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最新专利技术
  • 一种强结合宽温域耐磨的复合涂层及其制备方法与应用
    一种强结合宽温域耐磨的复合涂层及其制备方法与应用_中国科学院宁波材料技术与工程研究所_202510993625.0
    本发明公开了一种强结合宽温域耐磨的复合涂层， 涉及固体润滑材料技术领域， 所述复合涂层包括依次形成于基体表面的过渡层、功能内层、扩散阻挡层和功能外层， 所述过渡层为Mo层和Mo2N层， 所述功能内层为MoAgN层， 所述扩散阻挡层为Mo2N...
    2026-01-14
  • 涂覆基板的方法
    涂覆基板的方法_卡尔蔡司SMT有限责任公司_202510433823.1
    提出了一种用至少一种涂层涂覆基板的方法， 所述涂层包含至少一种涂层材料， 所述涂层材料沉积在基板上或施加在基板上的部分涂层上， 其中电中性颗粒可用于辅助沉积。
    2026-01-14
  • 一种纳米耐磨复合光学镜片真空镀膜设备及其制备方法
    一种纳米耐磨复合光学镜片真空镀膜设备及其制备方法_深圳市鹏亿发精密模具有限公司_202511294045.9
    本发明公开了一种纳米耐磨复合光学镜片真空镀膜设备及其制备方法， 涉及镜片镀膜设备领域， 包括镀膜机， 所述镀膜机的顶面中部转动连接有轴杆， 所述轴杆底部固定有镀锅， 所述轴杆中部外侧和镀膜机中部内侧设置有转动驱动组件， 所述镀锅下方设置有使...
    2026-01-14
  • 塑料透镜的制造方法
    塑料透镜的制造方法_旭化成株式会社_202510408764.2
    本发明的目的在于提供光学功能层的密合性和生产率优异且耐久性进一步提高的塑料透镜的制造方法。本发明提供一种塑料透镜的制造方法， 其是包括在树脂制的透镜主体的至少一个面上依次形成底涂层和光学功能层的形成工序的塑料透镜的制造方法， 其特征在于， ...
    2026-01-14
  • 塑料透镜的制造方法
    塑料透镜的制造方法_旭化成株式会社_202510408718.2
    本发明的目的在于提供光学功能层的密合性和生产率优异且耐久性进一步提高的塑料透镜的制造方法。本发明提供一种塑料透镜的制造方法， 其是包括在树脂制的透镜主体的至少一个面上依次形成底涂层和光学功能层的形成工序的塑料透镜的制造方法， 其特征在于， ...
    2026-01-14
  • 一种EB-PVD制备不同饱和蒸汽压材料的方法及制备的涂层
    一种EB-PVD制备不同饱和蒸汽压材料的方法及制备的涂层_北京航空航天大学_202510841661.5
    本发明属于航空发动机和燃气轮机涡轮叶片热障涂层技术领域。具体涉及一种EB‑PVD制备不同饱和蒸汽压材料的方法及制备的涂层， 包括针对材料中的不同饱和蒸汽压组分， 根据其质量比或原子比， 转化为面积比， 采用多段式球磨制粉， 控制球磨工艺参数...
    2026-01-14
  • 一种医疗植入用锌基复合材料及其制备方法与应用
    一种医疗植入用锌基复合材料及其制备方法与应用_南京信息工程大学_202510928782.3
    本发明公开了一种医疗植入用锌基复合材料及其制备方法与应用， 该复合材料以锌基体为核心， 内部嵌入柱状铁增强体， 外部覆盖钽梯度过渡层。制备过程中， 铁增强体与锌基体通过阴极电阻加热实现界面扩散结合， 同时外部筒状Ta靶材溅射形成致密Ta涂层...
    2026-01-14
  • 一种用于钙钛矿太阳能电池低损伤膜层的溅射装置及设备
    一种用于钙钛矿太阳能电池低损伤膜层的溅射装置及设备_杭州鼎能光电科技有限公司_202511285652.9
    本发明涉及一种用于钙钛矿太阳能电池低损伤膜层的溅射装置及设备。溅射装置位于溅射设备中， 基片位于溅射设备中进行直线式运动， 当经过溅射装置时， 可对基片进行溅射镀膜；溅射装置包括靶座， 靶座内部设有两个溅射阴极， 两个溅射阴极相对称设置；两...
    2026-01-14
  • 工艺腔室及半导体工艺设备
    工艺腔室及半导体工艺设备_北京北方华创微电子装备有限公司_202410404723.1
    本发明提供一种工艺腔室及半导体工艺设备。工艺腔室包括围绕基座设置的内衬组件， 内衬组件包括第一弧形内衬、第二弧形内衬和环形内衬；第一弧形内衬在其周向上的开口与第二弧形内衬在其周向上的开口在第一方向上相对设置， 第一弧形内衬的外周面与第二弧形...
    2026-01-14
  • 沉积装置
    沉积装置_三星显示有限公司_202510296411.8
    本发明涉及一种沉积装置， 沉积装置包括：腔室， 提供进行沉积工艺的内部空间；以及至少一个磁体单元， 位于所述腔室的下部， 并且所述至少一个磁体单元中的每一个具有第一磁体部件以及位于所述第一磁体部件的外廓并与所述第一磁体部件相隔的第二磁体部件...
