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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 显影盒
    显影盒_中山市鸿芃泰塑胶模具科技有限公司_202422843128.6
    本实用新型涉及可拆卸地安装在成像设备中的显影盒，该显影盒包括：壳体，形成有用于容纳显影剂的腔体；显影辊，可旋转地设置在壳体中，用于承载显影剂，具有沿第一方向延伸的旋转轴线，与第一方向相交的方向为第二方向；把手，与壳体连接，沿第二方向，显影盒...
    2025-09-11
  • 图像形成装置
    图像形成装置_佳能株式会社_202211121721.9
    本发明公开一种图像形成装置。所述图像形成装置包括被固定于图像形成装置并且被配置为引导由辊对排出的片材的上表面的上部引导单元，被设置在从图像形成装置的上部外壳单元凹陷的位置的堆叠单元，以及包括显示单元的操作单元。被排出的片材堆叠在所述堆叠单元...
    2025-09-11
  • 一种实现近距离成像的展台结构
    一种实现近距离成像的展台结构_深圳雅博创新有限公司_202422861143.3
    本申请公开了一种实现近距离成像的展台结构，包括LCD光机和拉近模组，所述LCD光机用于投影原始图像源，所述拉近模组用于调整经过的投影光线的焦距以降低投影成像的距离，所述拉近模组包括至少两个拉近镜片组件，所述拉近镜片组件为菲涅尔透镜、球面透镜...
    2025-09-11
  • 一种广角星空投影灯
    一种广角星空投影灯_杨驰_202422886303.X
    本实用新型公开了一种广角星空投影灯，包括主体、光源、菲林托盘和投影镜头，菲林托盘可分离地插入至光源和投影镜头之间形成的空间中；光源和菲林托盘之间配置有聚光装置，聚光装置适于将光源发出的光线聚集在菲林所在的区域内；投影镜头内在菲林的投影方向上...
    2025-09-11
  • 一种中温光热储热耦合高温电加热的发电系统
    一种中温光热储热耦合高温电加热的发电系统_中国长江三峡集团有限公司_202510889793.5
    本发明涉及光热发电及熔盐电加热技术领域，公开了一种中温光热储热耦合高温电加热的发电系统，包括：聚光集热模块、储能模块和动力发电模块。储能模块中的中温储能装置和高温储能装置分别与聚光集热模块的换热进口、出口连接，电加热装置与高温储能装置连接。...
    2025-09-11
  • 一种投影屏幕及投影屏幕汇聚点变化拟合方法
    一种投影屏幕及投影屏幕汇聚点变化拟合方法_成都菲斯特科技有限公司_202210235067.8
    本发明公开一种投影屏幕，投影屏幕上设置有用于汇聚投影光线的微结构层，所述微结构层包括在投影屏幕的平面方向上呈同心圆环状排列的截面呈锯齿状的若干单元透镜，每个单元透镜分别将投影光线汇聚至一个汇聚点，所有的汇聚点都处于垂直于投影屏幕的同一直线上...
    2025-09-11
  • 测量装置、测量方法和制造器件的方法
    测量装置、测量方法和制造器件的方法_ASML荷兰有限公司_202480011912.0
    一种用于测量衬底的测量装置，所述测量装置包括：光学传感器，所述光学传感器被配置为通过发射光束对衬底的表面进行测量；流体供应装置，所述流体供应装置被配置为供应调节流体，所述调节流体横穿所述光束并在位于所述测量装置与所述衬底的表面之间的狭缝中流...
    2025-09-11
  • 一种阻焊干膜及其制备方法
    一种阻焊干膜及其制备方法_广东硕成科技股份有限公司_202111090529.3
    本发明涉及G03F技术领域，更具体地，本发明涉及一种阻焊干膜及其制备方法。阻焊干膜，按重量份计，制备原料包括15‑40份酸酐改性环氧丙烯酸树脂、20‑30份丙烯酸酯、10‑20份固化剂、1‑10份光引发剂、2‑40份溶剂。本申请得到的阻焊干...
    2025-09-11
  • 一种感光性树脂组合物及光刻胶
    一种感光性树脂组合物及光刻胶_常州强力电子新材料股份有限公司_201910937146.1
    本发明提供了一种感光性树脂组合物及光刻胶。该感光性树脂组合物包括树脂，树脂包括至少两种感光性树脂，两种感光性树脂各自独立地具有结构式I所示结构，且其中一种感光性树脂为高分子量感光性树脂且其重均分子量为6300～7800，另一种感光性树脂低分...
    2025-09-11
  • 一种黄光蚀刻方法
    一种黄光蚀刻方法_伯恩光学(惠州)有限公司_202510717861.X
    本发明公开了一种黄光蚀刻方法，属于超薄脆性材料精密加工技术领域。本方案首先在基材的待加工面制备耐强碱的保护层，然后在保护层上制备光阻层，通过黄光工艺在光阻层上形成纹理图案，接着去除纹理图案下露出的保护层、根据纹理图案对基材进行第一次碱性蚀刻...
