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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 成像设备
    成像设备_佳能株式会社_202310032145.9
    一种成像设备，包括可旋转的图像承载构件；显影单元，用于在显影部分处显影静电潜像；转印单元，用于在转印部分处将显影剂图像转印到记录构件；以及刷，该刷设置有多根纤维，所述多根纤维在图像承载构件的旋转方向上在转印部分的下游且在显影部分的上游接触图...
    2026-03-10
  • 加热装置、定影装置、图像形成装置
    加热装置、定影装置、图像形成装置_株式会社理光_202211061088.9
    本发明涉及加热装置、定影装置、图像形成装置，目的在于使加热装置小型化。加热装置(9)的特征在于包括：定影带(20)；与定影带(20)的内表面接触的导电性部件(40)；加热器22；具有与导电性部件(40)对置的第一对置面(24d)的支撑件(2...
    2026-03-10
  • 光罩及曝光设备
    光罩及曝光设备_礼鼎半导体科技(深圳)有限公司_202520580521.2
    本申请实施例涉及曝光技术领域，并提供一种光罩及曝光设备。该光罩包括透光的第一基板、与第一基板相对且透光的第二基板、位于第一基板和第二基板之间的液晶层、位于第一基板背离液晶层的一侧的第一偏光片、位于第二基板背离液晶层的一侧的第二偏光片、位于第...
    2026-03-10
  • 一种处理盒
    一种处理盒_珠海超俊科技有限公司_202520596195.4
    本申请提供一种处理盒，处理盒包括废粉仓、轴承板、感光鼓和受压突起，轴承板设置于废粉仓沿第一方向的第一侧且相对于废粉仓固定。感光鼓可旋转地设置于废粉仓，感光鼓与轴承板转动连接，感光鼓包括鼓体，鼓体具有沿第一方向延伸的转动轴线。受压突起设置于废...
    2026-03-10
  • OPC修正方法及系统、版图
    OPC修正方法及系统、版图_重庆芯联微电子有限公司_202511712957.3
    本发明提供了一种OPC修正方法及系统、版图，属于半导体领域。该OPC修正方法包括提供一版图，所述版图包括多个金属层图形；对所述切分线段进行OPC修正，将所述第一线边片段向外扩张至所述边角的外围，将所述第二线边片段和第三线边片段内缩至所述线条...
    2026-03-10
  • 半导体光刻胶组合物和利用组合物形成图案的方法
    半导体光刻胶组合物和利用组合物形成图案的方法_三星SDI株式会社_202510877814.1
    公开了一种半导体光刻胶组合物和利用该半导体光刻胶组合物形成图案的方法。半导体光刻胶组合物可包括有机金属化合物、由化学式1表示的化合物和溶剂。化学式1的描述在本公开中有更详细的提供。
    2026-03-10
  • 一种区分OPC修正图形线宽报错的方法
    一种区分OPC修正图形线宽报错的方法_重庆芯联微电子有限公司_202511721581.2
    本发明提供一种区分OPC修正图形线宽报错的方法，基于目标图形与OPC修正向内修正最大值生成目标对照图形，对目标图形进行OPC修正，获得OPC修正图形，OPC修正图形经过掩模规则检查产生线宽报错，通过判断线宽报错与目标对照图形的相交性，快速区...
    2026-03-10
  • 用于EUV光刻的表膜
    用于EUV光刻的表膜_ASML荷兰有限公司_202080027740.8
    一种用于制造用于EVU光刻的表膜的方法，所述方法包括：将牺牲层沉积到衬底上；蚀刻掉所述衬底的部分，以暴露所述牺牲层的部分；将芯层沉积到所述牺牲层上，所述芯层在制造后形成所述表膜的隔膜的芯部分；以及蚀刻掉所述牺牲层的部分，以暴露所述芯层的部分...
    2026-03-10
  • 一种用于涂胶显影机的边缘光刻胶精确去除装置
    一种用于涂胶显影机的边缘光刻胶精确去除装置_江苏联芯半导体科技有限公司_202512051710.8
    本发明涉及涂胶显影机技术领域，尤其为一种用于涂胶显影机的边缘光刻胶精确去除装置，包括载料组件、位置调节组件、针头更换组件和洗边输液组件，本发明中，通过设置的转动盘、限位槽、EBR输液管道、EBR针头本体、第一金属限位套、第二金属限位套和传动...
    2026-03-10
  • 光掩膜储存盒及光掩膜固持方法
    光掩膜储存盒及光掩膜固持方法_家登精密工业股份有限公司_202210242935.5
    本发明公开一种光掩膜储存盒及光掩膜固持方法，包括一基座，其具有多个支撑件，每个所述支撑件用于支撑一光掩膜的一隅角，每个所述支撑件向上延伸一对限位块，该对限位块分别位于所述隅角的两个侧面；以及一封盖，对应多个所述支撑件分别配置有多个弹性下压机...