    2026-01-14
  • 镀膜方法及镀膜系统
    镀膜方法及镀膜系统_天津中科晶禾电子科技有限责任公司_202510965016.4
    本发明涉及半导体材料加工技术领域， 公开一种镀膜方法及镀膜系统， 腔室内布置呈相对姿态的受体材料与靶材， 并制备真空环境；溅射源向靶材发射离子束轰击产生溅射原子， 受体材料接收溅射原子以沉积膜层；超原子束源向受体材料照射超原子束， 利用超原...
    2026-01-14
  • 一种高发射率热控涂层的制造方法
    一种高发射率热控涂层的制造方法_星辉航天科技(无锡)有限公司_202510992908.3
    本发明公开了一种高发射率热控涂层的制造方法， 包括下列方法步骤：S1、对金属基材进行处理， 采用双极性脉冲电源， 正向电压350V， 负向电压150V， 占空比30％电解液温度维持在20±2℃， 通过外循环冷却系统控制处理后形成α‑Al2O...
    2026-01-14
  • 一种低温等离子体强化电容器金属膜工艺
    一种低温等离子体强化电容器金属膜工艺_南通江森电子科技有限公司_202511040558.7
    本发明涉及电容器金属膜的技术领域， 公开了一种低温等离子体强化电容器金属膜工艺， 包括等离子体清洗、表面活化、等离子体增强蒸发、‌低温磁控溅射、‌脉冲离子束轰击、‌原位掺杂导电网络、介质阻挡放电退火和冷却与钝化；通过以上加工工艺可以电容器金...
    2026-01-14
  • 抗冲蚀耐高温氧化涂层、制备方法及应用
    抗冲蚀耐高温氧化涂层、制备方法及应用_西安文理学院_202511042440.8
    本发明公开了抗冲蚀耐高温氧化涂层、制备方法及应用， 该涂层包括两个主体层， 第一主体层为利用磁控溅射技术沉积形状SMA过渡层；第二主体层中包括利用磁控溅射离子镀技术沉积HEA合金层， 电弧离子镀技术沉积HEACxN1‑x层， HEA、HEA...
    2026-01-14
  • 减反射膜磁控溅射制备方法及减反射膜
    减反射膜磁控溅射制备方法及减反射膜_河南镀邦光电股份有限公司_202511259514.3
    本申请涉及减反射膜及其磁控溅射制备方法。方法包括用离子源清扫基材表面， 增强膜层与基材结合力， 交替沉积高折射率材料层和低折射率材料层， 控制各参数使厚度在特定范围， 构建仓室之间的真空梯度， 优化高折射率材料优化高折材料的折射率和致纯度，...
    2026-01-14
  • 提高锆铌合金氧化层厚度及抗菌性能的材料表面改性方法
    提高锆铌合金氧化层厚度及抗菌性能的材料表面改性方法_西南交通大学_202510944656.7
    本发明公开了一种提高锆铌合金氧化层厚度及抗菌性能的材料表面改性方法， 具体为：对锆铌合金样品进行打磨抛光等预处理， 得到预处理后的锆铌合金；利用离子注入机将金属元素离子注入到锆铌合金表面， 注入完成后， 取出得到离子注入后的锆铌合金；采用箱...
    2026-01-14
  • 溅镀治具及溅镀方法
    溅镀治具及溅镀方法_环旭电子股份有限公司_202511016609.2
    本揭示提供一种溅镀治具及溅镀方法。溅镀治具用以支撑多个半导体元件， 半导体元件包含底面及导电凸部， 导电凸部凸出于底面， 溅镀治具包含支撑框架、光解胶层以及支撑胶层。支撑框架包含四边条围绕中空区域。光解胶层粘贴于四边条以覆盖中空区域。支撑胶...
    2026-01-14
  • 一种工艺腔室内壁保护膜的沉积时间确定方法和相关设备
    一种工艺腔室内壁保护膜的沉积时间确定方法和相关设备_北京北方华创微电子装备有限公司_202410404823.4
    本发明公开了一种保护膜的厚度确定方法和半导体工艺设备， 包括：对工艺腔室的内壁进行清洁， 并在工艺腔室的内壁上沉积初始厚度的保护膜， 在工艺腔室内进行预设的半导体工艺， 并在半导体工艺结束之后， 去除工艺腔室内壁上剩余厚度的保护膜， 获得第...
    2026-01-14
  • 基于模糊推理的热蒸发式薄膜沉积串级控制方法及系统
    基于模糊推理的热蒸发式薄膜沉积串级控制方法及系统_盐城工学院_202510822592.3
    本发明提供了基于模糊推理的热蒸发式薄膜沉积串级控制方法及系统， 包括：根据本次薄膜沉积任务生成若干条模型参数构建非线性耦合模型， 利用温度环对基板的当前温度进行模糊PID控制， 推理并调整基板的PID参数， 利用功率环对沉积实际数据进行MP...
    2026-01-14
  • 一种真空镀膜的膜厚控制方法及真空镀膜设备
    一种真空镀膜的膜厚控制方法及真空镀膜设备_西安交通大学_202510988798.3
    本发明涉及真空离子镀膜技术领域， 公开了一种真空镀膜的膜厚控制方法及真空镀膜设备， 所述真空镀膜的膜厚控制方法包括测量待镀膜工件镀膜区域周围的若干个辅助区域的实时电流；对实时电流进行时间积分与线性回归分析获得平均电流值；根据平均电流值建立待...
    2026-01-14
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