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最新专利技术
  • 警报管理装置、警报管理方法以及警报管理程序
    警报管理装置、警报管理方法以及警报管理程序_横河电机株式会社_202480018883.0
    一种警报管理装置(10)，其存储针对被监控设备的警报能够实施的每个措施的操作步骤；发送被监控设备的警报；接收由应对操作者(O)选择的针对警报的措施；获取与由应对操作者(O)选择的措施相关联的操作步骤，并将操作步骤输出到应对操作者(O)。
    2025-11-21
  • 监视控制装置以及监视控制系统
    监视控制装置以及监视控制系统_三菱电机株式会社_202380096506.4
    提供一种能够提高监视对象的保养的精度的监视控制装置，具备：关联定义部，定义多个监视项目中的监视项目之间的关联；关联模型管理DB，将存在关联的多个监视项目作为关联模型，管理多个关联模型；监视数据管理DB，管理多个监视项目的监视数据；因果关系计...
    2025-11-21
  • 复合系统通信
    复合系统通信_诺信公司_202480025506.X
    公开了用于改进的生产线控制系统通信的系统和方法。生产线控制系统包括多个部件诸如主部件和客户端部件。主部件和客户端部件中的至少一个被构造成实现或执行复合控制器，复合控制器被构造成：与所述多个部件中的每一个操作性通信；从所述多个部件中的每一个接...
    2025-11-21
  • 规划传送装置的方法
    规划传送装置的方法_英特诺控股公司_202480022814.7
    一种规划传送装置(1)的方法，该传送装置(1)适配为将物体(9)从至少一个第一位置(F)传送至至少一个第二位置(D)；特别是在操作的预期使用期间，操作者与位于传送装置(1)内的物体(9)交互；该方法包括以下步骤：提供IT规划工具(8)供规划...
    2025-11-21
  • 数控机床的状态监控方法及装置
    数控机床的状态监控方法及装置_西门子股份公司_202380097086.1
    本发明提出了一种数控机床的状态监控方法，所述方法包括：获取所述数控机床的状态监控信号；从所述状态监控信号中提取循环平稳成分，对所述循环平稳成分进行特征提取，将提取特征的所述循环平稳成分转换成哈希码；比较所述状态监控信号中两组所述循环平稳成分...
    2025-11-21
  • 控制装置以及程序
    控制装置以及程序_欧姆龙株式会社_202480019628.8
    控制装置具备：处理部，其以预定的执行周期循环执行控制运算，控制运算包含收集来自现场装置的输入数据、算出基于依照预定的用户程序的输入数据的输出数据、以及输出所算出的输出数据；数据库，其按照时间序列存储处理部管理的数据中的被指定的数据；以及数据...
    2025-11-21
  • 协作系统、协作方法、协作程序及协作辅助程序
    协作系统、协作方法、协作程序及协作辅助程序_日机装株式会社_202380095840.8
    本发明使能够在由PLC控制动作的制造装置中实现的功能的选择自由度得到提升。本发明的协作系统(1)具有：受控设备(4)；PLC(3)，其控制受控设备的第1动作；以及信息处理装置(6)，其与PLC联动。PLC具备：PLC控制部(33)；以及PL...
    2025-11-21
  • 数据处理装置、数据处理方法和数据处理程序
    数据处理装置、数据处理方法和数据处理程序_三菱电机株式会社_202380095764.0
    控制步骤数据取得部(101)取得控制步骤数据(200)，该控制步骤数据使用被排序的多个条件和多个控制变量来描述控制步骤，该多个控制变量与作为任意条件的对应条件相对应，根据对应条件的成立与否被代入值。程序管理部(102)选择各条件，针对每个选...
    2025-11-21
  • 工业过程的组合的严格和基于数据的建模
    工业过程的组合的严格和基于数据的建模_西门子股份公司_202380097322.X
    提出一种用于对工业过程(1)的输出变量进行运行期间的建模的方法，工业过程能够被用在工艺设施中，所述方法包括：a)执行工业过程(1)；b)利用合适的获取工具获取源于工业过程(1)的过程值(y)；c)利用计算机实现的严格建模(2)处理获取到的过...
    2025-11-21
  • 批量添加设备的方法及相关设备
    批量添加设备的方法及相关设备_荣耀终端股份有限公司_202380096612.2
    一种批量添加设备的方法及设备，批量添加设备的方法包括：接收用户的第一操作(S131)；响应于用户的第一操作，启动智能设备管理应用，及显示第一界面，第一界面包括用于批量添加设备的多个控件(253)(S132)；接收用户针对第一界面中的控件(2...
