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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 感光性树脂组合物及其硬化物
    感光性树脂组合物及其硬化物_日本化药株式会社_202480051408.3
    本发明是一种负型感光性树脂组合物，其含有(A)环氧树脂、(B)具有酚性羟基的化合物及(C)光阳离子聚合引发剂，其中，该(A)环氧树脂的30质量%以上为下述式(1)表示的环氧树脂(A‑1)(式(1)中，R各自独立地表示环氧丙基或氢原子，存在多...
    2026-03-16
  • 一种有机光导鼓多层涂布工艺
    一种有机光导鼓多层涂布工艺_淮安展德光电科技有限公司_202610016031.9
    本发明公开了一种有机光导鼓多层涂布工艺，其包括：基材准备、涂布阻挡层一、涂布阻挡层二、涂布产生层、涂布传输层；本发明采用无色透明阻挡层一与含颜料阻挡层一的复合结构，既增强电荷阻挡效果，又提高层间附着力，通过优化各层涂布速度、粘度、干燥条件，...
    2026-03-16
  • 一种光刻机的控制方法及光刻机、计算机可读存储介质
    一种光刻机的控制方法及光刻机、计算机可读存储介质_上海芯上微装科技股份有限公司_202411156574.8
    本发明提供了一种的光刻机及其控制方法、计算机可读存储介质，控制方法包括：判断当前位于工件台上的硅片是否为当前批的首片硅片，若是，则控制工件台运动并依次执行台调平操作、台对准操作、硅片调平操作、硅片粗对准操作、以及硅片精对准操作；若否，则基于...
    2026-03-16
  • 辅助图形生成方法、系统、设备、存储介质和程序产品
    辅助图形生成方法、系统、设备、存储介质和程序产品_北京超弦存储器研究院_202411188191.9
    本申请涉及一种辅助图形生成方法、系统、设备、存储介质和程序产品。该方法通过确定目标版图及目标版图中的特征区域，可以在特征区域形成初始辅助图形，并对初始辅助图形中尺寸大于预设尺寸的目标子图形进行优化，得到优化辅助图形。如此，通过在目标版图中特...
    2026-03-16
  • 一种投影仪光机及投影仪
    一种投影仪光机及投影仪_京东方科技集团股份有限公司_202411252964.5
    本申请涉及显示设备技术领域，公开了一种投影仪光机及投影仪，该投影仪光机包括：壳体，壳体具有内腔；光源，光源位于壳体的内腔；显示模组，显示模组位于光源的出光侧，显示模组包括液晶显示面板，液晶显示面板包括对盒设置的第一基板和第二基板，第一基板临...
    2026-03-16
  • 含有吖啶亚甲基季铵盐光敏剂的感光树脂组合物及其应用
    含有吖啶亚甲基季铵盐光敏剂的感光树脂组合物及其应用_湖南初源新材料股份有限公司_202610162096.4
    本发明提供了含有吖啶亚甲基季铵盐光敏剂的感光树脂组合物及其应用，该光敏剂的结构主体吖啶环在9位上引入季铵基团取代的亚甲基，平衡阴离子采用的是酸根或卤素。所述光敏剂通过在吖啶环9位引入季铵盐基团，有效解决了传统9‑苯基吖啶光敏剂在配方中相容性...
    2026-03-16
  • 具有穿过光罩隔室壁的保持部的光罩盒
    具有穿过光罩隔室壁的保持部的光罩盒_恩特格里斯公司_202080094226.6
    一种光罩盒包含外部分及内部分，所述外部分包含盒门及盒圆顶，所述内部分包含底板及盖。所述底板或所述盖中的一者包含朝向所述底板或所述盖中的另一者延伸的光罩隔室壁。所述光罩隔室壁包含一或多个保持特征。所述盒门或所述盒圆顶包含经配置以接触所述保持特...
    2026-03-16
  • 感光组合物及其所形成的薄膜
    感光组合物及其所形成的薄膜_财团法人工业技术研究院_202411406766.X
    本发明提供一种感光组合物及其所形成的薄膜。该感光组合物包含100重量份的脂环族环氧树脂、2.5至20重量份的具环氧基的多面体寡聚硅倍半氧烷(polyhedral oligomeric silsesquioxane，POSS)、以及1.5至1...
    2026-03-16
  • 一种高折射率纳米压印胶水及其制备方法
    一种高折射率纳米压印胶水及其制备方法_四川通元新材料科技有限公司_202610157451.9
    本发明涉及AR/VR光波导技术领域，具体涉及一种高折射率纳米压印胶水及其制备方法，包括溶剂，光引发剂和高折组分；所述高折组分包括纳米二氧化锆和丙烯酸树脂。本发明与现有产品相比，具有更高的折射率，去除溶剂后椭偏仪测试折射率为1.785(589...
    2026-03-16
  • 光掩膜缺陷图案的修正方法及相应装置
    光掩膜缺陷图案的修正方法及相应装置_成都新紫光半导体科技有限公司_202411259452.1
    本公开涉及光掩膜缺陷图案的修正方法及相应装置，其中，方法包括：获取缺陷图案的版图数据，缺陷图案为对光掩膜进行曝光处理得到的图案；根据版图数据，在光学邻近效应修正模型中构建与缺陷图案对应的多个修正图案；通过光学邻近效应修正模型模拟对光掩膜进行...
