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最新专利技术
  • 一种具有电磁场屏蔽性能的透明薄膜及其制备方法
    一种具有电磁场屏蔽性能的透明薄膜及其制备方法_合肥爱家防辐射科技有限公司_202511369167.X
    本发明涉及电磁屏蔽层状材料领域，提供了一种电磁场屏蔽的透明薄膜及其制备方法，该薄膜为三层结构，依次包括聚碳酸酯/聚醚酰亚胺共混基底层、含表面改性GO/ITO复合填料的屏蔽功能层及氟化乙烯丙烯共聚物保护层。所述GO/ITO复合填料由负载氧化石...
    2025-11-30
  • 一种复合无功谐振屏蔽线圈结构及其稳健优化方法
    一种复合无功谐振屏蔽线圈结构及其稳健优化方法_长春汽车检测中心有限责任公司_202511387171.9
    本发明适用于电动汽车无线充电技术领域，提供了一种复合无功谐振屏蔽线圈结构及其稳健优化方法。本发明提出的复合无功谐振屏蔽线圈结构由纳米晶、铝板与无功谐振屏蔽线圈组合而成，可削弱电动汽车无线充电(EV‑WPT)系统的泄露电磁场，保证高能量传输效...
    2025-11-30
  • 移动式防护装置及发动机试验系统
    移动式防护装置及发动机试验系统_中国航发湖南动力机械研究所_202511387829.6
    本发明公开了一种移动式防护装置及发动机试验系统，应用于航空发动机整机试验，航空发动机的试验台具有屏蔽室、设置于屏蔽室的用于连通屏蔽室内外的排气引射筒，移动式防护装置包括：第一防护罩，可移动的设置于排气引射筒位置，用于移动至罩设于排气引射筒的...
    2025-11-30
  • 一种基于图形拟合的LED贴片机元件多维定位装置
    一种基于图形拟合的LED贴片机元件多维定位装置_东莞市鼎力自动化科技有限公司_202511006672.8
    本发明涉及自动化贴装技术领域，一种基于图形拟合的LED贴片机元件多维定位装置，包括：利用第一指令帧获取光源启动指令及相机启动指令，基于光源启动指令启动所述光源，并利用启动后的光源，对预确认的LED元件进行照射，得到低光噪声LED元件环境，基...
    2025-11-30
  • 一种用于LED贴片机的位置偏差校正装置
    一种用于LED贴片机的位置偏差校正装置_东莞市鼎力自动化科技有限公司_202511006673.2
    本发明涉及表面贴装技术领域，一种用于LED贴片机的位置偏差校正装置，包括：确认出LED贴片机构，利用高清相机集在所述检测区构建出四方对焦相机阵列，其中，高清相机集包括：四个高清相机，基于四方对焦相机阵列及LED贴片机构确认出校正贴片机构，基...
    2025-11-30
  • 元件补给方法
    元件补给方法_株式会社富士_202510914648.8
    本发明提供一种元件补给方法，被用于具备元件安装机、保管部及移载装置的元件安装系统，用于向保管部补给供料器，元件安装机从作为盒式的带式供料器的供料器拾取元件并进行安装，保管部暂时保管收容有在元件安装机中使用的元件的供料器，移载装置在保管部与元...
    2025-11-30
  • 一种线路板贴片机
    一种线路板贴片机_杭州索骐电子科技有限公司_202511081094.4
    本发明涉及贴片机技术领域，且公开了一种线路板贴片机，包括贴片机本体，贴片机本体内安放有线路板板体，贴片机本体内安装有底座，底座位于线路板板体下方，底座的四角处均转动连接有安装螺栓，安装螺栓与贴片机本体中部螺纹连接，底座表面固定连接有固定座，...
    2025-11-30
  • 基于机器视觉的智能点分检测与贴装一体化控制系统
    基于机器视觉的智能点分检测与贴装一体化控制系统_深圳市三一联光智能设备股份有限公司_202511126568.2
    基于机器视觉的智能点分检测与贴装一体化控制系统，涉及电子制造技术领域，包括云端，云端通信连接有视觉采集模块、数据预处理模块、图像检测模块和运行控制模块；视觉采集模块用于采集基板图像并将基板图像划分为若干关键子区域和非关键子区域；数据预处理模...
    2025-11-30
  • 一种识别基板中坏板的方法
    一种识别基板中坏板的方法_山东盛芯电子科技有限公司_202510708541.8
    本发明公开了一种识别基板中坏板的方法, 属于范围技术领域, 本发明中，通过精密标记工艺与动态数据协同机制，实现了坏板识别与生产流程的高度融合。采用高能激光碳化技术，在基板表面形成不可逆的永久性标记，其微观碳化层结构与基材形成显著的光学反差。...
    2025-11-30
  • 半导体器件、电子设备和制造方法
    半导体器件、电子设备和制造方法_北京超弦存储器研究院_202410526003.2
    本公开提供了一种半导体器件、电子设备和制造方法。半导体器件包括：衬底；和在衬底上呈阵列分布的多个存储单元，每个存储单元包括：垂直于衬底的第一隔离层、电极线、写入字线和第一介质层；环绕第一隔离层的侧壁的栅极；位于栅极的远离第一隔离层一侧的第二...
