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最新专利技术
  • 一种对准装置和高速宽光谱套刻对准量检测设备
    一种对准装置和高速宽光谱套刻对准量检测设备_苏州天准科技股份有限公司_202511208419.0
    本发明提供了一种对准装置和高速宽光谱套刻对准量检测设备，属于半导体套刻对准量检测技术，装置的对准照明光组的出射光线透射进入耦合光组以提供照明光，耦合光组的光线反射进入对准成像光组以提供目标物的图像信息；设备包括机架、移动载台、测量架、Z轴驱...
    2026-01-29
  • 一种高产能超分辨光纤数字化光刻系统、使用方法及设备
    一种高产能超分辨光纤数字化光刻系统、使用方法及设备_西湖大学光电研究院_202511266088.6
    本申请公开了一种高产能超分辨光纤数字化光刻系统、使用方法及设备，涉及半导体设备及芯片制造领域，该系统中：智能数字化编程与高速扫描控制模块编程光刻图案和调控光刻过程；光源模块同时发射STED超分辨光刻激发和抑制光束；激光调制与合束模块优化激光...
    2026-01-29
  • 基于掩模误差模型优化的光学临近效应修正方法、系统及终端
    基于掩模误差模型优化的光学临近效应修正方法、系统及终端_浙江创芯集成电路有限公司_202511267115.1
    本发明提供一种基于掩模误差模型优化的光学临近效应修正方法、系统及终端，通过获取特定光刻工艺下的大量掩模制造数据，构建涵盖多个工艺条件的数据样本集。基于此样本集，构建物理光学子模型和机器学习子模型，形成掩模误差模型，用于输出最终掩模关键尺寸值...
    2026-01-29
  • 动态可调的辅助遮光模块及其调节方法、介质、程序和终端
    动态可调的辅助遮光模块及其调节方法、介质、程序和终端_浙江创芯集成电路有限公司_202511267727.0
    本申请提供一种动态可调的辅助遮光模块及其调节方法、介质、程序和终端，该遮光模块叠放于所述掩膜版的上方且二者相互贴合，遮光板由第一挡板、第二挡板的内侧边围合成窗内透光、窗外遮光的矩形窗结构，将所述矩形窗结构与掩膜版上的曝光区域对齐后，能够对上...
    2026-01-29
  • 辅助遮光模块及其调节方法、介质、程序和终端
    辅助遮光模块及其调节方法、介质、程序和终端_浙江创芯集成电路有限公司_202511267729.X
    本申请提供一种辅助遮光模块及其调节方法、介质、程序和终端，在光刻机的物镜下方、晶圆上方设置一遮光板，遮光板带有能够透光的矩形窗，令矩形窗的长宽比例和当前曝光区域的长宽比例一致，且矩形窗的对角线交点和当前曝光区域的对角线交点处于同一垂直光轴，...
    2026-01-29
  • 一种立式曝光机以及工件检测方法
    一种立式曝光机以及工件检测方法_广东科视光学技术股份有限公司_202511274927.9
    本发明涉及曝光机技术领域，提供一种立式曝光机以及工件检测方法，其包括：支撑座；曝光机构设于所述支撑座，用于对工件进行曝光；框架部，所述框架部竖立于所述支撑座设置，用于安装工件；工件检测机构用于检测安装于所述框架部上的工件的工件参数。本申请中...
    2026-01-29
  • 一种立式曝光机以及控制方法
    一种立式曝光机以及控制方法_广东科视光学技术股份有限公司_202511274943.8
    本发明涉及曝光机技术领域，提供一种立式曝光机曝光机控制方法，其包括：支撑座；曝光机构，设于所述支撑座，用于对工件进行曝光；框架部，所述框架部竖立于所述支撑座设置，所述框架部包括安装部和牵引组件；所述安装部用于安装工件，所述牵引组件用于对所述...
    2026-01-29
  • 一种光刻机光掩模夹具和JBX光刻机
    一种光刻机光掩模夹具和JBX光刻机_广州新锐光掩模科技有限公司_202511294627.7
    本发明公开了一种光刻机光掩模夹具和JBX光刻机，光刻机光掩模夹具包括夹具主体、两边缘导通针和中部导通针，两边缘导通针间隔设置于夹具主体一水平夹持边缘的两端；两边缘盖板对应覆盖两边缘导通针，边缘盖板包括缩进部，缩进部位于边缘盖板靠近光掩模的横...
    2026-01-29
  • 一种光刻机的高精度温度控制方法及系统
    一种光刻机的高精度温度控制方法及系统_深圳市国仪兴科技有限公司_202511314566.6
    本发明公开了一种光刻机的高精度温度控制方法及系统，属于光刻机温控技术领域，采集掩模版下表面温度阵列、曝光台承载面热流密度分布及气浮层热压差信号，并进行特征编码，构建高维热耦合态势特征矩阵；随后基于该矩阵生成动态热权重关联图谱，将曝光关键节点...
    2026-01-29
  • 一种基于飞秒激光时间复用的线扫描双光子加工系统
    一种基于飞秒激光时间复用的线扫描双光子加工系统_华中科技大学_202511346036.X
    本申请属于微纳加工制造领域，更具体地，涉及一种基于飞秒激光时间复用的线扫描双光子加工系统。其包括沿光路依次设置的飞秒激光光源、扫描器、匀光聚焦装置、色散掩膜装置、中继投影装置和位移台；于匀光聚焦装置和色散掩膜装置之间或者色散掩膜装置和中继投...