    2026-03-16
  • 基板处理方法
    基板处理方法_株式会社斯库林集团_202511264750.4
    本发明提供一种基板处理方法，能够适当地处理基板。本发明涉及处理基板(W)的基板处理方法。基板处理方法具备显影工序、处理液供给工序、固化膜形成工序及升华工序。在显影工序中，向基板(W)供给显影液(53)。在处理液供给工序中，向基板(W)供给处...
    2026-03-16
  • 一种光学组件、套刻对准设备及两镜曝光系统
    一种光学组件、套刻对准设备及两镜曝光系统_张江国家实验室_202411232254.6
    本申请涉及光刻领域，公开一种光学组件、套刻对准设备及两镜曝光系统。一种套刻对准设备包括光源、第一对准元件、两镜模组、第二对准元件、工件台、反射镜和图像处理模块；第一对准元件位于两镜模组的物侧，第一对准元件上具有第一对位标记；第二对准元件安装...
    2026-03-16
  • 镜头及摄像模组
    镜头及摄像模组_合肥联创光学有限公司_202512041751.9
    本发明涉及摄像技术领域，公开了一种镜头及摄像模组。镜头具有镜筒，镜筒包括筒壁和容纳孔，容纳孔内设有承载平面，筒壁上还开设有贯穿其的第一走线孔，第一走线孔的一端与容纳孔连通且开口位于承载平面上。隔圈包括沿光轴方向相背对的上表面和下表面，以及贯...
    2026-03-16
  • 一种具有保护结构的光掩模及其制备方法
    一种具有保护结构的光掩模及其制备方法_上海传芯半导体有限公司_202111383986.1
    本发明提供一种具有保护结构的光掩模及其制备方法，制备方法包括步骤：提供第一透光基板，在第一透光基板表面刻蚀出凹陷状的图形凹槽；于第一透光基板的图形凹槽中的形成图形掩膜层；提供第二透光基板；键合第一透光基板和第二透光基板，图形凹槽与第二透光基...
    2026-03-16
  • 抗蚀剂组合物和使用其的图案形成方法
    抗蚀剂组合物和使用其的图案形成方法_三星电子株式会社_202511243775.6
    提供抗蚀剂组合物以及使用其的图案形成方法，所述抗蚀剂组合物包括由式1表示的有机金属化合物和由式2表示的添加剂。式1和2中的M11、Rx、Ry、n、m、X2、Y2、Z2、L2、a2、b2和c2的描述提供在说明书中。
    2026-03-16
  • 投射型显示装置
    投射型显示装置_夏普NEC显示器解决方案株式会社_202390000602.X
    投射型显示装置具备：多个光调制装置，对相互不同的色光进行调制；色合成光学装置，对在多个光调制装置中调制后的多个色光进行合成；偏光板层叠部(43)，包括配置于至少一个光调制装置的光出射侧的偏光板(431)、层叠于偏光板且使光透过的散热板(43...
    2026-03-16
  • 光学临近修正方法、装置、设备及计算机可读存储介质
    光学临近修正方法、装置、设备及计算机可读存储介质_上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司_202211712344.6
    本发明涉及芯片设计领域，特别是涉及一种光学临近修正方法、装置、设备及计算机可读存储介质，通过接收原始版图信息；根据所述原始版图信息及预设的冗余修正图形库，确定在库冗余图形信息；利用所述冗余修正图形库，将所述在库冗余图形信息替换为对应的冗余修...
    2026-03-16
  • 用于辅助图形优化的方法、设备和存储介质
    用于辅助图形优化的方法、设备和存储介质_全芯智造技术股份有限公司_202511870143.2
    根据本公开的示例实施例提供了用于辅助图形优化的方法、设备和存储介质。该方法包括获取初始掩模图案，初始掩模图案包括主图形和至少一个初始辅助图形；获取多个候选辅助图形组，多个候选辅助图形组中的一个候选辅助图形组包括与主图形对应的至少一个候选辅助...
    2026-03-16
  • 基于表面等离子体灰度光刻系统的三维微纳结构制造方法及装置
    基于表面等离子体灰度光刻系统的三维微纳结构制造方法及装置_中国科学院微电子研究所_202310396852.6
    本申请公开一种基于表面等离子体灰度光刻系统的三维微纳结构制造方法及装置，涉及半导体制造领域。方法包括：获取表面等离子体灰度光刻系统在蝴蝶结纳米孔径开口处的场强空间分布特性；基于所述场强空间分布特性确定所述场强空间分布特性和蝴蝶结纳米孔径间隙...
    2026-03-16
  • 测量图案均匀性的装置和方法以及制造掩模的方法
    测量图案均匀性的装置和方法以及制造掩模的方法_三星电子株式会社_202110653917.1
    提供了测量图案均匀性的装置和方法，以及通过使用该测量方法制造掩模的方法。该测量装置包括被配置为生成并输出光的光源，被配置为支撑测量目标的平台，被配置为将从光源输出的光传送到支撑在平台上的测量目标的光学系统，以及被配置为检测由测量目标反射并衍...
    2026-03-16
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