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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 套刻标记掩膜版图形及套刻误差量测方法
    套刻标记掩膜版图形及套刻误差量测方法_重庆芯联微电子有限公司_202511847357.8
    本发明提供一种套刻标记掩膜版图形及套刻误差量测方法，通过在前层图形中引入前层辅助图形来增加前层图形的密度，有效改善CMP过程中可能产生的损伤，降低甚至避免由此导致的CMP残留，从而提高套刻误差量测的准确性和稳定性。此外，由于前层辅助子图形的...
    2026-03-29
  • 基于多芯光纤的部分相干光场产生方法及系统
    基于多芯光纤的部分相干光场产生方法及系统_苏州大学_202610229230.8
    本发明公开了一种基于多芯光纤的部分相干光场产生方法及系统，方法包括：根据目标部分相干光场的交叉谱密度函数确定多个电场模式并生成全息图；测量多芯光纤各纤芯间的相位畸变并生成补偿图；将二者叠加为合成全息图后对入射激光进行波前调制；将调制光耦合入...
    2026-03-29
  • 光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质
    光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质_中芯国际集成电路制造(天津)有限公司_202111621475.9
    一种光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质，光学邻近修正方法包括：提供初始版图层，初始版图层包括第一图形，第一图形具有沿关键尺寸方向的第一尺寸；沿关键尺寸方向，将第一图形拆分为第二图形，第二图形构成的组合图形与相对应的第一图形相同，...
    2026-03-29
  • 一种投影屏幕和投影系统
    一种投影屏幕和投影系统_青岛海信激光显示股份有限公司_202411323966.9
    本发明公开了一种投影屏幕和投影系统，包括菲涅尔透镜层，位于菲涅尔透镜层的各透镜单元表面的波长选择反射层，以及位于波长选择反射层面向观看者一侧的增透层。增透层位于投影屏幕的最表面，可以提高光线入射到投影屏幕时的透过率，从而使更多的光线可以入射...
    2026-03-29
  • 一种纳米压印母模板、母负模板、其制备方法及纳米压印对准系统
    一种纳米压印母模板、母负模板、其制备方法及纳米压印对准系统_张江国家实验室_202411330690.7
    本发明提供一种纳米压印母模板、母负模板、其制备方法及纳米压印对准系统，母模板的制备方法包括：在硅片上旋涂光刻胶；将掩膜板放置在涂有光刻胶的硅片上，利用光刻技术进行曝光、显影，在光刻胶上显现出掩膜板上的第一主体图案和第一对准图案区域，后烘坚膜...
    2026-03-29
  • 曝光装置以及曝光方法
    曝光装置以及曝光方法_京东方华灿光电(广东)有限公司_202511843075.0
    本公开提供了一种曝光装置以及曝光方法，属于半导体制造技术领域。所述曝光装置包括用于承载晶圆的曝光平台和支撑调平结构；所述支撑调平结构位于所述曝光平台的一侧，且与所述曝光平台相连，所述支撑调平结构包括用于与所述曝光平台不同区域相接触的多个支撑...
    2026-03-29
  • 一种工业安全区域投射器
    一种工业安全区域投射器_浙江炬诺电器股份有限公司_202423248560.7
    本实用新型涉及一种不仅散热效果更好，而且便于转运，同时使用效果好的一种工业安全区域投射器，包括工业投射器本体，所述工业投射器本体中的工业投射器壳体两侧分别设有一个保护框架，所述保护框架的上端面高于工业投射器壳体的上端面，所述保护框架的下端面...
    2026-03-29
  • 一种基于硅基液晶器件的全息显示方法及系统
    一种基于硅基液晶器件的全息显示方法及系统_深圳市晚成辉电子有限公司_202310470380.4
    本发明公开了一种基于硅基液晶器件的全息显示方法及系统，其方法包括：利用硅基液晶器件获取入射光的目标光信号和其对应的信号图像；基于所述目标光信号获取全息图数据；根据所述全息图数据确定信号图像中每个像素点的像素电压值；根据每个像素点的像素电压值...
    2026-03-29
  • 用于制造光掩模的系统、方法和程序产品
    用于制造光掩模的系统、方法和程序产品_美商福昌公司_202511641287.0
    用于从所获得的与在晶片上显示缺陷的光掩模相关的图案信息构建光掩模的方法和系统。对图案信息进行空间域分析，使得可以生成校正光掩模结构并可以将其应用于光掩模布局。使用校正光掩模结构来构建光掩模。验证了光掩模的有效性。
    2026-03-29
  • 感光性树脂组合物及固化浮雕图案的制造方法
    感光性树脂组合物及固化浮雕图案的制造方法_旭化成株式会社_202511358982.6
    本发明涉及感光性树脂组合物及固化浮雕图案的制造方法。[课题]本发明提供一种感光性树脂组合物，其即使在低固化温度下也能够完成聚酰胺酸酯的酰亚胺化反应，能够形成耐化学药品性提高的固化膜。[解决方案]一种感光性树脂组合物，其包含：(A)聚酰胺酸酯...