    2026-01-29
  • 一种光楔调焦机构、曝光机和智能双平台LDI系统
    一种光楔调焦机构、曝光机和智能双平台LDI系统_苏州天准科技股份有限公司_202511356524.9
    本发明提供了一种光楔调焦机构、曝光机和智能双平台LDI系统，属于激光智能加工领域，光楔调焦机构包括补偿光楔和光楔驱动模块；补偿光楔采用相对间隔滑动的双楔形棱镜；补偿光楔的上光楔和/或下光楔与光楔驱动模块连接，光楔驱动模块基于产品表面起伏数据...
    2026-01-29
  • 光线偏移模块、校准装置及校准方法
    光线偏移模块、校准装置及校准方法_新毅东(北京)科技有限公司_202511404690.1
    本申请涉及光刻设备技术领域，具体涉及一种光线偏移模块、校准装置及校准方法，光线偏移模块包括一体工装、偏移镜以及第一光阑；所述一体工装第一端设有第一安装槽、第二端设有第二安装槽；所述偏移镜嵌设在所述第一安装槽中，所述第一光阑设于第二安装槽中；...
    2026-01-29
  • 一种确定光刻工艺窗口的方法
    一种确定光刻工艺窗口的方法_荣芯半导体(宁波)有限公司_202511406845.5
    一种确定光刻工艺窗口的方法，该方法包括：获取光刻版图和光刻工艺信息，基于所述光刻版图和所述光刻工艺信息建立光学模型；基于所述光学模型对所述光刻版图中预设的标准监测图形进行仿真，以得到最佳曝光参数；基于所述最佳曝光参数和所述光学模型，对所述光...
    2026-01-29
  • 一种负性光刻胶显影液组合物及其制备方法和应用
    一种负性光刻胶显影液组合物及其制备方法和应用_福建泓光半导体材料有限公司_202510972944.3
    本发明属于显影液技术领域，具体涉及一种负性光刻胶显影液组合物及其制备方法和应用。所述负性光刻胶显影液组合物包括表面活性剂、有机溶剂和碱性物质；所述碱性物质为具有式(1)和/或式(2)所示结构的化合物。本发明的关键在于将具有特定结构的碱性物质...
    2026-01-29
  • 调色剂用细粉和调色剂
    调色剂用细粉和调色剂_佳能株式会社_202510547346.1
    本发明涉及调色剂用细粉和调色剂。可以在降低由污染引起的显影性的降低的同时改善清洁性能的调色剂用细粉和调色剂。调色剂用细粉包含硅油。分离的硅油满足，基于硅原子的总个数，具有Q单元结构的硅原子的个数百分比为1％以上且40％以下。具有D单元结构的...
    2026-01-29
  • 感光构件单元、盒和电子照相成像设备
    感光构件单元、盒和电子照相成像设备_佳能株式会社_202510990760.X
    本公开提供了一种感光构件单元，成像设备包括能够同轴旋转的第一主组件侧斜齿轮部分和第二主组件侧斜齿轮部分，感光构件单元包括：能够围绕其旋转轴线旋转的感光构件；第一单元侧斜齿轮部分；以及第二单元侧斜齿轮部分，第二单元侧斜齿轮部分的齿的扭转方向与...
    2026-01-29
  • 转印用带、带单元及图像形成装置
    转印用带、带单元及图像形成装置_富士胶片商业创新有限公司_202510078448.3
    一种转印用带、带单元及图像形成装置，所述转印用带具有表面层、基材层及背面层这三层，所述基材层包含选自由橡胶及弹性体组成的组中的至少一种弹性材料，在25℃、55％RH的环境下的所述表面层的体积电阻率R1、所述基材层的体积电阻率R2及所述背面层...
    2026-01-29
  • 一种打印机硒鼓盒废粉收集装置
    一种打印机硒鼓盒废粉收集装置_珠海今成科技有限公司_202511375882.4
    本发明公开了一种打印机硒鼓盒废粉收集装置，属于打印设备技术领域，包括碳粉仓、废粉仓、感光鼓和刮板组件，废粉仓设置于碳粉仓一侧，废粉仓中设置有柔性刮片和收集板，柔性刮片贴合于感光鼓上，收集板和废粉仓之间设置有储存废粉的储存腔，刮板组件中的L型...
    2026-01-29
  • 一种给手表表冠集成转动刻度圈功能的结构
    一种给手表表冠集成转动刻度圈功能的结构_东莞市艾特精密五金配件有限公司_202510824507.7
    本发明涉及手表技术领域，具体为一种给手表表冠集成转动刻度圈功能的结构，包括表盘环框以及设置在表盘环框中的刻度圈，所述刻度圈单向转动，刻度圈的外部啮合设置有驱动齿轮，通过驱动齿轮的旋转驱动刻度圈转动；所述驱动齿轮上同轴固定设置有传动套体，所述...
    2026-01-29
  • 表体、可穿戴设备、封堵防水模组、电子设备
    表体、可穿戴设备、封堵防水模组、电子设备_华为技术有限公司_202410532708.5
    本申请提供一种表体、可穿戴设备、封堵防水模组、电子设备。涉及佩戴设备技术领域。该表体包括表壳、设置在表壳上的封堵结构和设置在表壳上的防水透气件；表壳上开设有与表体内部连通的孔，封堵结构设置在表壳上且能够沿着孔运动；防水透气件位于封堵结构的朝...
    2026-01-29
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