    2025-09-11
  • 一种收纳体积小的投影幕支架
    一种收纳体积小的投影幕支架_深圳市福佑铭信息技术有限公司_202422809445.6
    本实用新型公开了一种收纳体积小的投影幕支架，包括连接盘、多根第一支撑杆和两根支腿，所述第一支撑杆与连接盘旋转连接，多根所述第一支撑杆环绕连接盘的外侧排布，所述第一支撑杆上设有第一弹性挂件，所述第一弹性挂件上延伸有第一卡扣，所述第一卡扣卡入第...
    2025-09-11
  • 一种安装结构、镜头组件与拍摄设备
    一种安装结构、镜头组件与拍摄设备_影石创新科技股份有限公司_202422438236.5
    本公开提供了一种安装结构、镜头组件与拍摄设备，该安装结构用于拍摄设备的支架与盖体的拆装，安装结构包括锁紧结构，锁紧结构包括分别设置于盖体和支架的限位凹部和限位件，限位件包括可伸入或退出限位凹部的限位凸部。
    2025-09-11
  • 用于仪器放大器的增益控制电路和方法
    用于仪器放大器的增益控制电路和方法_半导体元件工业有限责任公司_202010750652.2
    本发明公开了一种具有电子可调增益的仪器放大器。通过电子地控制耦接到该仪器放大器的反馈部分的电阻来调节该增益。通过由在该仪器放大器的输入处出现的共模电压的电阻器控制信号基准控制的开关来调节该电阻。因此，该仪器放大器能够适应共模电压的高电压范围...
    2025-09-11
  • 一种光刻胶减压干燥装置
    一种光刻胶减压干燥装置_苏州欧名欣电子科技有限公司_202422864649.X
    本实用新型提供一种光刻胶减压干燥装置，尤其涉及半导体生产技术领域，包括箱体，该光刻胶减压干燥装置，在使用时，将涂胶后的半导体放置在放置板上，然后关闭箱体，启动第一真空泵，打开控制阀，通过第一抽气管将箱体内的气体吸出，并排出，从而实现减压干燥...
    2025-09-11
  • 调整模块、光机模块及投影装置
    调整模块、光机模块及投影装置_中强光电股份有限公司_202410532405.3
    一种调整模块、光机模块及包括调整模块及光机模块的投影装置。投影装置包含光源模块，光源模块提供照明光束。光机模块用以接收照明光束，光机模块将照明光束转换为影像光束。调整模块位于光源模块与光机模块的入光部之间。光源模块锁固于调整模块的基板。调整...
    2025-09-11
  • 确定采样方案的方法、相关联的设备以及计算机程序
    确定采样方案的方法、相关联的设备以及计算机程序_ASML荷兰有限公司_202180023410.6
    公开了一种确定采样方案的方法。该方法包括获得并行传感器描述，基于所述并行传感器描述和潜在量测位置来识别多个候选获取配置。在评估度量方面评估每个所述候选获取配置，并且基于所述评估来选择候选获取配置。将所选择的获取配置的相应量测位置添加到采样方...
    2025-09-11
  • 一种便携式摄影箱
    一种便携式摄影箱_砀山县陡兴网络科技有限公司_202422926517.5
    本实用新型公开了一种便携式摄影箱，涉及摄影箱领域，包括箱板。本实用新型通过设置有箱板、把手、移动槽、转动板、第一转动轴和第二转动轴，代替了现有技术多组板块拼接安装的方式，无需工作人员进行拼装，只需拉动把手使得转动板发生转动，在阻尼转轴的作用...
    2025-09-11
  • 一种套刻误差补偿方法及系统
    一种套刻误差补偿方法及系统_上海芯东来半导体科技有限公司_202511115280.5
    本发明提供一种套刻误差补偿方法及系统。所述方法包括：STEP1：获取目标硅片的每个曝光场中心标记的X向坐标设定值、Y向坐标设定值、X向套刻误差和Y向套刻误差；STEP2：获取所述目标硅片的每个标记的X向坐标设定值、Y向坐标设定值、X向套刻误...
    2025-09-11
  • 一种防止漏光的相位移掩膜及其应用方法
    一种防止漏光的相位移掩膜及其应用方法_和舰芯片制造(苏州)股份有限公司_202410242495.2
    本发明涉及相位移掩膜生产技术领域，公开了一种防止漏光的相位移掩膜，掩膜包括多个主图形区、划片道区以及漏光保护区，每一个主图形区包括白区和图案区，划片道区由下至上依次包括透明基板、部分透光层和不透光挡层，漏光保护区设置于划片道区最外围切割道的...
    2025-09-11
  • 一种曝光装置
    一种曝光装置_迪盛微(江苏)装备科技有限公司_202422653349.7
    本实用新型提供了一种曝光装置，属于曝光技术领域。该曝光装置包括：工作台、多个标记灯组件、多个辅助灯组件、视觉组件、曝光组件。其中工作台包括用于放置待曝光工件的预设区域；多个标记灯组件设置在预设区域内，待曝光工件正面曝光时在待曝光工件的反面形...
    2025-09-11
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