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电动式打入工具
本发明提供一种电动式打入工具。打入工具(1)具有打入器(15),该打入器用于打入打入件(N)。打入工具(1)具有打入器引导件(4),该打入器引导件以可移动的方式引导打入器(15)。打入工具(1)具有接触臂(3),该接触臂以可沿与打入方向相反...
半导体装置及半导体装置的制造方法
本发明的目的在于,提供一种半导体装置及半导体装置的制造方法,该半导体装置能够抑制由镀层、树脂层及焊料层这三层构成的三相点产生在电极层上的情况,能够防止电极层产生龟裂。该半导体装置是被密封树脂密封的半导体装置,具有:半导体基板;设置在半导体基...
新型启动子及其用途
本申请涉及一种新型启动子,以及使用该启动子生产目标产物的方法,并且根据一个具体实施方案的多核苷酸具有启动子活性,并被导入微生物中,从而可以提高与其可操作地连接的基因的表达和活性,并可有效地用于生产受多核苷酸和基因影响的目标产物。
一种兼具聚集诱导发光、热致和光致变色性质的发光材料及其制备方法和应用
本发明提供了一种兼具聚集诱导发光、热致和光致变色性质的发光材料及其制备方法和应用,属于光响应材料技术领域。本发明提供的发光材料在纯DMSO溶剂中几乎无任何光致发光现象,但一旦处于聚集状态,便会发射出强烈的青绿色光,聚集诱导发光效应极为明显;...
PID控制系统整定方法及装置
本发明涉及空调领域,提供一种PID控制系统整定方法及装置,方法包括:获取整定需求数据;对整定需求数据进行词向量提取,得到词向量键值对;将词向量键值对与词向量库中的各词向量进行相似度匹配,并基于相似度匹配结果,确定PID整定参数;其中,词向量...
节能控制方法及装置
本发明空调领域,提供一种节能控制方法及装置,方法包括:获取目标时刻的设备运行数据和外机目标吸气压力,其中外机目标吸气压力用于表征在先于目标时刻的上一目标时刻对应的最优外机目标吸气压力;根据设备运行数据和外机目标吸气压力,利用功率预测模型和预...
一种计算设备及调优方法
本申请提供一种计算设备及调优方法,该计算设备的温度检测组件用于在中央处理器超频的情况下,监控中央处理器的工作温度,并且在过温的情况下向电源单元发送第一控制信号;电源单元还用于在接收到第一控制信号的情况下,向中央处理器发送降频信号,降频信号用...
一种非均质锻件扭转应力的预测方法
本发明属于非均质材料性能测试,具体涉及一种非均质锻件扭转应力的预测方法。本发明提供的非均质锻件扭转应力的预测方法,包括以下步骤:将非均质锻件的半径、非均质锻件芯部性能均匀区域的半径及扭转应力梯度变化斜率代入公式A,得到所述非均质锻件的扭转应...
一种非均质锻件弯曲应力的预测方法
本发明属于非均质材料性能检测技术领域,具体涉及一种非均质锻件弯曲应力的预测方法。本发明提出的非均质锻件弯曲应力的预测方法,包括以下步骤:将非均质锻件的厚度、芯部性能均匀区域厚度、非均质锻件纯弯曲时芯部性能均匀区域正应力及其梯度系数代入式A,...
一种非均质锻件单向拉伸应力的预测方法
本发明属于材料性能测试技术领域,具体涉及一种非均质锻件单向拉伸应力的预测方法。本发明提供的非均质锻件单向拉伸应力的预测方法,包括以下步骤:将非均质锻件的半径代入式I,得到所述非均质锻件的屈服强度;将非均质锻件的半径代入式II,得到所述非均质...
模型平台化处理方法及装置
本发明涉及计算机技术领域,提供一种模型平台化处理方法及装置,方法包括:获取待加载模型的节点参数,节点参数用于表征待加载模型基本运算单元的参数;对节点参数进行量化,得到量化参数;根据量化参数,结合预设编译模板,生成编译文件并加载至预设硬件平台...
静电吸盘
本发明提供一种静电吸盘,其虽是使电介体基板的外周侧端部发生突出的结构,但还是能够抑制处理中的基板的面内温度分布的偏差。静电吸盘(10)具备:电介体基板(100);吸附电极(130),被设置在电介体基板(100)的内部;及基座板(200),被...
静电吸盘
本发明提供一种静电吸盘,其虽是在电介体基板上设置有凸缘部的结构,但还是能够确保凸缘部的强度。静电吸盘(10)具备:电介体基板(100);及被接合于电介体基板(100)的基座板(200)。电介体基板(100)上设置有其侧面中的基座板(200)...
静电吸盘
本发明提供一种能够使处理中的基板的面内温度分布成为与以往相比更加均等的分布的静电吸盘。静电吸盘(10)具备:电介体基板(100),具有放置面即面(110);及基座板(200),被接合于电介体基板(100),且在内部形成有冷却介质通过的冷却介...
静电吸盘
本发明提供一种能够容易实现基座板的复杂的内部构造的静电吸盘。静电吸盘(10)具备:电介体基板(100);及被接合于电介体基板(100)的基座板(200)。基座板(200)具有:第1部分(201),其为电介体基板(100)侧的部分;及第2部分...
静电吸盘
本发明提供一种能够抑制处理中的基板的面内温度分布的偏差的静电吸盘。静电吸盘(10)具备:电介体基板(100);吸附电极(130),被设置在电介体基板(100)的内部;及RF电极(140),被设置在电介体基板(100)的内部。当俯视观察时,R...
静电吸盘
本发明提供一种静电吸盘,其虽是使电介体基板的外周侧端部发生突出的结构,但还是能够确保在电介体基板的上方侧的等离子体的均匀性。静电吸盘(10)具备:电介体基板(100);RF电极(140),被设置在电介体基板(100)的内部;及基座板(200...
一种电源及电子设备
本申请提供一种电源及电子设备,该电源包括功能器件、滤波模组和电磁屏蔽结构,滤波模组包括相互电连接的差模电容和滤波器件,差模电容靠近电源的输入端口设置,并与输入端口电连接以形成差模回路结构;电磁屏蔽结构设置在所述差模电容靠近所述滤波器件和所述...
应用服务访问方法、装置及电子设备
本发明提供一种应用服务访问方法、装置及电子设备,所述方法包括:预先将本体应用服务与第三方服务进行服务打通处理,以使所述第三方服务作为所述本体应用服务的开放服务;获取用户的服务访问请求,其中,所述服务访问请求为关于访问所述本体应用服务和\或所...
包括栅极线的集成电路器件
一种集成电路器件,包括:鳍型有源区,在衬底上在第一水平方向上延伸;栅极线,在鳍型有源区上在与第一水平方向交叉的第二水平方向上延伸;源/漏区,布置在鳍型有源区上;栅极介电层,设置在栅极线上;源/漏接触部,布置在源/漏区上;过孔接触部,与源/漏...
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