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  • 本发明涉及放射源技术领域,提供一种用于制备α平面源的电沉积装置,包括:底座、电镀槽、压盖和一对压紧单元,底座上设有源台;电镀槽套设于源台外,密封垫环的部分位于电镀槽与底座之间;压盖套设于电镀槽外;一对压紧单元相对设置于底座上,压紧单元包括支...
  • 一种电镀线链轨张紧装置,包括支座滑轨、滑座结构和弹性件,弹性件的一端固定于主机架,另一端与滑座结构连接,滑座结构可滑动式卡合在支座滑轨上,通过形成支座滑轨、滑座结构和弹性件之间的模块化连接,支座滑轨与滑座结构的可滑动式卡合设计,支座滑轨为滑...
  • 本发明公开了一种PEEK表面羟基化类石墨膜修饰方法,具体涉及集成电路制造技术领域。具体步骤包括首先对PEEK基材进行丙酮和无水乙醇的超声清洗及金刚石研磨膏抛光,再经氩气等离子体活化;随后采用紫外臭氧联合处理,在185/254nm紫外光与潮湿...
  • 本发明公开了一种上砂装置及金刚砂线生产线,金刚砂线生产线包括间隔设置的放线机和收线机,放线机用于放卷母线,收线机用于收卷母线以使母线依次经过放线机和收线机之间的清理装置、预镀镍装置、上砂装置、加厚镍装置和洗烘装置,清理装置用于去除母线上的污...
  • 本发明公开了一种碳化钨涂层刀具的电镀复合涂层方法,涉及高性能切削工具表面工程技术领域;本发明方案为:对硬质合金刀具基体进行表面活化与微粗化处理,在多组分电解体系中采用分阶段电化学沉积工艺,通过诱导沉积阶段在基体表面原位形成Ni–W–C自适应...
  • 本发明属于镁合金表面处理技术领域,具体涉及一种镁合金表面白色微弧氧化膜及其制备方法。包括以下步骤:配置含有无机碱、成膜剂、含氟着色剂、放电调节剂、辅助添加剂、表面活性剂的电解液;以镁合金基材为阳极,以不锈钢为阴极,在电解液中进行微弧氧化处理...
  • 本发明涉及成像模组消磁处理技术领域,具体公开了一种消除手机模组支架镀层磁性的方法,包括以下步骤:S1、前处理;S2、阳极氧化处理:在电解液中进行阳极氧化,形成复合氧化膜;S3、锌置换处理:在锌酸盐溶液中进行锌置换处理,形成薄层锌;S4、活化...
  • 本发明公开了一种基于DBA和DPC工艺的碳化硅基板的制作工艺,涉及半导体技术领域。本发明通过清洗半绝缘型碳化硅、第一次溅射种子层、DBA敷铝并烧结、第二次溅射种子层、第一次图形转移、电镀引线、第二次图形转移、电镀加厚铜种子层、表面处理、电镀...
  • 本发明属于印刷电路板制造领域,具体涉及一种用于FPC的纳米石墨黑影试剂及其制备方法,该试剂的制备在于先合成铈掺杂钼酸钇络合纳米笼与磺酸基功能化二氧化硅包覆纳米锆酸钡核壳粒子。前者通过水热法以柠檬酸钠导向形成中空笼状结构;后者通过共沉淀、煅烧...
  • 本发明属于金属材料表面处理技术领域,公开了一种可焊接电镀铬板的生产工艺。该工艺通过激光毛化轧辊在冷轧钢卷表面转印出簇状山峰形貌,并结合分阶段双层电镀铬:第一次高电流脉冲电镀在微凸峰顶形成不连续铬层,保留局部漏铁点;第二次低电流直流电镀覆盖超...
  • 本申请涉及调谐件电镀加工领域,公开一种高压调谐振杆的电镀工艺,包括以下步骤:S1、谐振杆前处理;S2、使用第一处理剂对前处理的谐振杆进行浸泡处理,制得初处理谐振杆;S3、初处理谐振杆预镀铜处理;S4、对预镀铜的谐振杆使用第二处理剂进行浸泡处...
  • 本发明涉及金锡合金电镀领域,公开了一种金锡合金电镀液和电镀方法以及制品。所述电镀液包括稳定剂,其中,稳定剂的含量为0.01‑50g/L;所述稳定剂包括第一稳定剂和第二稳定剂;第一稳定剂和第二稳定剂的质量比为1‑10:1;所述第一稳定剂包括乙...
  • 本发明涉及镍硼合金电镀液的技术领域,具体涉及一种用于盲孔填充的镍硼合金电镀液及其应用。其包括镍盐、二甲胺硼烷、导电介质、络合剂、表面活性剂和填孔剂,所述填孔剂的结构通式为,其中R选自苯基、取代苯基或烷基。本发明提供技术方案,通过选自合适的硼...
  • 本发明公开一种抗盐雾复合涂层,包括锌镍合金镀层、钝化层及干膜润滑层,锌镍合金镀层沉积于合金钢基体表面,钝化层位于锌镍合金镀层上,干膜润滑层涂覆在钝化层的表面。一种抗盐雾复合涂层的制备方法,包括以下步骤:S1 : 预处理;S2 : 锌镍合金镀...
  • 本发明提供了一种无氰碱性铜沉积工艺,属于金属沉积技术领域,包括:制备含复合主络合剂、辅助络合剂、硅烷修饰纳米TiO22等组分的无氰碱性铜表面处理液;金属基材经脱脂、微蚀及电解活化预处理;以预处理基材为阴极、电解铜为阳极,通过脉冲电源控制电解...
  • 本发明提供一种铜‑镍复合材料的制备方法,包括以下步骤:S1)制备电解铜箔;S2)将电解铜箔在电镀液中进行直流电镀,得到铜‑镍复合材料;所述电镀液包括聚乙二醇、糖精钠和2‑(羧甲基)苯并咪唑。本申请还提供了铜‑镍复合材料的镀层电镀液。本申请还...
  • 本发明涉及一种用于在待处理的衬底上沉积装饰用镍涂层的镍电镀浴,其特征在于所述电镀浴包含至少一种镍离子源、至少一种氨基酸和/或至少一种不为氨基酸的羧酸;其中所述氨基酸的总浓度在1到10 g/l的范围内,其中不为氨基酸的羧酸的总浓度在10到40...
  • 本发明公开了一种制备深刻蚀厚金属掩膜的电镀工艺方法,属于微机电系统电镀工艺技术领域。包括以下步骤:首先,在晶圆表面使用正胶进行光刻并图形化;接着,对光刻图案后的晶圆进行种子层溅射,并通过剥离工艺形成带有预设图案的待电镀区域;然后,在待电镀区...
  • 本发明涉及冶金技术领域,具体为一种高纯锑的制备方法,将粗锑作为阳极,惰性金属作为阴极,以氯化胆碱、磺酸基型季铵盐离子液体和多元醇为电解液,恒流电解1‑10h,电解结束后收集阴极析出物,洗涤后真空干燥得到高纯锑,本发明电解液具有低蒸汽压、高热...
  • 本发明公开了废电解质化学分散协同梯度氧化脱碳方法,首先采用柠檬酸酸性溶液对废电解质进行超声分散处理,利用化学表面改性与声流效应的协同作用,促使废电解质中的碳组分充分分散,并改善其表面吸附与粘结特性;在此基础上,进一步采用梯度低温焙烧工艺对废...
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