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最新专利技术
  • 一种基于比特编码逆变换技术的多模光纤成像方法
    一种基于比特编码逆变换技术的多模光纤成像方法_哈尔滨工程大学_202510976660.1
    本发明属于光纤成像技术领域，具体涉及一种基于比特编码逆变换技术的多模光纤成像方法，通过比特编码技术，将灰度图像编码为八张二值的位平面图像，经过DMD轮播八张二值的位平面图像后，经由CCD顺次采集多模光纤环形器的三端口出射端面的八张模式散斑，...
    2026-01-31
  • 一种基于比特分层技术的高精度多模光纤成像方法
    一种基于比特分层技术的高精度多模光纤成像方法_哈尔滨工程大学_202510971144.X
    本发明属于光纤成像技术领域，具体涉及一种基于比特分层技术的高精度多模光纤成像方法，包括光纤成像模块和比特分层深度学习图像恢复算法模块。基于多模光纤自然场景灰度图像恢复系统，引入比特分层编码技术，利用八张二值的比特层图像替代原始灰度图像，由数...
    2026-01-31
  • 一种瑞利散射增强光纤及制作方法
    一种瑞利散射增强光纤及制作方法_深圳大学_202511052701.4
    本发明涉及一种新型瑞利散射增强光纤及其制作方法，该新型光纤包括掺杂纳米材料的聚合物纤芯以及包裹于纤芯的外部石英包层，为一种新型的聚合物/石英复合材料光纤。制作方法包括空芯光纤中的聚合物/纳米复合材料的注入、纤芯材料的固化处理及光纤的老化处理...
    2026-01-31
  • 光纤光栅阵列的透涂直写连续制备方法及制备装置
    光纤光栅阵列的透涂直写连续制备方法及制备装置_哈工大郑州研究院_202511033950.9
    光纤光栅阵列的透涂直写连续制备方法及制备装置，属于光纤光栅传感器制备领域，本发明为解决分阶段工艺制备光纤机械强度不足，刻写效果不稳定的问题。本发明方法包括：光纤拉丝；一级涂覆：通过储线调速单元将经过一级涂覆后的光纤线速降至不高于10m/mi...
    2026-01-31
  • 一种自标记型反谐振空芯光纤及其制备方法
    一种自标记型反谐振空芯光纤及其制备方法_江苏亨通光纤科技有限公司_202510993360.4
    本发明属于光纤制造技术领域，公开一种自标记型反谐振空芯光纤及其制备方法。自标记型反谐振空芯光纤包括包层套管、包层反谐振组、自标记单元；包层反谐振组固定于包层套管内壁；自标记单元位于包层套管中，使至少一个包层反谐振组与其他包层反谐振组区分；包...
    2026-01-31
  • 光波导结构、光学模组及智能眼镜
    光波导结构、光学模组及智能眼镜_歌尔股份有限公司_202511385367.4
    本申请公开一种光波导结构、光学模组及智能眼镜，涉及光波导结构技术领域，光波导结构包括基板、光栅和介质层，基板包括相背设置的第一侧和第二侧；光栅设置于第一侧；介质层设置于第二侧，介质层与第二侧之间形成有反射界面，从光栅进入的光线在反射界面发生...
    2026-01-31
  • 光波导及头戴显示设备
    光波导及头戴显示设备_歌尔股份有限公司_202511385362.1
    本申请公开一种光波导及头戴显示设备，涉及增强现实技术领域，光波导包括：波导基底，波导基底包括至少一个相对波导基底的表面倾斜设置的液晶镶嵌区域；至少一个液晶偏振器，液晶偏振器设于液晶镶嵌区域，用于反射第一旋转方向的入射光，以及透射第二旋转方向...
    2026-01-31
  • 一种衍射光学结构及近眼显示设备
    一种衍射光学结构及近眼显示设备_歌尔股份有限公司_202511384244.9
    本申请实施例提供了一种衍射光学结构及近眼显示设备；衍射光学结构包括波导基底及设置于波导基底上的光栅区域和非光栅区域，光栅区域内形成有光栅结构，非光栅区域上覆盖有介质层，光栅结构与介质层的折射率均为n1；在波导基底上与多个光栅结构和/或多个非...
    2026-01-31
  • 一种衍射光学结构及近眼显示设备
    一种衍射光学结构及近眼显示设备_歌尔股份有限公司_202511384243.4
    本申请实施例提供了一种衍射光学结构及近眼显示设备；衍射光学结构包括波导基底，及设于波导基底上的光栅区域和非光栅区域，光栅区域内形成有光栅结构，非光栅区域上覆盖有介质层，光栅结构与介质层的折射率均为n1；在波导基底上与多个光栅结构和/或多个非...
    2026-01-31
  • 光波导结构、近眼显示设备以及光波导结构的制作方法
    光波导结构、近眼显示设备以及光波导结构的制作方法_业桓科技(成都)有限公司_202511261739.2
    本申请提供一种光波导结构，包括波导以及耦出光栅。波导包括第一表面以及与所述第一表面相对的第二表面，所述波导用于传导图像光。耦出光栅设置于所述第一表面，用于接收并耦出从所述波导出射的所述图像光，以使所述图像光从所述第二表面出射。其中，所述波导...
