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拖动滑块完成拼图
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  • 具有轨道轴线(x)的轨道装置(2), 具有支撑辊(51)和两个引导辊(52)的滑架(5)沿着轨道轴线(x)可引导, 轨道装置(2)包括:具有第一支撑本体(211)和第一引导通道(212)的第一轨道区段(21);具有第二支撑本体(221)和第...
  • 一种用于装配式房屋的建筑砌块, 所述建筑砌块包括:第一复合结构支撑层;第二复合结构支撑层;以及夹设在所述第一复合结构支撑层和所述第二复合结构支撑层之间的隔热层。
  • 控制系统(200)对具备能够在前端安装作业工具(163)的工作装置(160)的工程机械(100)进行控制。控制系统具备处理器(210)。处理器确定禁止工作装置的侵入的面即假想壁(VW)。处理器以使假想壁与工程机械不接触的方式决定工程机械的回...
  • 实现即使是有限的空间也能够设置自动投入部的立式洗衣机。立式洗衣机具备:洗涤槽(11), 其包括水槽(111)和可旋转地设置在水槽(111)内的旋转槽(113);主体部(180), 其容纳洗涤槽(11);上罩部(181), 其设于主体部(18...
  • 本发明提供能够减少基板加工时的开裂及裂纹的SiC基板。该SiC基板具备双轴取向SiC层, 在对双轴取向SiC层进行X射线形貌(XRT)测定得到的XRT图像中, 将XRT图像整个区域划分为每1格给予纵4mm×横4mm×深度28μm的区域的格子...
  • 本公开内容涉及重叠的基板支撑件和预热环以及相关工艺套件、处理腔室、方法和部件, 以促进工艺可调整性。在一个或多个实施例中, 一种适用于半导体制造的基板支撑件包括第一侧面和与所述第一侧面相对的第二侧面。所述第一侧面包括支撑表面。所述第二侧面包...
  • 这种锭料生长装置包括:包括主坩埚的锭料生长炉;将熔融硅供给至锭料生长炉的辅助熔融炉;包括连接至辅助熔融炉的固体硅传送路径和连接至固体硅传送路径并传送固体硅的传送构件的硅进料器;以及控制锭料生长炉、辅助熔融炉和硅进料器中的至少一个的控制器, ...
  • 本发明的课题在于提供一种工业上能够有利地制造晶体的制造装置及制造方法。解决方法是使用晶体的制造装置来制造晶体, 至少具备高频感应加热线圈, 用于使用高频感应加热来形成原料溶液的熔融带, 并通过所述熔融带中沿长边方向的晶体生长来制造晶体, 在...
  • 本发明提供一种改性为电解二氧化锰制造用的电极, 其降低电极提起时的液体的附着量, 并且即使浸渍于高温且硫酸酸性的电解液中也不伴有金属的脱落、溶出地降低电解电压。一种电极, 其为在石墨上担载有铂的结构, 且含有石蜡。
  • 本发明涉及一种用于电解装置(44)的双极板(34), 其中, 所述双极板(34)包括多个介质通道(36):至少一个H2O进入端口(38)、一个H2O/O2排出端口(40)以及一个H2排出端口(42)。在所述电解装置(44)的电解电池堆(46...
  • 本公开内容涉及用作用于电解沿流动方向流动的液体的阳极或阴极的电极(1)、包括至少一个这样的电极的电解设备以及使用该电解设备进行电解的方法。电解设备(100)包括:圆柱形壳体(30);多于一个长形电极(1、1a、1b、1c), 每个长形电极沿...
  • 电解单电池(1)具备金属支撑体(10)和单电池主体部(20)。金属支撑体(10)还具有:形成有多个连通孔(11)的透气区域(10a)、以及将透气区域(10a)包围的不透气区域(10b)。单电池主体部(20)的氢极层(6)具有:形成在透气区域...
  • 披露了一种用于制造电解电池的至少一部分的方法, 该方法至少包括通过增材制造在双极板(1)的第一面上打印至少一个层(3)的步骤, 所述层(3)的第一面(4a)固定到双极板的第一面, 并且该层(3)的第二面(4b)形成至少一个自由端, 该层由形...
  • 本公开涉及具有低辐射涂层的涂覆制品及其制备方法。所述涂覆制品包括低辐射涂层, 所述低辐射涂层由基板支撑并且包括金属IR反射层、介电层和与所述金属IR反射层接触的保护层。
  • 本发明涉及一种低温沉积膜形成方法、由该方法制造的半导体基板以及半导体器件, 其具有如下效果, 即提供一种低温沉积膜形成方法、由该方法制造的半导体基板和半导体器件, 该方法包括对用于形成最终沉积膜的氧化还原反应非常有利的碘配体交换步骤, 从而...
  • 一种金刚石薄膜的制造方法, 向配置有基材的真空容器内供给含有C、H及O的原料气体, 使配置在所述真空容器的内部或外部且具有相互串联电连接的导体组件与电容元件的天线中流动高频电流, 由此在所述真空容器内生成电感耦合型等离子体, 并且通过使用所...
  • 本公开涉及涂覆制品及其制备方法。所述涂覆制品包括金属层, 其中所述金属层具有构造为减少电信频率信号传输的衰减的频率选择表面。
  • 本发明提供一种溅射膜沉积源, 该溅射膜沉积源在沉积绝缘体膜时能够显著地减少对膜沉积体的损坏并防止阳极消除效应, 从而以低成本长时间稳定地沉积绝缘体膜, 并提供一种使用该溅射膜沉积源的膜沉积装置。技术方案:溅射膜沉积源包括:靶材(1A, 1B...
  • 本发明提供一种成膜装置, 其可使外部电极的边界恒定且明确、且抑制外观或品质的偏差。实施方式的成膜装置1具有:掩模110, 具有掩模孔112;子掩模120, 与掩模110重叠且具有引导孔122;以及承受台130, 电子零件C的其中一个端面T与...
  • 本发明提供具有980MPa以上的拉伸强度(TS)、并且具有高的延展性和延伸凸缘性、并且轴向压溃特性优良的钢板、构件和它们的制造方法。一种钢板, 其具有使C、Si、Mn、P、S、sol.Al、N为特定含量的成分组成, 并且具有含有以面积率计铁...
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