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  • 本发明涉及掩模的制造方法、掩模支撑模板的制造方法及框架一体型掩模的制造方法。本发明的掩模的制造方法包括以下步骤:(a)将掩模金属膜粘合到一面形成有临时粘合部的模板上;(b)通过在所述掩模金属膜形成掩模图案来制造掩模;(c)将所述模板装载到具...
  • 本发明公开了一种真空镀膜掩膜方法、镀膜材料高通量多组元筛选方法, 真空镀膜掩膜方法包括真空镀膜掩膜, 所述真空镀膜掩膜过程包括分立掩膜和连续掩膜, 所述连续掩膜所用的掩膜板的厚度沿纵轴方向呈梯度变化。筛选方法为利用上述的掩膜方法进行。本发明...
  • 本发明提出了一种三明治结构金刚石涂层及其制备方法与应用, 属于复合涂层技术领域。本发明的三明治结构金刚石涂层包括由下到上依次设置的厚度为0.1~0.5μm的ta‑C打底层、厚度为5~15μm的CVD金刚石中间层和厚度为1.0~3.0μm的表...
  • 本发明提供一种RPD‑SnOx电子传输层制备方法、电子传输层及钙钛矿电池制备方法, 包括如下步骤:将衬底置于真空腔室中;通过等离体子枪发射等离子体并作用在氧化锡靶材SnOx上, 使得氧化锡靶材被蒸发并沉积在衬底上, 1.2≤x≤1.6;该钙...
  • 本发明公开了一种强结合宽温域耐磨的复合涂层, 涉及固体润滑材料技术领域, 所述复合涂层包括依次形成于基体表面的过渡层、功能内层、扩散阻挡层和功能外层, 所述过渡层为Mo层和Mo2N层, 所述功能内层为MoAgN层, 所述扩散阻挡层为Mo2N...
  • 提出了一种用至少一种涂层涂覆基板的方法, 所述涂层包含至少一种涂层材料, 所述涂层材料沉积在基板上或施加在基板上的部分涂层上, 其中电中性颗粒可用于辅助沉积。
  • 本发明公开了一种纳米耐磨复合光学镜片真空镀膜设备及其制备方法, 涉及镜片镀膜设备领域, 包括镀膜机, 所述镀膜机的顶面中部转动连接有轴杆, 所述轴杆底部固定有镀锅, 所述轴杆中部外侧和镀膜机中部内侧设置有转动驱动组件, 所述镀锅下方设置有使...
  • 本发明的目的在于提供光学功能层的密合性和生产率优异且耐久性进一步提高的塑料透镜的制造方法。本发明提供一种塑料透镜的制造方法, 其是包括在树脂制的透镜主体的至少一个面上依次形成底涂层和光学功能层的形成工序的塑料透镜的制造方法, 其特征在于, ...
  • 本发明的目的在于提供光学功能层的密合性和生产率优异且耐久性进一步提高的塑料透镜的制造方法。本发明提供一种塑料透镜的制造方法, 其是包括在树脂制的透镜主体的至少一个面上依次形成底涂层和光学功能层的形成工序的塑料透镜的制造方法, 其特征在于, ...
  • 本发明属于航空发动机和燃气轮机涡轮叶片热障涂层技术领域。具体涉及一种EB‑PVD制备不同饱和蒸汽压材料的方法及制备的涂层, 包括针对材料中的不同饱和蒸汽压组分, 根据其质量比或原子比, 转化为面积比, 采用多段式球磨制粉, 控制球磨工艺参数...
  • 本发明公开了一种医疗植入用锌基复合材料及其制备方法与应用, 该复合材料以锌基体为核心, 内部嵌入柱状铁增强体, 外部覆盖钽梯度过渡层。制备过程中, 铁增强体与锌基体通过阴极电阻加热实现界面扩散结合, 同时外部筒状Ta靶材溅射形成致密Ta涂层...
  • 本发明涉及一种用于钙钛矿太阳能电池低损伤膜层的溅射装置及设备。溅射装置位于溅射设备中, 基片位于溅射设备中进行直线式运动, 当经过溅射装置时, 可对基片进行溅射镀膜;溅射装置包括靶座, 靶座内部设有两个溅射阴极, 两个溅射阴极相对称设置;两...
  • 本发明提供一种工艺腔室及半导体工艺设备。工艺腔室包括围绕基座设置的内衬组件, 内衬组件包括第一弧形内衬、第二弧形内衬和环形内衬;第一弧形内衬在其周向上的开口与第二弧形内衬在其周向上的开口在第一方向上相对设置, 第一弧形内衬的外周面与第二弧形...
  • 本发明涉及一种沉积装置, 沉积装置包括:腔室, 提供进行沉积工艺的内部空间;以及至少一个磁体单元, 位于所述腔室的下部, 并且所述至少一个磁体单元中的每一个具有第一磁体部件以及位于所述第一磁体部件的外廓并与所述第一磁体部件相隔的第二磁体部件...
  • 本发明涉及半导体材料加工技术领域, 公开一种镀膜方法及镀膜系统, 腔室内布置呈相对姿态的受体材料与靶材, 并制备真空环境;溅射源向靶材发射离子束轰击产生溅射原子, 受体材料接收溅射原子以沉积膜层;超原子束源向受体材料照射超原子束, 利用超原...
  • 本发明公开了一种高发射率热控涂层的制造方法, 包括下列方法步骤:S1、对金属基材进行处理, 采用双极性脉冲电源, 正向电压350V, 负向电压150V, 占空比30%电解液温度维持在20±2℃, 通过外循环冷却系统控制处理后形成α‑Al2O...
  • 本发明涉及电容器金属膜的技术领域, 公开了一种低温等离子体强化电容器金属膜工艺, 包括等离子体清洗、表面活化、等离子体增强蒸发、‌低温磁控溅射、‌脉冲离子束轰击、‌原位掺杂导电网络、介质阻挡放电退火和冷却与钝化;通过以上加工工艺可以电容器金...
  • 本发明公开了抗冲蚀耐高温氧化涂层、制备方法及应用, 该涂层包括两个主体层, 第一主体层为利用磁控溅射技术沉积形状SMA过渡层;第二主体层中包括利用磁控溅射离子镀技术沉积HEA合金层, 电弧离子镀技术沉积HEACxN1‑x层, HEA、HEA...
  • 本申请涉及减反射膜及其磁控溅射制备方法。方法包括用离子源清扫基材表面, 增强膜层与基材结合力, 交替沉积高折射率材料层和低折射率材料层, 控制各参数使厚度在特定范围, 构建仓室之间的真空梯度, 优化高折射率材料优化高折材料的折射率和致纯度,...
  • 本发明公开了一种提高锆铌合金氧化层厚度及抗菌性能的材料表面改性方法, 具体为:对锆铌合金样品进行打磨抛光等预处理, 得到预处理后的锆铌合金;利用离子注入机将金属元素离子注入到锆铌合金表面, 注入完成后, 取出得到离子注入后的锆铌合金;采用箱...
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