    2026-01-31
  • 一种光波导及近眼显示设备
    一种光波导及近眼显示设备_腾景科技股份有限公司南京分公司_202511255874.6
    本发明涉及近眼显示技术领域，公开了一种光波导及近眼显示设备，包括波导基底以及设置于波导基底上的耦入端口、转折扩瞳区域和扩瞳耦出区域；其中，耦入端口为棱镜结构并连接光机，用于将图像光束导入转折扩瞳区域；转折扩瞳区域通过全反射膜和能量分光膜使光...
    2026-01-31
  • 一种多功能面板灯
    一种多功能面板灯_佛山电器照明股份有限公司_202511191277.1
    本发明涉及照明装置技术领域，公开了一种多功能面板灯，包括：灯壳，底侧设置有出光口；光源，设置于所述灯壳内部的两侧；第一出光模块，包括第一导光板，所述第一导光板设置于所述灯壳内，一个所述光源可通过所述第一导光板从所述出光口出光；第二出光模块，...
    2026-01-31
  • 背光模块
    背光模块_友达光电(苏州)有限公司_202511076718.3
    本发明公开了一种背光模块，包含背板、导光板、连接件、及光源模块。导光板设于背板上。连接件设于导光板与背板的侧板之间，且包含第一与第二固定板、及第一与第二旋转件。第一固定板接合在导光板上。第二固定板与第一固定板相对且接合在侧板上。第一与第二旋...
    2026-01-31
  • 一种基于截止层调控的衍射光波导
    一种基于截止层调控的衍射光波导_慕德微纳(杭州)科技有限公司_202510875906.6
    本发明涉及一种基于截止层调控的衍射光波导，其包括波导基底、输入衍射光学元件、输出衍射光学元件、以及截止层；可见光源产生不同光程差的RGB三色光由所述输入衍射光学元件耦入所述波导基底、并在所述波导基底中发生全反射后、由所述输出衍射光学元件分步...
    2026-01-31
  • 一种光波导及近眼显示模组
    一种光波导及近眼显示模组_成都理想境界科技有限公司_202410527054.7
    本申请实施例公开了一种光波导及近眼显示模组，所述光波导包含波导基体，在所述波导基体上设置有两个或多个具备特定光学功能的光栅区域；所述光栅区域中设置有周期分布的光栅单元所构成的光栅结构；部分或全部的所述光栅单元包含所述光栅部包含第一光栅部和第...
    2026-01-31
  • 一种固定点距3D膜制备装置及其使用方法
    一种固定点距3D膜制备装置及其使用方法_宁波维真显示科技股份有限公司_202511088983.3
    本发明涉及波片制备技术领域，尤其涉及一种固定点距3D膜制备装置及其使用方法，该装置包括基底膜放料辊，所述基底膜放料辊后依次设置有液晶点胶涂布装置、光取向装置、波片粘取辊、3D膜收卷辊；所述光取向装置、波片粘取辊之间设置有固化装置、胶膜保护膜...
    2026-01-31
  • 一种滤光片
    一种滤光片_衣金光学科技南通有限公司_202511029799.1
    一种滤光片，包括基板，其具有第一侧和第二侧，第一侧设置有主膜层结构，第二侧设置有副膜层结构，主膜层结构包括多个第一主膜层和多个第二主膜层，第一主膜层的折射率高于第二主膜层的折射率，副膜层结构包括多个第一副膜层和多个第二副膜层，第一副膜层的折...
    2026-01-31
  • 一种光学眼镜内部倾斜闪耀光栅结构及其制造方法
    一种光学眼镜内部倾斜闪耀光栅结构及其制造方法_上海邦芯半导体科技有限公司_202511403836.0
    本申请公开了一种光学眼镜内部倾斜闪耀光栅结构及其制造方法，包括在碳化硅材料的衬底上形成表面改性的光刻胶图形，通过光刻胶图形对衬底的露出表面进行第一刻蚀，形成具有垂直侧壁的第一沟槽并填充保护层及平坦化，在平坦后的衬底上形成三角形多晶硅图形并在...
    2026-01-31
  • 一种光学眼镜内部光栅结构及其制造方法
    一种光学眼镜内部光栅结构及其制造方法_上海邦芯半导体科技有限公司_202511403802.1
    本申请公开了一种光学眼镜内部光栅结构及其制造方法，包括在碳化硅衬底上形成三角形截面的多晶硅图形并进行表面氧化，采用等离子体增强原子层沉积工艺，在多晶硅图形表面上形成氧化硅层并回刻形成表面光滑的侧墙结构，对碳化硅衬底进行刻蚀至侧墙结构被刻蚀消...
    2026-01-31
  • 一种光学眼镜内部刻蚀结构及其制备方法
    一种光学眼镜内部刻蚀结构及其制备方法_上海邦芯半导体科技有限公司_202511403779.6
    本申请公开了一种光学眼镜内部刻蚀结构及其制备方法，包括在碳化硅层表面上形成铬图形，对铬图形的表面进行活化处理，采用原子层沉积工艺，在铬图形的表面上形成氧化铝层进行原位钝化，并在铬图形的侧面上形成表面光滑的侧墙层，以带有侧墙层的铬图形为掩膜，...
    2026-01-31
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