    2026-03-10
  • 一种跨光刻场铜互连工艺掩模版结构
    一种跨光刻场铜互连工艺掩模版结构_中国电子科技集团公司第五十八研究所_202610088016.5
    本发明公开一种跨光刻场铜互连工艺掩模版结构，左侧跨光刻场拼接区域掩模版的透光区与右侧跨光刻场拼接区域掩模版的透光区无交集；上侧跨光刻场拼接区域掩模版的透光区与下侧跨光刻场拼接区域掩模版的透光区无交集；左侧跨光刻场拼接区域掩模版的透光区与右侧...
    2026-03-10
  • 透明投影屏幕及其制造方法
    透明投影屏幕及其制造方法_深圳光峰科技股份有限公司_202010131577.1
    本申请实施例提供了一种透明投影屏幕及其制造方法，该透明投影屏幕用于接收投影光线并透射环境光线，其包括第一基底层、菲涅尔结构层、表面扩散层、纳米金属镀层以及贴合胶层；菲涅尔结构层设置于第一基底层，菲涅尔结构层包括棱镜面，表面扩散层设置于至少部...
    2026-03-10
  • 感光性树脂组合物及固化浮雕图案的制造方法
    感光性树脂组合物及固化浮雕图案的制造方法_旭化成株式会社_202511196049.3
    一种感光性树脂组合物及固化浮雕图案的制造方法。[课题]本公开的目的在于，提供耐化学药品性优异、即使固化温度为低温也表现出良好的伸长率、能够制造与铜布线的密合性良好的固化浮雕图案的感光性树脂组合物；及使用该感光性树脂组合物制造固化浮雕图案的方...
    2026-03-10
  • OPC模型的修正方法、制作光掩模版的方法及光刻方法
    OPC模型的修正方法、制作光掩模版的方法及光刻方法_重庆芯联微电子有限公司_202510094525.4
    本发明提供OPC模型的修正方法、制作光掩模版的方法及光刻方法，OPC模型的修正方法先建立初始OPC模型；修正初始OPC模型以获得修正后的OPC模型，并对修正后的OPC模型进行收敛度检查直至修正后的OPC模型收敛再进入下一步骤。本发明在修正所...
    2026-03-10
  • 一种对柔性金属材料双面光刻的方法
    一种对柔性金属材料双面光刻的方法_强一半导体(苏州)股份有限公司_202610003734.8
    本发明涉及一种对柔性金属材料双面光刻的方法，包括：在磁性圆盘上铺设隔膜; 将柔性金属材料放置在隔膜上；然后涂覆光刻胶形成第一光刻胶层；对第一光刻胶层进行曝光并显影，使柔性金属材料正面的部分区域被遮挡形成第一遮盖区域，柔性金属材料正面的部分区...
    2026-03-10
  • 一种树脂、组合物、膜层、电子器件及其制备方法
    一种树脂、组合物、膜层、电子器件及其制备方法_珠海基石科技有限公司_202610149875.0
    本申请提供了一种树脂、组合物、膜层、电子器件及其制备方法。树脂包括第一重复单元和第二重复单元，R1选自未取代的C1‑C20的烷基或者C1‑C6的氟代烷基；R2选自单键或者未取代的C1‑C10的亚烷基；R3选自，R5、R6独立地选自取代或未取...
    2026-03-10
  • 一种基于数字全息计算光刻的掩模构造方法
    一种基于数字全息计算光刻的掩模构造方法_合肥工业大学_202512041106.7
    本发明属于全息光刻技术领域，提出了一种基于数字全息计算光刻的掩模构造方法，包括：1、基于目标光刻图像逆向构造掩模出射波的复平面分布；2、针对光场调控方法进行建模, 数值计算照明波前初始值与掩模初始值；3、通过变分推断交替优化掩模Um与照明波...
    2026-03-10
  • 摄像机用支撑装置以及摄像装置
    摄像机用支撑装置以及摄像装置_株式会社利富高_202180056583.8
    支撑摄像机的摄像机用支撑装置设置有具有发热部的加热装置和支撑加热装置的支撑部，加热装置在支撑部之中的加热对象侧的表面设置，在支撑部的表面设置有与发热部不接触的一个或多个非接触部。
    2026-03-10
  • 一种掩模版的版图获取方法及系统
    一种掩模版的版图获取方法及系统_合肥晶合集成电路股份有限公司_202610140395.8
    本发明提供了一种掩模版的版图获取方法及系统，方法包括：输入所述掩模版的版图设计图形，设置筛选区间，从所述版图设计图形中筛选出关键尺寸位于筛选区间内的稀疏图形，作为第一主图形，其中第一主图形的主图案按照阵列分布；设置筛选阈值，筛选图案间交错距...
    2026-03-10
  • 具有倾斜抑制结构的相机用致动器
    具有倾斜抑制结构的相机用致动器_磁化电子公司_202480050583.0
    根据本发明的一实施例的具备倾斜抑制结构的相机用致动器的特征在于，可以包括：载体，沿光轴方向移动；盖单元，上述载体安装于上述盖单元；以及驱动部，使上述载体沿光轴方向移动，在该情况下，上述载体中设置有上述驱动部的一部分的第一部位与以光轴方向为基...
    2026-03-10
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