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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 本申请实施例提供了一种处理盒。显影单元的显影辊和活动部可活动地设置在显影主体上。感光单元的感光主体与显影主体可活动地连接。定位装置可活动地设置在显影单元上。当处理盒处于第一状态,定位装置与活动部抵接,且活动部与移动件相分离,活动部处于使显影...
  • 本发明公开一种定影装置。定影装置包括定影带、转向辊、压力旋转构件和接触‑分离机构。接触‑分离机构将压力旋转构件移动到压力旋转构件与定影带处于接触状态的位置以及压力旋转构件与定影带处于分离状态的位置。控制转向辊的摆动,使得定影带在宽度方向上移...
  • 本发明提供一种能给予初始介电损耗角正切低,且其经时变化也小的固化物的感光性绝缘膜树脂组合物、使用该感光性绝缘膜组合物制造带固化浮雕图案的基板的方法、及具备该固化浮雕图案的半导体装置。所述感光性绝缘膜形成用组合物包含具有下述式(1)表示的重复...
  • 本发明涉及可拆卸地安装在成像设备中的显影盒,该显影盒包括壳体、可旋转地安装在壳体中的旋转件以及位于壳体末端的驱动力接收件和检测机构,驱动力接收件用于从驱动力输出件接收驱动力并驱动旋转件和检测机构工作,检测机构包括传递件和拨动件,传递件设置有...
  • 本发明涉及调色剂分级设备和调色剂的生产方法。一种包括分级转子的调色剂分级设备,所述分级转子包括从分级转子的旋转中心侧延伸至分级转子的外周侧的多个叶片;多个叶片以在叶片之间设置的预定的间隔而配置;间隔形成面向分级转子的旋转中心区域的开口部;各...
  • 一种光致抗蚀剂底层组合物,其包含第一聚合物,该第一聚合物包含衍生自N‑(烷氧基甲基)(甲基)丙烯酰胺单体的第一结构单元;包含芳香族基团、杂环基团、酯基团、酰胺基团或其组合的第二结构单元,其中该第二结构单元进一步包含可交联基团;其中该第一聚合...
  • 本发明属于光刻胶技术领域,具体涉及一种用于有机绝缘膜的三嗪基正性光刻胶组合物,以质量份计,包括以下组分:含三嗪结构的丙烯酸系聚合物30~100份;光致产酸剂0.05~20份;酸生成剂或碱生成剂0.05~10份;表面活性剂0.005~5份;助...
  • 本发明涉及微纳制造技术领域,具体是一种纳米压印模版抗粘处理设备,包括反应腔室与抗粘试剂输送系统,可在同一腔室内完成模板表面等离子活化、抗粘试剂定量输送、低温气相沉积全过程;通过喷胶阀与多级阀控系统实现微升级试剂精确控制,结合加热蒸发皿实现低...
  • 本发明涉及半导体技术领域,具体为一种高精度耐酸光刻胶及其制备与使用方法,包括第一树脂基体、第二树脂基体、溶剂体系、感光剂、功能助剂、第一助剂、第二助剂与第三助剂。该高精度耐酸光刻胶及其制备与使用方法,通过引入三氟甲基苯乙烯,利用C‑F键的化...
  • 一种重物永下行引力发动机众多弯道桩架百年盘旋做功人造力,在巨型地基上底座上方设置了巨型特种钢板支架,在斜面上设置了(近似为零个重物的)是单个独个重物体的,重物体必然是永远向下行中,预先在另一边上设置了(近似为零个重物的)单个独个的重物,在上...
  • 本实用新型涉及储能技术领域,特别涉及一种线性弹性储能组件。本实用新型的线性弹性储能组件包括储能组,所述储能组包括多个弹性储能单元,所述弹性储能单元包括两根弹性条,两根所述弹性条的两端分别活动连接,多个所述弹性储能单元排成一排,且相邻两个所述...
  • 本发明涉及掩膜版制造,具体涉及一种掩膜版生产过程中分区曝光图形错位的优化方法,确定不同尺寸的图形和设备平台不同Y向移动距离对应的分区曝光时两侧区域图形之间的Y向错位量;进行分区域掩膜版Mask生产时,根据图形尺寸和设备平台Y向移动距离选择相...
  • 根据本公开的示例实施例提供了用于辅助图形优化的方法、设备和存储介质。该方法包括获取初始掩模图案,初始掩模图案包括主图形和至少一个初始辅助图形;获取多个候选辅助图形组,多个候选辅助图形组中的一个候选辅助图形组包括与主图形对应的至少一个候选辅助...
  • 本发明提供了一种光固化树脂组合物及其应用、抗蚀剂膜和感光干膜。该光固化树脂组合物包括碱溶性树脂(A)、光聚合单体(B)、光引发剂(C)和光敏剂(D),光敏剂(D)包括式(I)所示化合物。本申请提供的含式(I)所示甲脒类化合物的光固化树脂组合...
  • 本实用新型涉及一种户外防水的投影一体机,包括密封仓,所述密封仓的后侧通过紧固件固定安装有隔板,所述隔板的后侧通过紧固件固定安装有散热仓,所述隔板的外侧固定连接有密封板,所述密封板的内壁与密封仓和散热仓的外壁贴合,所述密封仓的前侧固定安装有镜...
  • 本发明公开了一种高效率全息光学元件制备装置及其制备方法,属于全息技术领域。该制备装置包括光源模块、合束模块、偏振分束器、反射模块、曝光控制模块和放置架;光源模块包括红光激光器、绿光激光器和蓝光激光器。通过精密电子定时器可控制分别位于红光激光...
  • 本发明公开了一种适用于柔性基材多次曝光对位装置,包括真空载台和掩膜光罩,在所述的掩膜光罩背向真空载台的一侧具有摄像头,掩膜光罩上具有多个对位标记,在所述的真空载台外围布置有若干个调整机构,并且所述调整机构位于膜材行进的路径上;所述调整机构包...
  • 一种用于减小掩模版中的热应变的方法,包括:确定掩模版在所述掩模版的使用期间的目标操作温度;基于所述掩模版的所述目标操作温度来调整所述掩模版的热膨胀(TE)性质;以及将所述掩模版曝光于辐射以执行制造过程。
  • 本申请公开了一种刻蚀形貌预测方法、设备、介质及计算机程序产品,涉及半导体制造技术领域。该刻蚀形貌预测方法包括:获取掩模版图样本的真实光刻图像样本,根据光刻胶模型,对每个掩模版图样本的真实光刻图像样本在多个光刻工艺窗口下的光刻图形轮廓进行预测...
  • 本实用新型公开了一种散热装置和投影仪,涉及投影仪技术领域,其中,散热装置包括壳体和散热件,散热件包括第一散热凸起和第二散热凸起,第一散热凸起的一端伸入于壳体内,第一散热凸起的另一端凸设于壳体的一侧面,进而壳体内的热量通过第一散热凸起散发到外...
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