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最新专利技术
  • 一种垃圾焚烧发电脱酸工艺的优化控制方法
    一种垃圾焚烧发电脱酸工艺的优化控制方法_华能国际电力江苏能源开发有限公司南京电厂_202511170508.0
    本发明公开了一种垃圾焚烧发电脱酸工艺的优化控制方法及系统，涉及智能控制技术领域，包括，通过布置多路传感器采集脱酸塔的多源工况信息；对所述多源工况数据进行预处理并融合，得到工况特征向量和工况约束条件；基于所述工况特征向量，利用智能预测模型对酸...
    2025-12-01
  • 一种低电平控制系统的低功率下实验验证装置和方法
    一种低电平控制系统的低功率下实验验证装置和方法_中国原子能科学研究院_202511165365.4
    本发明公开了一种低电平控制系统的低功率下实验验证装置和方法，该装置包括：主振荡器、低电平控制系统、功放1、高频谐振腔、功放2、高频电缆、示波器；高频谐振腔用于在大气环境下进行实验验证，通过取样器、自身的衰减、内杆，代大气环境下进行桌面实验验...
    2025-12-01
  • 一种全驱动船舶动力定位控制方法
    一种全驱动船舶动力定位控制方法_浙江大学_202511131049.5
    本发明公开了一种全驱动船舶动力定位控制方法，包括：(1)建立全驱动船舶的三自由度数学模型；(2)基于三自由度数学模型，建立船舶观测器动力学模型，融合位置、速度、加速度传感器数据，输出包括位置、速度、加速度及低频载荷成分的观测值；(3)基于状...
    2025-12-01
  • 电子照相清洁刮板、处理盒、电子照相图像形成设备和氨基甲酸酯成形体
    电子照相清洁刮板、处理盒、电子照相图像形成设备和氨基甲酸酯成形体_佳能株式会社_202510650602.X
    本发明涉及电子照相清洁刮板、处理盒、电子照相图像形成设备和氨基甲酸酯成形体。一种电子照相清洁刮板，其包括包含聚氨酯的弹性构件和支承弹性构件的支承构件，其中，弹性构件的在1×10‑3Hz的振动频率时的贮存弹性模量为12.0至18.0MPa，在...
    2025-12-01
  • 电子照相导电性辊、处理盒、和电子照相图像形成设备
    电子照相导电性辊、处理盒、和电子照相图像形成设备_佳能株式会社_202510655286.5
    本发明涉及电子照相导电性辊、处理盒、和电子照相图像形成设备。一种电子照相导电性辊，其按顺序包含导电性基体、离子导电性弹性层、和表面层，所述表面层包含树脂和炭黑，并且所述表面层中的所述炭黑具有60.0nm以下的圆当量直径的算术平均值Rc和0....
    2025-12-01
  • 一种打印机碳粉更换装置及其控制方法
    一种打印机碳粉更换装置及其控制方法_联想图像(山东)科技有限公司_202410635858.9
    本发明提供了一种打印机碳粉更换装置及其控制方法，涉及打印机技术领域，解决了现有技术中存在的人工更换碳粉易导致碳粉误吸入或碳粉排出到外界环境，导致影响人体健康以及污染环境的技术问题。该打印机碳粉更换装置及其控制方法包括清洁机构，清洁机构包括吹...
    2025-12-01
  • 标记检测装置、光刻装置以及物品制造方法
    标记检测装置、光刻装置以及物品制造方法_佳能株式会社_202510645488.1
    本发明涉及标记检测装置、光刻装置以及物品制造方法。一种标记检测装置，检测设置于基板的对准标记的位置，其中，该标记检测装置具备：基板载置台，保持并移动所述基板；摄像部，包括用于对所述对准标记进行照明的光源和摄像所述对准标记的图像传感器；以及摄...
    2025-12-01
  • 版叉结构、掩模版传输装置及半导体设备
    版叉结构、掩模版传输装置及半导体设备_深圳市新凯来工业机器有限公司_202511509024.4
    本申请实施例提供一种版叉结构、掩模版传输装置及半导体设备，该版叉结构包括：版叉主体以及多个夹爪；版叉主体包括多个横梁，多个夹爪设置于多个横梁上；多个夹爪用于共同取放和承载掩模版容器；版叉主体内设置有移位驱动器，每个横梁内设置有定位导轨和多组...
    2025-12-01
  • 一种非邻接的光楔调焦机构和曝光机
    一种非邻接的光楔调焦机构和曝光机_苏州天准科技股份有限公司_202511356522.X
    本发明提供了一种非邻接的光楔调焦机构和曝光机，属于光学调焦领域，光楔调焦机构包上滑动安装板、光楔底板、上光楔组件、下光楔组件、滑移导向组件和光楔驱动组件；上光楔组件和下光楔组件构成相邻楔面间隔滑动的双楔形棱镜单元，光楔驱动组件驱动上光楔组件...
    2025-12-01
  • 在线监控曝光机杂散光的光罩、方法及系统
    在线监控曝光机杂散光的光罩、方法及系统_华虹半导体(无锡)有限公司_202511351975.3
    本发明公开了一种在线监控曝光机杂散光的光罩、方法及系统，属于半导体制造技术领域。该方法包括：提供设置有关键尺寸测试图形和多个不同尺寸遮光图形的光罩；在晶圆上对关键尺寸测试图形进行第一次曝光以形成第一潜像；对光罩与晶圆相对移位后，使用遮光图形...
