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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
图像形成装置
在图像形成装置中,第一定影构件具有辊。第二定影构件具有带以与第一定影构件一起形成夹持部。第一马达驱动辊。压力修改机构将夹持部处的夹持压力修改为第一夹持压力和小于第一夹持压力的第二夹持压力中的选定的一个。在夹持压力为第二夹持压力的状态下接收到...
定影带、定影装置以及图像形成装置
本申请涉及定影带、定影装置以及图像形成装置。定影带具有:外周面的酰亚胺化率比厚度方向中央部低的环状的聚酰亚胺树脂基材层;设于上述聚酰亚胺树脂基材层的外周面上的金属层;以及设于上述金属层的外周面上的弹性层。
一种基于无干涉编码孔径相关全息术的水下偏振成像装置及方法
本发明公开了一种基于无干涉编码孔径相关全息术的水下偏振成像装置及方法,属于计算光学成像领域。其技术方案为:基于无干涉编码孔径相关全息系统,利用两条光路,通过正交偏振双光路(0°和90°)同步采集目标物全息图和点扩展函数,利用水下偏振成像模型...
图像形成装置
在图像形成装置中,第一定影构件具有辊。第二定影构件具有带以与第一定影构件一起形成夹持部。压力修改机构将夹持部处的夹持压力修改为第一夹持压力和小于第一夹持压力的第二夹持压力中的选择的一个。控制器驱动第一马达以驱动辊,并且在夹持压力为第一夹持压...
处理盒及处理盒的安装方法
本申请涉及电子成像技术领域,尤其涉及一种处理盒及处理盒的安装方法。该处理盒包括粉仓部分和废粉仓部分,处理盒可拆卸地安装在电子成像装置中,电子成像装置内设置有可以在竖直方向伸缩的凸起,处理盒还包括活动部件,活动部件可活动地设置于处理盒,在处理...
一种水下成像系统折射矫正装置
本实用新型涉及光学技术领域,具体公开了一种水下成像系统折射矫正装置;包括镜筒和设于所述镜筒内部的多个镜片,镜片包括调节镜片和成像镜片;镜筒内部设有若干尺寸不同的凸台,若干凸台将所述镜筒内部分隔为若干个尺寸不同的镜片安置槽;遮光头在远离镜筒的...
感光性树脂组合物、彩色滤光片及其制造方法、液晶显示装置
本发明提供一种感光性树脂组合物、彩色滤光片及其制造方法、液晶显示装置。感光性树脂组合物包括:包括三苯甲烷系着色剂(A‑1)的着色剂(A)、碱可溶性树脂(B)、具有乙烯性不饱和基的化合物(C)、光起始剂(D)、以及溶剂(E),其中所述感光性树...
一种通过物体振动获得动能的自旋动力装置
本发明公开了一种通过物体振动获得动能的自旋动力装置,包括框架,框架设有动力输入轴一、动力输入轴二、动力连杆一、动力连杆二、动力输出轴一、动力输出轴二,动力输入轴一与动力输入轴二平行设置于框架上,动力连杆一、动力连杆二均传动连接于动力输入轴一...
光学组件和投影仪
本申请实施例提供一种光学组件和投影仪,光学组件包括:灯板,其上设置有灯珠;导光板,所述导光板具有依次连接的四个侧面以及与所述四个侧面连接的第一端面,至少一个侧面设置有所述灯板,所述灯珠发出的光自所述侧面经所述导光板匀光和聚光后至所述第一端面...
一种掩膜版检测装置
本实用新型涉及检测装置技术领域,且公开了一种掩膜版检测装置,包括:检测箱其内部设置有放置板,用于放置掩膜版;风机设置于检测箱的外侧壁;吸风口设置于检测箱的内侧的壁,并与风机连接;检测箱的内部设置有清理组件,清理组件包括:横杆一端插入检测箱的...
新型化学增幅正性光致抗蚀剂组合物及其制备
本发明涉及新型聚合物和含有所述聚合物的组合物,从而提供基于聚合物的光致抗蚀剂用于光刻法例如KrF中的不同应用。本发明的光致抗蚀剂组合物包含乙酰氧基苯乙烯共聚物和羟基苯乙烯共聚物的混合物。
一种放置稳定的投影仪
本实用新型涉及投影仪产品技术领域,公开了一种放置稳定的投影仪,该投影仪包括投影壳体、设置于投影壳体内部的控制模块以及至少一个增稳组件,该控制模块包括光源组件以及与光源组件配合的光路组件,光路组件两侧分别设置有第一散热风机和第二散热风机,第一...
一种近场光刻掩模平坦化方法
本发明属于半导体制造技术领域,并具体公开了一种近场光刻掩模平坦化方法,通过在掩模具有图形结构的表面进行一次沉积形成填充图形结构的介质层,再将介质层进行一次平坦化处理后,通过二次沉积和分区控制二次平坦化介质层,不仅能够有效保护图形结构,降低光...
一种喷墨型纳米压印胶、制备方法及其应用
本发明提供一种喷墨型纳米压印胶、制备方法及其应用,按照喷墨型纳米压印胶的质量百分比计,喷墨型纳米压印胶包括6wt%~13wt%的功能低聚物、5wt%~8wt%的功能单体和79wt%~87wt%的稀释剂。本发明采用稀释剂调整粘度,通过功能低聚...
光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质
一种光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质,光学邻近修正方法包括:提供目标图形;将目标图形的边分割为多个第一线段,包括两端点、位于两端点间的第一采样点;利用第一线段,对目标图形进行第一光学邻近修正处理,形成第一初始修正后图形、相应第...
掩膜制备方法及图案化方法
本公开实施例提供一种掩膜制备方法及图案化方法,包括:提供基板、模板以及微纳米颗粒;将微纳米颗粒组装于第一表面或者第二表面以形成微纳米颗粒层;将模板和基板叠置,使微纳米颗粒层位于第一表面与第二表面之间;对模板和基板进行压合;将模板与基板分离,...
光学邻近效应修正方法、装置、存储介质及电子设备
本申请公开了一种光学邻近效应修正方法、装置、存储介质及电子设备,其中,该光学邻近效应修正方法包括获取待修正掩膜版图;对待修正掩膜版图的掩膜边界进行离散化处理,得到若干第一边界段;基于霍普金斯光学传递矩阵,计算每条第一边界段的雅可比矩阵;将雅...
一种正性光刻胶
本发明属于光刻胶技术领域,具体涉及一种正性光刻胶。以正性光刻胶原料质量计,所述光刻胶原料包括:10‑25wt%的酚醛树脂;1‑10wt%的重氮类化合物;1‑7wt%的酚羟基化合物;70‑85wt%的溶剂;所述溶剂包括主溶剂和辅助溶剂;所述主...
一种利于散热的投影仪
本实用新型涉及投影仪技术领域,公开了一种利于散热的投影仪,包括投影壳体;光源组件,包括设置于所述投影壳体内的电路基板和设置于所述电路基板正面的LED芯片;散热组件,包括百叶窗、散热基座和至少一个散热铜管,所述散热基座贴合设置于所述电路基板背...
一种基于阵列式喷雾水幕的3D全息投影系统
本发明公开了一种基于阵列式喷雾水幕的3D全息投影系统,涉及3D全息投影技术领域,本发明通过采用基于数据驱动的方式,对初始3D全息投影的质量进行系统性分析,并据此判断是否需要对喷雾阵列预设的喷射力度及角度进行调整,相较于以往技术中通常依赖人工...
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