    2025-11-30
  • 半导体装置及其制造方法
    半导体装置及其制造方法_长江存储科技有限责任公司_202410533611.6
    提供了半导体装置及其制造方法。在一些实施方式中，所公开的半导体装置包括垂直晶体管的阵列、以及垂直电容器的阵列。垂直电容器中的每个垂直电容器包括与垂直晶体管的阵列中的对应的垂直晶体管耦合的第一电极结构、以及与第一电极结构电隔离的第二电极结构。...
    2025-11-30
  • 半导体器件及其制备方法、存储系统
    半导体器件及其制备方法、存储系统_长江存储科技有限责任公司_202410533944.9
    本申请实施方式提供了一种半导体器件及制备方法、存储器系统。半导体器件包括半导体柱。半导体柱沿第一方向延伸，并包括在第一方向相对的第一端部和第二端部，其中第一端部包括第一掺杂区，第一掺杂区包括朝向第二端部的第一表面，第一表面到第二端部的距离为...
    2025-11-30
  • 半导体结构及其制造方法、存储系统
    半导体结构及其制造方法、存储系统_长江存储科技有限责任公司_202410534931.3
    本申请提供了一种半导体结构及其制造方法、存储系统。该半导体结构包括第一电极层、第二电极层、电容介质层和介质层。电容介质层可位于第一电极层和第二电极层之间。介质层可位于第一电极层沿第一方向的一侧、以及位于第一电极层沿第二方向远离电容介质层的一...
    2025-11-30
  • 存储器及其形成方法、存储器系统
    存储器及其形成方法、存储器系统_长江存储科技有限责任公司_202410537553.4
    本公开提供了一种存储器及其形成方法、存储器系统，存储器的形成方法包括：形成多个存储块；其中，形成存储块包括：形成第一半导体结构；第一半导体结构包括存储单元阵列；存储单元阵列包括多个存储电容；存储电容包括第一极板、第二极板以及位于第一极板和第...
    2025-11-30
  • 半导体结构及其制造方法、存储系统
    半导体结构及其制造方法、存储系统_长江存储科技有限责任公司_202410544455.3
    本申请提供了一种半导体结构及其制造方法、存储系统。该半导体结构包括多个半导体柱、栅极结构、第一介质层和电容接触结构。栅极结构位于半导体柱沿第一方向的第一侧。第一介质层位于半导体柱的第一侧且沿第二方向延伸至栅极结构。电容接触结构沿第二方向穿过...
    2025-11-30
  • 半导体器件及其制备方法、存储系统
    半导体器件及其制备方法、存储系统_长江存储科技有限责任公司_202410545452.1
    本申请提供了一种半导体器件及其制备方法、存储系统，先提供半导体层，再在半导体层沿第一方向的一侧形成掩模层，然后利用掩模层对半导体层进行刻蚀，形成沿第二方向延伸的第一凹槽和位于相邻第一凹槽之间的初始半导体柱，以及覆盖初始半导体柱的第一掩模图案...
    2025-11-30
  • 半导体器件及其制造方法、存储器系统
    半导体器件及其制造方法、存储器系统_长江存储科技有限责任公司_202410545466.3
    本公开实施例提供了一种半导体器件及其制造方法、存储器系统，所述半导体结构的制造方法包括：在基底上形成第一掩膜层，在所述第一掩膜层中形成并排设置的多个第一开口；基于所述多个第一开口对所述基底进行第一次刻蚀，形成并排设置的多个第一沟槽；扩大所述...
    2025-11-30
  • 存储器器件及其制作方法
    存储器器件及其制作方法_长江存储科技有限责任公司_202410547214.4
    本公开实施例提供了一种存储器器件及其制作方法，其中，该存储器器件包括：半导体结构；半导体结构包括：半导体柱，沿第一方向延伸；栅极结构，位于半导体柱的至少一侧；以及第一掺杂区，位于半导体柱沿第一方向相对的两端；沿栅极结构指向半导体柱的方向上，...
    2025-11-30
  • 一种存储器及存储器的制作方法
    一种存储器及存储器的制作方法_华为技术有限公司_202410554375.6
    本申请提供一种存储器及存储器制作方法，其包括衬底、多条位线、N个晶体管，多条所述位线沿着第一方向间隔排列于所述衬底表面，每条所述位线连接有M个所述晶体管，沿着第二方向，每行包括S个间隔设置的所述晶体管，位线与晶体管导通，晶体管包括沟道、栅极...
    2025-11-30
  • 半导体器件和制造半导体器件的方法
    半导体器件和制造半导体器件的方法_三星电子株式会社_202411600694.2
    一种半导体器件包括：衬底，包括单元区域和外围区域；字线，在单元区域上在第一方向上延伸；位线，在第二方向上跨字线延伸，第二方向与第一方向相交，并且该位线包括：第一位线和第二位线，在第一方向上交替布置，每条第一位线包括：位线尾部，在第二方向上延...
    2025-11-30
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