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最新专利技术
  • 一种化学气相沉积反应器、FCCVD反应装置和单壁碳纳米管的批量连续化制备方法
    一种化学气相沉积反应器、FCCVD反应装置和单壁碳纳米管的批量连续化制备方法_福建中禾新材料有限公司_202511202635.4
    本发明涉及单壁碳纳米管制备技术领域，尤其涉及一种化学气相沉积反应器、FCCVD反应装置和单壁碳纳米管的批量连续化制备方法。本发明通过优化反应器的结构，进而优化反应器内部的流场，实现气体均匀分布，保持催化剂颗粒的原位生长以及粒径大小的均一性。...
    2025-11-29
  • 一种硅碳负极材料气相包覆设备
    一种硅碳负极材料气相包覆设备_深圳禹龙智能装备有限公司_202511077854.4
    本发明涉及一种硅碳负极材料气相包覆设备。包括机座、提升装置、前端密封旋转接头、检修及泄爆装置、驱动装置、炉管组件、前端振动装置、冷却系统、温度探测装置、加热系统、后端振动装置以及后端密封旋转接头；提升装置安装在机座底部；炉管组件两端分别连接...
    2025-11-29
  • 氮化物半导体基板的制造方法
    氮化物半导体基板的制造方法_住友电气工业株式会社_202510611243.7
    本公开提供能提高结晶性的氮化物半导体基板的制造方法。氮化物半导体基板的制造方法具有以下工序：在第一温度的基板之上形成包含铝的第一氮化物半导体层；使所述基板和所述第一氮化物半导体层的温度变化为比所述第一温度高的第二温度；以及在所述第二温度的所...
    2025-11-29
  • 一种制备高导热碳化硅涂层的方法
    一种制备高导热碳化硅涂层的方法_湖南德智新材料股份有限公司_202511475905.9
    本发明涉及半导体材料制备的技术领域，提供一种制备高导热碳化硅涂层的方法。该方法采用两次化学气相沉积工艺，在基体表面依次沉积第一碳化硅涂层和第二碳化硅涂层；其中，第一碳化硅涂层中碳化硅的晶粒尺寸为Aμm，第二碳化硅涂层中碳化硅的晶粒尺寸为Bμ...
    2025-11-29
  • 一种筒状石墨基座内壁的抗热震复合涂层及其制备方法
    一种筒状石墨基座内壁的抗热震复合涂层及其制备方法_南京航空航天大学_202511008393.5
    本发明公开了一种筒状石墨基座内壁的抗热震复合涂层及其制备方法，抗热震复合涂层，设在筒状石墨基体内壁，筒状石墨基体内侧由外向内依次设置纳米碳/TiC复合过渡层、Ta过渡层和TaC保护层；纳米碳/TiC复合过渡层、Ta过渡层和TaC保护层的线膨...
    2025-11-29
  • 一种磁控溅射真空镀膜腔室内气管除尘清洁装置
    一种磁控溅射真空镀膜腔室内气管除尘清洁装置_碲阳半导体(泰州)有限公司_202511420821.5
    本发明涉及磁控溅射设备维护技术领域，具体涉及一种磁控溅射真空镀膜腔室内气管除尘清洁装置，用于对真空腔室进行除尘清洁，包括工业吸尘器，所述清洁气管滑动设置在真空腔室内部的底部上，且清洁气管上开设有多个吸气孔，所述驱动机构设置在真空腔室的内部，...
    2025-11-29
  • 一种显示屏真空镀膜机
    一种显示屏真空镀膜机_江西德虹显示技术有限公司_202511171530.7
    本发明涉及真空镀膜领域，公开了一种显示屏真空镀膜机，包括镀膜室，镀膜室底部设有镀膜装置本体，所述镀膜室内设有镀件承载室，镀件承载室内设有由隔板隔开并对应设置的镀件室，镀件承载室两端均设有可拆卸的端盖件，端盖件上设有能使端盖件固定于镀件承载室...
    2025-11-29
  • 一种真空观察窗用活动挡板组件
    一种真空观察窗用活动挡板组件_广东振华科技股份有限公司_202511179229.0
    本发明涉及真空镀膜设备领域，特别是涉及一种真空观察窗用活动挡板组件，包括玻璃压板、密封座、手轮和活动挡板；玻璃压板安装在视镜长管的一端，用于对视镜玻璃进行固定，视镜长管的另一端为真空侧；密封座安装在视镜短管的上端，视镜短管与视镜长管连通，密...
    2025-11-29
  • 一种摄像头镜片自动双面超硬AR光学镀膜装置
    一种摄像头镜片自动双面超硬AR光学镀膜装置_深圳市悦目光学器件有限公司_202511194731.9
    本发明公开了一种摄像头镜片自动双面超硬AR光学镀膜装置，涉及镜片镀膜技术领域，包括镀膜机主体，所述镀膜机主体的下侧固定连接有支撑块，所述镀膜机主体的内侧转动连接有转轴，所述转轴的上侧固定连接有转盘，所述镀膜机主体的下侧固定连接有驱动转轴转动...
    2025-11-29
  • 一种具有高度调节功能的真空镀膜夹具
    一种具有高度调节功能的真空镀膜夹具_理玛镀膜科技(无锡)有限公司_202511156994.0
    本发明公开了一种具有高度调节功能的真空镀膜夹具，涉及镀膜夹具技术领域，包括放置盒，所述放置盒内部设置有用于同时固定多个基片的夹持机构，所述放置盒底部设置有用于改变基片高度的升降机构，所述放置盒侧面设置用于同时解除多个基片的释放机构，所述放置...