    2025-11-21
  • 频率特性测定方法以及频率特性测定装置
    频率特性测定方法以及频率特性测定装置_松下知识产权经营株式会社_202480019748.8
    频率测定方法具有：第1输出步骤，将第1频率范围的第1激振信号输出到伺服系统(20)；第1频率特性计算步骤，基于从被输入第1激振信号的伺服系统(20)以第1采样周期获取的第1辨识用输入信号和第1辨识用输出信号，计算第1频率范围内的伺服系统(2...
    2025-11-21
  • 光扫描装置以及图像形成设备
    光扫描装置以及图像形成设备_株式会社理光_202380095615.4
    光扫描装置(4)包括 : 树脂部件(31)，通过注射成型形成; 以及电子部件(121)和光学部件(50, 55)，设置成在所述树脂部件(31)中保持规定的位置和姿势。在光扫描装置(4)中，用于光写入扫描系统的所述电子部件(121)和所述光学...
    2025-11-21
  • 介质处理装置及图像形成系统
    介质处理装置及图像形成系统_株式会社理光_202480018307.6
    一种介质处理装置包括液体赋予器、后处理装置、第一液体贮存部、第二液体贮存部、液体供给器、控制模式保持器、以及控制器。液体赋予器将液体赋予到至少一介质的一部分。后处理装置对包含由所述液体赋予器赋予了所述液体的所述至少一介质的介质束进行处理。第...
    2025-11-21
  • 确定施加到基板的应力源的方法
    确定施加到基板的应力源的方法_ASML荷兰有限公司_202480017282.8
    公开了一种确定基板上应力源的存在的方法。该方法包括：获取描述基板上的结构在基板平面中的位置信息的基板位置数据；获取描述基板的形状的基板形状数据；根据基板位置数据确定第一翘曲值，第一翘曲值描述基板的翘曲；根据基板形状数据确定第二翘曲值，第二翘...
    2025-11-21
  • 套刻测量装置的优化方法及执行其的套刻测量装置
    套刻测量装置的优化方法及执行其的套刻测量装置_奥路丝科技有限公司_202480026064.0
    本发明涉及一种套刻测量装置的优化方法。更详细地，涉及一种通过调节设置在套刻测量装置的光路上的多个光阑的位置及形态来优化套刻测量装置的方法。本发明提供一种套刻测量装置的优化方法，通过调节配置在套刻测量装置的光路上的多个光阑的位置及开口形态中的...
    2025-11-21
  • 用于在光刻中使用的静电夹具
    用于在光刻中使用的静电夹具_ASML荷兰有限公司_202480025041.8
    一种具有静电夹具系统的光刻设备，包括：多个电极，所述多个电极被配置成对部件施加静电夹持力；电源，所述电源连接至所述多个电极；以及控制器，所述控制器被配置成控制被施加至所述多个电极的电位以与所述光刻设备中的辐射脉冲的生成同步地在第一模式与第二...
    2025-11-21
  • 光源单元、照明单元、曝光装置、以及曝光方法
    光源单元、照明单元、曝光装置、以及曝光方法_株式会社尼康_202480023500.9
    光源单元包括：散热器、以及在所述散热器的第一面上二维排列的多个光源元件，在所述散热器的所述第一面形成有多个突出部，所述多个突出部从所述第一面突出并在俯视时分别与所述多个光源元件中的至少1个重合。
    2025-11-21
  • 用于将物场成像至像场的成像EUV光学单元
    用于将物场成像至像场的成像EUV光学单元_卡尔蔡司SMT有限责任公司_202480021937.9
    一种用于将物场(5)成像至像场(11)的成像EUV光学单元(10)。成像光学单元(10)具有多个反射镜(M1到M6)，用于沿成像束路径引导EUV成像光(16)。多个反射镜包含至少两个NI反射镜(M1、M2、M5、M6)及至少一个GI反射镜(...
    2025-11-21
  • 滤光片单元、照明单元、曝光装置及曝光方法
    滤光片单元、照明单元、曝光装置及曝光方法_株式会社尼康_202480021171.4
    滤光片单元包含配置在对被照射面进行照明的照明光学系统的光轴上的多个滤光片，所述多个滤光片包含具有第1透射率分布的第1滤光片和具有第2透射率分布的第2滤光片，所述第1透射率分布在与所述照明光学系统的光轴正交的平面内的正交坐标系的第1方向上，按...
    2025-11-21
  • 驱动方法、光源单元、照明单元、曝光装置、以及曝光方法
    驱动方法、光源单元、照明单元、曝光装置、以及曝光方法_株式会社尼康_202380096703.6
    光源元件的驱动方法为若在光源元件的温度在第一温度范围内时供给第一电流值的电流则以第一发光量发光的所述光源元件的驱动方法，包括：在使所述光源元件成为以所述第一发光量发光的状态时，开始以比所述第一电流值低的第二电流值进行向所述光源元件的电流供给...
    2025-11-21
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