    2025-12-01
  • 提升套刻量测稳定性的方法
    提升套刻量测稳定性的方法_华虹半导体(无锡)有限公司_202511350164.1
    本发明公开了一种提升套刻量测稳定性的方法，用于解决因化学机械抛光等工艺导致套刻标记形貌不一致而引起的量测不准问题。该方法包括：提供设置有套刻标记的待测晶圆；对套刻标记的量测任务进行划分，得到至少两个量测子任务，并为所述量测子任务分别配置不同...
    2025-12-01
  • 一种感光带、感光碳带及其应用
    一种感光带、感光碳带及其应用_曲阜市瀚博电子科技有限公司_202511182608.5
    本发明属于热打印技术领域，具体涉及一种感光带、感光碳带及其应用。本发明通过添加感光树脂，经曝光后能够和光敏剂发生反应，形成交联体系，使转印后的感光层具有良好的稳定性和耐溶剂性，最大程度保证了在溶剂型油墨体系内丝网制版的使用寿命；通过将交联体...
    2025-12-01
  • 负性感光性树脂组合物、固化膜及半导体装置
    负性感光性树脂组合物、固化膜及半导体装置_深圳先进电子材料国际创新研究院_202510917187.X
    本申请涉及一种负性感光性树脂组合物、固化膜及半导体装置，以改善光敏性聚酰亚胺低温固化时亚胺化程度不足的技术问题。该负性感光性树脂组合物包括：包含聚酰胺酸脂的前体树脂、含硫脲键的光交联剂、光引发剂和溶剂。光交联剂与包含聚酰胺酸酯的前体树脂组成...
    2025-12-01
  • 一种BCB光刻胶及其制备方法
    一种BCB光刻胶及其制备方法_北京光引聚合科技有限公司_202511231402.7
    本发明公开了一种BCB光刻胶及其制备方法，属于光刻胶技术领域。包括以下重量份的原料：60‑70份改性BCB树脂、20‑30份溶剂、1‑3份蒽醌‑2‑磺酸钠、5‑9份三烯丙基异氰脲酸酯。其中，改性BCB树脂的原料包括4‑乙烯基苯并环丁烯、对二...
    2025-12-01
  • 一种锥角可调的光敏聚酰亚胺组合物及其应用
    一种锥角可调的光敏聚酰亚胺组合物及其应用_万华化学集团股份有限公司_202511155163.1
    本发明属于光敏材料制备技术领域，具体涉及一种锥角可调的光敏聚酰亚胺组合物及其应用。包括第一重氮萘醌磺酸酯、第二重氮萘醌磺酸酯、聚酰胺酸树脂；所述第一重氮萘醌磺酸酯具有硅氧烷基团。本发明第一重氮萘醌磺酸酯具有硅氧烷基团，该基团易与玻璃基板上的...
    2025-12-01
  • 光学部件的制备方法及其设备、摄像模组和电子设备
    光学部件的制备方法及其设备、摄像模组和电子设备_维沃移动通信有限公司_202511469740.4
    本申请公开了一种光学部件的制备方法及其设备、摄像模组和电子设备，属于光学镜片技术领域。光学部件的制备方法，光学部件用于摄像模组，制备方法包括：在光学部件的基材的表面涂布感光乳剂，感光乳剂包括卤化银颗粒；控制可编程光源发射光线，以对感光乳剂进...
    2025-12-01
  • 一种基于法向力控制的大范围纳米结构表面压印方法
    一种基于法向力控制的大范围纳米结构表面压印方法_哈尔滨工业大学_202511186133.7
    一种基于法向力控制的大范围纳米结构表面压印方法，属于纳米结构表面加工技术领域。方法如下：进行结构化压头表面与工件表面的调平；进行法向力控制压印；进行原位检测，评估本次压印加工的质量；若评估质量误差超值，则重复上述步骤直至误差在规定的范围内后...
    2025-12-01
  • 压印模具、压印模具的制作方法及波导结构
    压印模具、压印模具的制作方法及波导结构_上海鲲游科技有限公司_202410644077.6
    本发明提供了一种压印模具，包括：第一基底，所述第一基底上包括若干翻模区以及若干狭缝区，所述狭缝区位于相邻所述翻模区之间；位于各所述翻模区的图案化胶层；位于所述狭缝区的预固化胶层；其中，所述预固化胶层的固化时间早于所述图案化胶层的固化时间。解...
    2025-12-01
  • 基片检查装置、基片检查系统和基片检查方法
    基片检查装置、基片检查系统和基片检查方法_东京毅力科创株式会社_202511182224.3
    本发明提供一种对基片进行检查的基片检查装置，包括：取得部，其基于图像估计模型和经基片处理装置处理前的检查对象基片的拍摄图像，取得经所述基片处理装置处理后的所述检查对象基片的估计图像，其中，所述图像估计模型是使用多个基片各自的经所述基片处理装...
    2025-12-01
  • 光学物镜下掩模版清晰成像方法
    光学物镜下掩模版清晰成像方法_中科卓芯半导体科技(苏州)有限公司_202511202579.4
    本发明公开了光学物镜下掩模版清晰成像方法，涉及光学检测与图像处理技术领域，包括以下步骤：S1，基于光学物镜视场边界条件，结合金属边缘材料的反射特性与入射角度变化规律，构建光强分布模型，确定金属边缘反射串扰的覆盖范围，并生成掩模边界干扰预测图...
    2025-12-01
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