    2026-03-29
  • 一种感光材料板涂覆装置
    一种感光材料板涂覆装置_河南汇达印通科技股份有限公司_202521159868.6
    本发明涉及感光材料板生产设备技术领域，名称是感光材料板涂覆装置，包括装置架，在装置架上具有输送电机带动的输送辊轮，在装置架上还安装有连接电机的辊轮带动的覆盖带，所述的覆盖带是橡胶制成的，所述的覆盖带包括基层和基层上面的凸起，所述的凸起包括基...
    2026-03-29
  • 位置调节装置及其装调方法、位置调节方法
    位置调节装置及其装调方法、位置调节方法_中国科学院光电技术研究所_202511957573.8
    本发明涉及半导体设备领域，具体涉及一种位置调节装置及其装调方法、位置调节方法，装置包括微动台主体，微动台上层主体和微动台下层主体之间通过柔性铰链结构进行连接，微动台下层主体用于安装待调平件，柔性铰链结构用于待调平件的调平和导向；至少三组弹簧...
    2026-03-29
  • 制造透过型的光学元件的制造方法、曝光装置、物品制造方法以及透过型的光学元件
    制造透过型的光学元件的制造方法、曝光装置、物品制造方法以及透过型的光学元件_佳能株式会社_202110689013.4
    本发明提供制造透过型的光学元件的制造方法、曝光装置、物品制造方法以及透过型的光学元件。该制造方法的特征在于：具有在上述光学元件的表面形成防反射膜的第1工序和将在上述第1工序形成的上述防反射膜在上述防反射膜的厚度方向除去的第2工序，在上述第2...
    2026-03-29
  • 投影屏幕以及投影设备
    投影屏幕以及投影设备_青岛海信激光显示股份有限公司_202310094352.7
    本申请公开了一种投影屏幕以及投影设备，属于投影技术领域。所述投影屏幕包括：投影幕布、卷帘组件以及卷筒组件，其中的卷帘组件包括沿远离所述卷筒组件的方向依次活动连接的多个卷帘片，且这多个卷帘片中的至少一个卷帘片为柔性卷帘片，该卷帘组件可以对投影...
    2026-03-29
  • 一种便携式胶卷显影罐
    一种便携式胶卷显影罐_广州星光相机摄影器材有限公司_202520984160.8
    本实用新型公开了一种便携式胶卷显影罐，包括遮光罐体、底座、遮光盖、把手和传动轴，底座固定在罐体内，底座具有容纳胶卷下部的空间，遮光盖安装在遮光罐体上，遮光盖上有孔，传动轴一端穿过遮光盖上的孔与把手固定连接，另一端具有与胶卷轴芯卡接匹配的卡口...
    2026-03-29
  • 一种方形的循环换图结构
    一种方形的循环换图结构_东莞市尺度电子科技有限公司_202520773742.1
    本实用新型公开了投影片领域的一种方形的循环换图结构，包括载片板，所述载片板上等间距开设有多排过孔，所述载片板上位于所述过孔内部安装有菲林片投影卡，所述载片板外围设置用用于承载安装载片板的载图像载板，所述载图像载板上方固定连接有多个固定柱，所...
    2026-03-29
  • 一种胶卷显影罐
    一种胶卷显影罐_广州星光相机摄影器材有限公司_202520984155.7
    本实用新型公开了一种胶卷显影罐，包括遮光罐体、遮光盖、把手、传动轴和冲洗轴芯，遮光罐体内设有胶卷容纳空间，冲洗轴芯与胶卷容纳空间并排设置在遮光罐体内，遮光盖安装在遮光罐体上，遮光盖上有孔，传动轴一端穿过遮光盖上的孔与把手固定连接，另一端与冲...
    2026-03-29
  • 投影设备
    投影设备_青岛海信激光显示股份有限公司_202411328532.8
    本申请公开了一种投影设备，属于投影技术领域。该投影设备包括：激光光源、LED光源、合光镜组、光机装置和投影镜头。在将投影设备应用在车辆内后，因激光光源出射的第一类激光的颜色为红色激光，所以在投影设备所处环境温度较高的情况下，激光光源中用于出...
    2026-03-29
  • 光刻掩膜板、金属膜层结构制备方法及金属膜层结构
    光刻掩膜板、金属膜层结构制备方法及金属膜层结构_长春长光辰谱科技有限公司_202511770395.8
    本发明涉及镀膜技术领域，尤其涉及光刻掩膜板、金属膜层结构制备方法及金属膜层结构，光刻掩模板包括：第一掩膜板中心位置设置有圆形通孔；第二掩膜板与第一掩膜板相对设置；其中，第一掩膜板与第二掩膜板共同构成一容纳空间，用于固定曲面基底；第一掩膜板具...
    2026-03-29
  • 光致抗蚀剂组合物及图案形成方法
    光致抗蚀剂组合物及图案形成方法_罗门哈斯电子材料有限责任公司_202111682535.8
    本文公开一种图案形成方法，该方法包括：(a)在半导体基底上施加光致抗蚀剂组合物层，(b)以图案化的方式使该光致抗蚀剂组合物层曝光于i线辐射；以及(c)使该曝光的光致抗蚀剂组合物层显影以提供抗蚀剂浮雕图像；其中该光致抗蚀剂组合物包含非离子型光...
    2026-03-29
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