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一种光刻机带轮驱动式可动镜组及其光刻机
本发明公开了一种光刻机带轮驱动式可动镜组及其光刻机。一种光刻机带轮驱动式可动镜组,包括镜片、镜座、同步带组件;同步带组件包括主动同步带轮以及从动同步带轮,主动同步带轮以及从动同步带轮之间通过皮带传动连接;主动同步带轮以及从动同步带轮均安装在...
集成电路版图的OPC处理方法与计算机设备
本发明提供了一种集成电路版图的OPC处理方法与计算机设备。其中集成电路版图的OPC处理方法包括:对目标集成电路版图进行分块化解析,得到若干局部区域;针对每个局部区域构建特征;利用预先训练好的学习模型对所有局部区域进行推理判断,其中学习模型建...
检查图案化掩模以及监控其晶片图案行为的装置与方法
一种检查图案化掩模的方法包括将极紫外(EUV)光束辐射到图案化掩模的表面,并将来自图案化掩模的表面的反射的极紫外光束导向图像传感器。该方法还包括基于反射的极紫外光束产生图案化掩模的表面的图像,并基于图案化掩模的表面的图像确定图案化掩模的临界...
基片处理方法和基片处理装置
本发明提供能够使在金属氧化物抗蚀剂形成的图案为所需的图案的基片处理方法和基片处理装置。基片处理方法包括:对形成有抗蚀剂膜的基片进行用于使所述抗蚀剂膜中包含的烃减少的减少处理的步骤,其中,所述抗蚀剂膜由金属氧化物抗蚀剂构成并且在曝光后被显影而...
一种光刻材料涂布装置及方法
本发明公开了一种光刻材料涂布装置及方法,装置包括喷涂机构,所述喷涂机构设有喷射部,所述喷射部的底面设有条形喷口,所述喷口用于将光刻材料喷涂在下方的处理对象表面一定半径的预设区域上。本发明能够使光刻材料更好地均匀分布在处理对象上,提高了光刻材...
光刻结构的制备方法及装置
本申请公开了一种光刻结构的制备方法及装置,包括:在光刻基底上旋涂光刻胶的过程中,针对光刻基底上划分的多个区域中的每个区域,以每个区域对应的加热温度加热每个区域上的光刻胶,得到具有设定厚度分布的光刻胶层,多个区域中至少部分区域的加热温度与其他...
一种用于干法刻蚀的纳米压印光刻胶及其制备方法和应用
本发明涉及半导体技术领域,具体公开了一种用于干法刻蚀的纳米压印光刻胶及其制备方法和应用,包括:胶体基体80%‑99.5%; 含有不饱和双键的有机金属化合物0.5%‑20%;所述含有不饱和双键的有机金属化合物在光固化过程中,其不饱和双键可与所...
一种感光性分隔壁树脂组合物及其制备方法、分隔壁结构物和有机电致发光显示器
本申请提供一种感光性分隔壁树脂组合物及其制备方法、分隔壁结构物和有机电致发光显示器,涉及分隔壁材料领域。感光性分隔壁树脂组合物的原料按质量份计,包括:6‑10份有机硅树脂、10‑30份碱溶性树脂、50‑70份光聚合性化合物、3‑5份引发剂、...
一种丙烯酸树脂正性光刻胶及其制备方法和应用
本发明属于聚合物材料及半导体化学品制造技术领域,具体涉及一种丙烯酸树脂正性光刻胶及其制备方法和应用。所述制备方法如下:将甲基丙烯酸甲酯、苯乙烯、丙烯酸、甲基丙烯酸羟乙酯和丙烯酸正丁酯与引发剂DTBP组成的中间体聚合原料滴加到含有有机溶剂A的...
一种基于玻璃钙钛矿复合材料的荧光图案制备方法
本发明涉及一种基于玻璃钙钛矿复合材料的荧光图案制备方法,属于微纳加工与荧光材料技术领域。该方法旨在解决现有钙钛矿材料在光刻图案化工艺中,因其离子晶体特性易被显影液等极性溶剂溶解、破坏,从而无法兼容标准光刻流程的问题。本发明通过将钙钛矿发光体...