    2025-11-29
  • 一种用于真空镀膜的转架装置
    一种用于真空镀膜的转架装置_理玛镀膜科技(无锡)有限公司_202511156977.7
    本发明公开了一种用于真空镀膜的转架装置，涉及真空镀膜技术领域，包括顶板、底板和中部支柱，所述中部支柱与底板的上表面中部固定连接，所述中部支柱的上端与顶板的中部固定连接，急停机构，所述急停机构设置于顶板的下方，所述急停机构包括固定连接于中部支...
    2025-11-29
  • PVD镀膜用双侧靶距可调旋转工装设备
    PVD镀膜用双侧靶距可调旋转工装设备_深圳市黄金屋真空科技有限公司_202511152287.4
    本申请涉及PVD镀膜用双侧靶距可调旋转工装设备，涉及PVD镀膜技术领域，其中包括两组相对且平行地设置于产品两侧的铜溅射靶。本申请通过转动机构带动产品旋转，确保膜层均匀沉积。具体而言，控制正反电机启动后，其输出轴带动转轴转动，由于转轴穿设在固...
    2025-11-29
  • 沉积设备
    沉积设备_三星显示有限公司_202510648130.4
    一种沉积设备包括：腔室，包括能设置为大气条件或真空条件的内部空间；基板支撑件，在腔室的内部空间中并且被配置为支撑基板；第一驱动器，被配置为使基板支撑件在第一方向和与第一方向相反的方向上往复移动；静电吸盘，在第一方向上与基板支撑件间隔开；位移...
    2025-11-29
  • 铁铬铝合金的制备方法及电热元件
    铁铬铝合金的制备方法及电热元件_爱奇迹(深圳)创新科技有限公司_202511200337.1
    本申请提供一种铁铬铝合金的制备方法及电热元件，制备方法包括：将铁铬铝合金原料制成合金基材；对合金基材进行表面预处理；对合金基材注入非金属离子源；对离子注入后的合金基材采用快速热退火处理，制得铁铬铝合金；电热元件由铁铬铝合金加工形成，铁铬铝合...
    2025-11-29
  • 一种PET铜箔制作用靶材溅射角度控制装置
    一种PET铜箔制作用靶材溅射角度控制装置_昆山科比精工设备有限公司_202511520725.8
    本发明提供一种PET铜箔制作用靶材溅射角度控制装置，用于解决现有技术中靶材利用率低、覆膜均匀性差、靶材寿命短且更换繁琐、工艺适应性有限以及生产效率受限的问题。为此，本发明提供一种PET铜箔制作用靶材溅射角度控制装置，包括：密封工作舱、放卷端...
    2025-11-29
  • 一种高硬度金属钨纳米晶薄膜及其制备方法
    一种高硬度金属钨纳米晶薄膜及其制备方法_中国人民解放军陆军装甲兵学院_202511211033.5
    本发明提供一种高硬度金属钨纳米晶薄膜及其制备方法，制备方法包括：对衬底进行清洗；将干燥后的衬底固定于可二维旋转的样品台中心位置，并通过传样杆传送入腔室；向腔室内通入高纯氩气；同时，衬底加负偏压，以对衬底表面进行离子清洗与刻蚀；对样品台上的衬...
    2025-11-29
  • 一种利用调制反应氛围磁控溅射制备的氧化钨纳米薄膜及其制备方法
    一种利用调制反应氛围磁控溅射制备的氧化钨纳米薄膜及其制备方法_中国人民解放军陆军装甲兵学院_202511211032.0
    本发明提供一种利用调制反应氛围磁控溅射制备的氧化钨纳米薄膜及其制备方法，制备方法包括：基板的清洗与干燥；将干燥后的基板固定在样品拖，并将样品拖安装在样品台上；将溅射室与沉积室同时抽真空；调整溅射室内靶材与喷嘴距离，使得靶材与喷嘴的距离为95...
    2025-11-29
  • 带偏压输入的镀膜转架
    带偏压输入的镀膜转架_广东振华科技股份有限公司_202511210316.8
    本发明公开了一种带偏压输入的镀膜转架，其采用“滚珠”结构代替轴承滑动，因为“滚珠”结构不需要精密，允许一定的变形量，故而转架能够在比较高温环境下保持正常转动运行；其次，通过转架衬板组件的设置，能够间接降低“滚珠”结构受温度的影响；并且，上衬...
    2025-11-29
  • 一种真空镀膜设备的磁导向装置
    一种真空镀膜设备的磁导向装置_广东振华科技股份有限公司_202511179193.6
    本发明涉及真空镀膜设备领域，特别是涉及一种真空镀膜设备的磁导向装置，包括磁导向架、两个导向磁铁、料架和料架磁铁；磁导向架设置为框架结构，磁导向架底端设置有一个活动口，活动口的宽度小于磁导向架的内部宽度；两个导向磁铁分别设置在磁导向架的内部相...
    2025-11-29
  • 一种复合靶材及其制作方法和应用
    一种复合靶材及其制作方法和应用_安徽吸收谱仪器设备有限公司_202510922112.0
    本发明公开了一种复合靶材及其制作方法和应用，其中一种复合靶材包括基底和功能层；所述基底材料为金属单质，所述金属单质在元素周期表中的原子序数Z为：Z≥40；所述功能层的材料为单质物，所述的单质物在元素周期表中的原子序数Z为：Z＜10；所述功能...
    2025-11-29
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