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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 一种可变形电子束曝光机的图形发生器电路系统
    一种可变形电子束曝光机的图形发生器电路系统_中国电子科技集团公司第四十八研究所_202410894602.X
    本发明公开了一种可变形电子束曝光机的图形发生器电路系统， 包括高速传输电路、图形发生器主控制电路、CLK&SFP+转接电路、图发子场和成形控制电路、束闸控制电路、视频生成电路、运动校正电路、束流检测电路、背散射电子信号检测电路、主场转接电路...
    2025-10-12
  • 一种采用静态压力实现动态做功的转换装置及转换方法
    一种采用静态压力实现动态做功的转换装置及转换方法_华汽动力科技(成都)有限公司_202310339894.6
    一种采用静态压力实现动态做功的转换装置及转换方法， 该装置包括转子、输出轴、至少一组压力转换组， 输出轴与所述转子不共线， 输出轴包括主轴颈， 主轴颈上设置有第一轴颈和第二轴颈， 第一轴颈、第二轴颈、主轴颈不共线；压力转换组包括两个压力转换...
    2025-10-12
  • 一种直写成像式曝光设备的曝光方法和曝光系统
    一种直写成像式曝光设备的曝光方法和曝光系统_无锡影速半导体科技有限公司_202510169523.7
    本发明公开了一种直写成像式曝光设备的曝光方法和曝光系统， 方法包括：获取第一面的至少两个第一标记点的实际位置；根据各第一标记点的实际位置和各第一标记点的理论位置的偏差， 确定第一面偏位情况， 并在第一面未偏位时采用预设曝光条件执行第一面的曝...
    2025-10-12
  • 一种用于制作纳米结构的成型方法及用于实施该方法的特定装置
    一种用于制作纳米结构的成型方法及用于实施该方法的特定装置_LPKF激光电子股份公司_202480008845.7
    本发明涉及一种热成型方法， 尤其是压力成型方法， 该方法通过成型压模(4)在基材(3)的表面(2)中形成结构， 尤其是微结构或纳米结构。为此， 基材(3)的表面(2)通过激光辐射(5)局部加热至软化温度以上， 随后利用成型力(F)以设定压力...
    2025-10-12
  • 薄膜结构及其制备方法、电子器件
    薄膜结构及其制备方法、电子器件_济南晶正电子科技有限公司_202411848951.4
    本申请提供一种薄膜结构及其制备方法、电子器件， 涉及半导体元件技术领域。该薄膜结构包括支撑结构以及设置在支撑结构上的薄膜层；薄膜层包括并列排布的铌酸锂薄膜层和掺杂铌酸锂薄膜层。本申请用于能够在降低铌酸锂晶体的电阻的同时， 也会保证电子器件的...
    2025-10-12
  • 一种长时间保持幕布展开的张紧装置
    一种长时间保持幕布展开的张紧装置_苏州黑白画映影视器材有限公司_202422887821.3
    本实用新型属于幕布张紧装置技术领域， 具体的说是一种长时间保持幕布展开的张紧装置， 包括底板与底盖；所述底板与底盖之间设置有收纳管；所述收纳管的顶部固接有螺纹环；所述螺纹环的顶部螺纹连接有伸缩杆；所述螺纹环的顶部固接有第一保护管；所述伸缩杆...
    2025-10-12
  • 一种电子束曝光机的工件台系统
    一种电子束曝光机的工件台系统_中国电子科技集团公司第四十八研究所_202410648128.2
    本发明公开了一种电子束曝光机的工件台系统， 多个调节支座均布在安装底板底部， 传动组件包括X轴传动组件和Y轴转动组件， X轴传动组件安装在安装底板上， 其输出端与连接板连接， Y轴转动组件安装在连接板上， 其输出端与用于承载工件的运动顶板连...
    2025-10-12
  • 叶片驱动装置和具有该叶片驱动装置的摄像装置
    叶片驱动装置和具有该叶片驱动装置的摄像装置_日本电产科宝株式会社_202110186246.2
    叶片驱动装置和具有该叶片驱动装置的摄像装置。提供能够进行高速拍摄的小型的叶片驱动装置。叶片驱动装置具有用于对前叶片进行开闭的前叶片驱动杆。前叶片驱动杆具有：第一杆部件， 其具有与前叶片臂连结的前叶片驱动部， 并能够以前叶片驱动轴为中心在前叶...
    2025-10-12
  • 一种荧光激发器件及装配结构
    一种荧光激发器件及装配结构_宜宾市极米光电有限公司_202422769355.9
    本实用新型涉及光源器件技术领域， 尤其涉及一种荧光激发器件及装配结构， 荧光激发器件设置用于与动力机构连接并隔热的隔件。本实用新型所述的荧光激发器件通过隔热的隔件与动力机构连接， 从而在荧光转换层受激发转换出荧光时所产生的热量不会传导到动力...
    2025-10-12
  • 一种基于机械运动和反射镜多角度拍摄的皮肤分析仪
    一种基于机械运动和反射镜多角度拍摄的皮肤分析仪_上海媚测信息科技有限公司_202511233195.9
    本发明公开了一种基于机械运动和反射镜多角度拍摄的皮肤分析仪， 涉及皮肤分析仪技术领域。包括外壳， 所述固定框内部设置有升降组件， 所述移动杆一侧设置有角度调节组件， 所述角度调节组件一侧设置有反射镜面， 所述移动杆另一侧设置有转动组件， 所...
