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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 一种显影盒,用于可拆卸地安装于图像形成装置,包括:盒体,用于容纳显影剂,其在第一方向上具有第一端和第二端;显影辊,其绕沿第一方向延伸的轴线可旋转地设置在盒体上;显影辊包括辊轴以及随辊轴旋转的辊主体;存储介质,包括设置在第一端的电接触面;电极...
  • 本发明涉及有机膜形成用组成物、图案形成方法、以及聚合物。本发明提供一种有机膜形成用组成物,其含有碳含量高而有热硬化性的聚合物,会展现高蚀刻耐性、优良的扭曲耐性,并提供使用此有机膜形成用组成物的图案形成方法,及适合此有机膜形成用组成物的聚合物...
  • 本公开提供一种电子束邻近效应和刻蚀负载效应联合校正方法及掩模版,涉及半导体制造技术领域。电子束邻近效应和刻蚀负载效应联合校正方法包括:基于电子束邻近效应对待校正版图进行校正,得到第一校正版图,第一校正版图为对待校正版图补偿电子束邻近效应导致...
  • 本发明提供了一种新型场序单LCD投影机,包括按光线行进方向依次设置的LED光源、收集准直装置、合光滤色装置、中间反射镜、聚焦装置、均光装置、出射透镜组、LCD光阀和场镜、成像反射镜和投影镜头。所述LED光源包括红色光源、绿色光源和蓝色光源。...
  • 本发明提供一种基片热处理装置、基片热处理方法和存储介质。基片热处理装置包括:能够对形成有覆膜的基片进行支承和加热的加热部;将所述加热部上的处理空间与外部空间隔开的腔室;外周排气部,其在比所述基片的周缘靠外侧的位置具有朝向所述处理空间内的开口...
  • 本公开提供了一种光罩及对准方法,涉及半导体技术领域。所述光罩包括:N个子光罩,N个子光罩依次曝光后形成的曝光区域按预定方式相邻排布;其中,N个子光罩中两个子光罩分别为第一子光罩和第二子光罩,第一子光罩对应的曝光区域与第二子光罩对应的曝光区域...
  • 本实用新型提供了一种柔光罩及灯光系统,该柔光罩包括连接座、伞骨以及伞面,连接座包括主体架、旋转架以及卡接臂。其中,旋转架恩能够相对主体架转动,卡接臂能够与主体架的卡口卡接,使得伞面能够打开,卡接臂能够与主体架的开口脱离卡接,而使伞面收起。本...
  • 本实用新型提供了一种幕布挂钩,属于挂钩技术领域。该幕布挂钩包括:幕布轴挂接件、挂轴连接件及插接件。幕布轴连接件包括弧形卡接部和连接部,弧形卡接部用于与幕布的幕布轴卡合,连接部固定在弧形卡接部远离幕布轴一侧。挂轴连接件包括用于挂接在待安装挂轴...
  • 提供一种薄膜组件,包括薄膜边框、薄膜与薄膜框架。薄膜由薄膜边框支撑,其中薄膜包括第一致密化碳基层,第一致密化碳基层包括第一影像区域。薄膜框架与薄膜相邻,薄膜框架包括第二致密化碳基层,第二致密化碳基层包括第二影像区域。
  • 本实用新型公开一种防变形的印刷版材,涉及印刷版技术领域。该防变形的印刷版材,通过设置印版护套机构和两个防变形条,该印刷版在保存时,将其从盒体的前端敞口送入盒体的内部,在这个过程中,板体两侧的防变形条需要分别位于两侧的上夹持条和下夹持条之间,...
  • 本发明公开了一种用于干膜微结构的显影方法及制备方法,涉及半导体集成电路制造技术领域。干膜微结构包括至少两层干膜层,每层干膜层形成有沿其厚度方向贯穿的通道,相邻两层干膜层中的通道连通,各个干膜层中的通道孔径设置成由下至上依次减小且相邻两个通道...
  • 本发明公开了一种耦合重力储能的新能源发电系统,涉及重力储能技术领域,包括底板,所述底板上设有发电模块以及储能模块,所述底板上还设有可摆动式的摆动模块,所述摆动模块上设有传动模块;在所述摆动模块利用重力往复摆动时,以带动所述传动模块运动,从而...
  • 本申请公开了光圈组件和投影装置,其中光圈组件包括基座、多个活动叶片、第一SMA驱动线和第二SMA驱动线。基座具有透光孔。多个活动叶片沿透光孔的周向排列且分别与基座可活动连接,以能够相对于基座在第一位置和第二位置之间运动。多个活动叶片在第一位...
  • 本实用新型公开了一种投影设备,包括发热器件、散热器、热管、第一固定片、第一固定块,所述热管的第一端连接所述发热器件,第二端连接所述散热器,所述第一固定块固定连接在所述散热器上,所述第一固定片固定于所述第一固定块背离所述散热器的一侧,且所述第...
  • 本发明公开了一种套刻测量装置,该套刻测量装置包括测量室、测量机构和调控机构,测量室用于放置具有套刻标记的晶圆,测量机构设置在测量室内,用于测量晶圆的套刻标记,调控机构用于调控测量室的温度。具体地,当需要对晶圆进行检测时,将晶圆放置在测量室内...
  • 本公开涉及半导体技术领域,提供一种套刻误差的量测方法,用于解决如何高效且精确地量测当前层和前一层之间的套刻误差的技术问题。该量测方法包括:获取半导体结构中的第一导电图案和第二导电图案的第一扫描图像;根据第一扫描图像,确定第二导电图案和第一导...
  • 本实用新型公开了一种高精度调节曝光光强的曝光机,包括:曝光台、曝光组件和滑动组件,所述曝光组件包括光源、镜片组件和滤光片,所述镜片组件包括第一凹面镜、第一平面镜、第二平面镜和第二凹面镜,所述光源设置在所述第一凹面镜的底部,所述光源发射光线依...
  • 本实用新型提供了一种可调节的镜头C型接口,属于光学镜头技术领域。包括镜筒限位件和相机连接件;镜筒限位件包括第一连接盘和同轴固定设置在第一连接盘一侧的第一环形台阶;相机连接件包括第二连接盘和同轴固定设置在第二连接盘一侧的第二环形台阶,第二环形...
  • 一种光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质,修正方法包括:提供修正后图形;检测修正后图形是否具有缺陷;在修正后图形具有缺陷的情况下,对修正后图形进行动态的修复处理,动态的循环迭代的修复处理中的调整量根据缺陷动态调整,修正后图形具有一...
  • 本发明公开了一种旋转式电动镜头除水设备,包括镜头除水设备主体和设置在镜头除水设备主体的底部的密封盖板,以及设置镜头除水设备主体与密封盖板之间的玻璃片;镜头除水设备主体包括壳体,设置在壳体内侧的驱动装置,转动轴套,支撑装置;壳体的顶部设置有通...
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