一种感光干膜及其制备方法
本申请属于感光干膜技术领域,提出了一种感光干膜及其制备方法,该制备方法包括以下制备步骤:将长链丙烯酸酯和丙烯酸单体进行聚合反应,再加入酸酐单体,得到柔性丙烯酸酯聚合物;将柔性丙烯酸酯聚合物与含羟基的高活性单体进行反应,再加入含环氧基的低活性...
一种低卤素感光膜及制备方法和制备成的阻焊干膜
本发明公开了一种低卤素感光膜及制备方法和制备成的阻焊干膜,制备原料以重量份计包括:无卤碱溶性树脂30‑50份,活性稀释剂10‑20份,无卤阻燃剂15‑25份,光引发剂1‑5份,无机填料5‑15份。本发明制备的低卤素阻焊干膜,实现低卤素含量的...
一种ArF光刻胶组合物及形成光刻图案的方法
本发明涉及半导体技术领域,尤其涉及一种ArF光刻胶组合物及形成光刻图案的方法,该ArF光刻胶组合物包括:ArF光刻胶树脂、光致产酸剂、淬灭剂、溶剂;所述ArF光刻胶树脂由第一树脂和第二树脂组成,所述第一树脂与第二树脂的重量比为90~95:5...
一种金属基复合光刻胶及其在晶圆图案化金属层制备和晶圆键合中的应用
本发明提供一种金属基复合光刻胶及其在晶圆图案化金属层制备和晶圆键合中的应用,该金属基复合光刻胶包括:负性光刻胶、稀释剂、金属粉末、无机前驱体、分散剂和助剂;金属粉末为具有双峰粒径的金属粉末,所述金属粉末包括大颗粒金属粉末和小颗粒金属粉末,无...
掩膜版图形修正方法、装置、计算机设备和存储介质
本申请提供了掩膜版图形修正方法、装置、计算机设备和存储介质,其中,该方法包括:获取芯片设计版图文件,芯片设计版图文件包括:多个芯片设计图形的信息,对多个芯片设计图形中的圆弧图形进行光学邻近校正,得到圆弧图形对应的掩膜版图形,对圆弧图形对应的...
一种感光胶片复合影像媒介、制备方法及应用
本发明属于影像材料技术领域,特别涉及一种感光胶片复合影像媒介、制备方法及应用。包括如下步骤:S1、对感光胶片曝光处理,得到过曝胶片;S2、对过曝胶片进行反转冲洗,得到可视影像;S3、将可视影像与反射体贴合,形成感光胶片复合影像媒介。本发明提...
水雾投影方法、装置、空调设备及存储介质
本申请涉及一种水雾投影方法、装置、空调设备及存储介质,应用于空调设备,所述方法包括:在制冷运行且形成冷凝水雾的情况下,采集当前形成的冷凝水雾的浓度量化指标;在根据所述浓度量化指标,确定所述冷凝水雾满足预设的投影条件的情况下,根据所述浓度量化...
投影屏幕
本申请公开了一种投影屏幕,属于显示技术领域。投影屏幕,包括:卷筒、幕片和多个支撑条。支撑条中的支撑条本体可以对幕片进行支撑,以在幕片展开时使得幕片的平整性较好。在投影屏幕所处的环境温度降低时,幕片和补偿部的收缩程度均大于支撑条本体的收缩程度...
一种光源装置
本申请的实施例公开了一种光源装置,利用包含有波长转换区和激光消散区的一体式波长转换装置,通过波长转换区实现对激发光的波长转换,通过激光扩散区对窄波段光源产生的补充光的消散,无需单独的扩散轮或者扩散片的平面振动装置,有效改善散斑问题。通过采用...
一种光源装置和投影设备
本申请的实施例公开了一种光源装置,利用包含有波长转换区、激光消散区和单面复眼元件的一体式波长转换装置,通过波长转换区可实现对激发光的波长转换,以及通过激光扩散区对窄波段光源产生的补充光的消散,无需单独的扩散轮或者扩散片的平面振动装置,有效改...
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