    2025-10-12
  • 一种漏粪板自动堆叠装置
    一种漏粪板自动堆叠装置_新乡市瑞特机械有限公司_202422618669.9
    本实用新型公开了一种漏粪板自动堆叠装置， 包括两个左右对称设置的地梁， 地梁的上端均固定有两个前后对称的立柱， 两个立柱之间均固定有两个滑杆， 立柱的上端固定有上梁， 两个立柱之间均设有滑动架， 滑动架与滑杆滑动连接， 上梁为长方形， 上梁...
    2025-10-12
  • 改善光罩透过率的方法
    改善光罩透过率的方法_合光光掩模科技(安徽)有限公司_202511047347.6
    本发明提供了一种改善光罩透过率的方法， 包括：提供光罩， 光罩包括由下至上依次堆叠的基底、硅化钼层和铬层， 铬层位于光罩的不透光区， 铬层暴露出部分硅化钼层和部分基底， 暴露的硅化钼层位于光罩的第一透光区， 暴露的基底位于光罩的第二透光区，...
    2025-10-12
  • 一种用于投影仪的内循环热交换散热结构
    一种用于投影仪的内循环热交换散热结构_深圳市云之影科技有限公司_202422812855.6
    本实用新型提出一种用于投影仪的内循环热交换散热结构， 涉及投影仪散热结构技术领域， 包括前顶盖， 所述前顶盖的顶部固定连接有散热风机， 所述前顶盖的一侧固定连接有第二热面散热器和第二冷面散热器， 所述前顶盖的另一侧固定连接有第一冷面散热器和...
    2025-10-12
  • 半导体光刻胶组合物及使用所述组合物形成图案的方法
    半导体光刻胶组合物及使用所述组合物形成图案的方法_三星SDI株式会社_202510111001.1
    公开了一种半导体光刻胶组合物和使用该组合物形成图案的方法。该半导体光刻胶组合物可包括有机锡(Sn)化合物和溶剂， 该有机锡(Sn)化合物可包括被至少一个氘取代的可水解配体。
    2025-10-12
  • 扫描曝光装置、扫描曝光方法以及物品制造方法
    扫描曝光装置、扫描曝光方法以及物品制造方法_佳能株式会社_202511164139.4
    本公开涉及扫描曝光装置、扫描曝光方法以及物品制造方法。扫描曝光装置针对由照明光学系统照明的照明区域扫描原版， 并且一边与原版的扫描同步地扫描基板， 一边对基板进行扫描曝光。扫描曝光装置具备：第1调整机构， 在进行基板的第1区域的扫描曝光以及...
    2025-10-12
  • 套刻偏差处理方法、装置、设备、介质及系统
    套刻偏差处理方法、装置、设备、介质及系统_中芯国际集成电路制造(上海)有限公司_202410382266.0
    本申请涉及半导体技术领域， 尤其涉及一种套刻偏差处理方法、装置、设备、介质及系统， 该方法包括：获取与当前层关联的前后道工艺参数特征和偏差补偿模型， 并输入至偏差补偿模型进行偏差补偿处理， 得到前后道工艺参数特征对应的预测偏差补偿数据；在前...
    2025-10-12
  • 一种高稳定便携式大尺寸的银幕装置
    一种高稳定便携式大尺寸的银幕装置_东莞市晨动贸易有限公司_202422423613.8
    本实用新型涉及幕布支撑结构技术领域， 具体涉及一种高稳定便携式大尺寸的银幕装置。其特征在于， 包括幕布和支撑架， 所述幕布和所述支撑架可拆卸连接， 所述支撑架包括设置在两侧的三脚架支撑竖杆， 所述三脚架支撑竖杆的四个挂钩对角分别连接在支撑斜...
    2025-10-12
  • 投影屏幕及投影系统
    投影屏幕及投影系统_深圳光峰科技股份有限公司_202210010216.0
    本发明提供一种投影屏幕及投影系统， 投影屏幕包括基底层和微结构层， 微结构层包括多组沿第一方向设置于基底层的三棱锥周期结构， 每组三棱锥周期结构包括多个沿第二方向设置的三棱锥单元组， 每个三棱锥单元组包括相邻接的一个第一三棱锥单元和一个第二...
    2025-10-12
  • 一种纳米压印硬模的制备方法
    一种纳米压印硬模的制备方法_歌尔光学科技有限公司_202210970422.6
    本公开实施例公开了一种纳米压印硬模的制备方法。该制备方法包括：提供压印片， 所述压印片具有胶层， 所述胶层形成有第一光栅槽， 所述第一光栅槽形成设定纹路；对所述第一光栅槽进行修饰， 以形成修饰槽， 所述修饰槽的宽度大于所述第一光栅槽的宽度，...
    2025-10-12
  • 补偿高阶套刻误差的方法
    补偿高阶套刻误差的方法_上海华力集成电路制造有限公司_202211048350.6
    本发明公开了一种补偿高阶套刻误差的方法， 包括：步骤一、计算曝光后的晶圆的各段工艺制程引入的第一套刻误差。步骤二、将第一套刻误差中的晶圆级的线性套刻误差剥离并形成曝光区域级的第二套刻误差。步骤三、根据第二套刻误差对光罩写入进行修正并进行光罩...
    2025-10-12
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