轮感知接触压力并转换为液压信号,抵消组件通过具有预设刚度...
  • 本发明公开了用于抛光机的快换治具,包括:插座模块,包括底座、设置在底座中部的限位套、滑动密封设置在限位套外周与底座之间的限位块、布置在限位套与限位块之间的多个定位球及设置在限位块与底座之间的多个弹性件,限位套上设有孔径小于定位球外径的多个定...
  • 本发明提供一种修整盘装卸装置、智能维护系统和方法,修整盘用于在化学机械抛光设备中修整抛光垫,拆卸装置包括基座,剥离组件和抓取组件,以实现修整盘和修整盘基座的无损、自动分离。
  • 本申请提供一种用于晶圆加工的承载头及化学机械抛光设备。承载头包括:承载头主体;设置于承载头主体朝向晶圆的一侧的保持环,保持环将晶圆限定在其中;防滑片机构,其至少部分地设置在保持环中,防滑片机构配置成可轴向伸缩,以在保持环抵靠抛光单元时缩回到...
  • 本发明属于先进结构陶瓷加工领域,尤其是一种用于双面弧形抚平板研磨加工的专用夹具。本发明的研磨加工双面弧形抚平板的专用夹具,包括T型加工台,所述T型加工台上顺次布置有若干个定位单元,每个所述定位单元包括顶紧机构和夹紧机构和多个定位基准块。本发...
  • 本发明公开了一种移动式光纤研磨机用光纤夹持机构,包括:固定架、手动式三维位移台和光纤夹具;其中,所述固定架安装于光纤研磨机的机体上;所述手动式三维位移台安装于固定架的顶部;所述光纤夹具安装于所述手动式三维位移台的滑块顶端,所述光纤夹具用于夹...
  • 本发明根据实施方案公开了一种抛光垫和使用该抛光垫制备半导体器件的方法。该抛光垫包括抛光层,该抛光层具有在预定范围内的抛光选择性,该抛光选择性取决于待抛光物体的热膨胀系数。在抛光过程中控制半导体基板的碟陷,以减少半导体器件的表面缺陷和键合失效...
  • 本发明公开了一种双层发泡多孔抛光垫及其制备方法和应用,本发明涉及一种双层孔结构化学机械抛光垫,抛光垫的抛光层上部为紧密分布的指型孔道,平均内径为0.17mm~0.25mm,指型孔孔壁厚度为15μm~20μm;抛光层下部为海绵孔层,平均内径为...
  • 本发明属于半导体材料激光加工技术领域。提出了一种基于匀化光纤的激光辅助化学机械抛光装置及方法,包括激光发生器、光路设计单元、扫描振镜、精抛光单元及二维运动平台;光路设计单元通过匀化光纤对脉冲激光匀化整形,获得方形平顶光斑,扫描振镜与二维运动...
  • 本发明公开了一种环件内阶柔性对旋研磨站,包括移动负载及其上设置的若干研磨单元。每个研磨单元由柔性升降台、可调压紧台及支撑转台自上而下共轴设置。柔性升降台通过直线模组驱动,并设有包含主动轴、从动轴、抱紧器及弹簧的轴向弹性缓冲结构,实现对工件的...
  • 本发明涉及抛光装置技术领域,公开了一种固定工位式晶圆抛光装置,包括浆料回收组件,浆料回收组件设置在夹具一侧,浆料回收组件用于承接因抛光头推扫及晶圆旋转离心作用而脱离晶圆工作区域的浆料,浆料回收组件一侧设置有喷液组件,喷液组件一侧设置有联动泵...
  • 本发明公开了一种金刚石衬底表面羟基注入及抛光方法,使用MPCVD反应对金刚石衬底表面注入羟基,并公开了金刚石衬底抛光方法,通过调控功率、气压及氢气、氧气、水蒸气流量比,在衬底表面反应形成羟基,随后将表面注入羟基的待抛光金刚石衬底固定在单晶研...
  • 本发明涉及一种基于化学机械协同与多步应力管理的半导体硅片减薄工艺,所属半导体制造技术领域,包括如下操作步骤:第一步:化学机械粗磨阶段,使用固结磨料砂轮和化学活性研磨液对硅片背面进行减薄。第二步:原位应力管理中继层涂覆与固化阶段,在减薄后的硅...
  • 本申请提供了一种研磨晶圆的方法。所述方法包括:提供晶圆,所述晶圆具有背面和与所述背面相对的正面,其中所述晶圆进一步包括用于容纳半导体单元的中心区域和围绕所述中心区域的外围区域;在所述外围区域内形成沟槽,并使所述沟槽大体上沿着所述外围区域的整...
  • 本申请涉及视觉检测与研磨技术领域,公开了钢球表面质量在线视觉检测与研磨闭环反馈系统,包括:表面建模模块,用于重建出钢球缺陷区域的三维点云模型;状态感知模块,用于实时监测研磨头的工作状态,并融合生成研磨头状态向量;动态建模模块,用于构建和校正...
  • 本公开提供了一种用于抛光垫的检测及清洗装置、方法及抛光设备。在一方面中,提供了一种用于抛光垫的检测及清洗装置,其包括:支撑结构,能够相对于抛光垫移动;第一检测装置,设置于支撑结构,并且用于检测抛光垫的表面的硅和碳的含量并输出含量;第一喷嘴,...
  • 本发明公开了一种研磨机技术领域, 旨在提供一种高效研磨、精确度高的研磨机及其控制方法,其技术方案要点是包括机架,所述机架上设有用于容纳待加工镜片的放置槽、设置在放置槽上方且用于吸取和转移镜片的夹持组件、用于对镜片进行检测的检测装置、用于对镜...
  • 本发明属于阀门检修技术领域,具体涉及一种UF6专用容器阀门检修装置,包括:控制系统,用于生成控制指令、发送至PLC控制模块;PLC控制模块,用于接收控制系统的控制指令、生成驱动信号,将驱动信号分别发送至步进电机、伺服电机,驱动步进电机、伺服...
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