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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 感光性树脂组合物、彩色滤光片及其制造方法、液晶显示装置
    感光性树脂组合物、彩色滤光片及其制造方法、液晶显示装置_奇美实业股份有限公司_202510095515.2
    本发明提供一种感光性树脂组合物、彩色滤光片及其制造方法、液晶显示装置。感光性树脂组合物包括：包括三苯甲烷系着色剂(A‑1)的着色剂(A)、碱可溶性树脂(B)、具有乙烯性不饱和基的化合物(C)、光起始剂(D)、以及溶剂(E)，其中所述感光性树...
    2025-08-13
  • 一种通过物体振动获得动能的自旋动力装置
    一种通过物体振动获得动能的自旋动力装置_郭奠国_202510789263.3
    本发明公开了一种通过物体振动获得动能的自旋动力装置，包括框架，框架设有动力输入轴一、动力输入轴二、动力连杆一、动力连杆二、动力输出轴一、动力输出轴二，动力输入轴一与动力输入轴二平行设置于框架上，动力连杆一、动力连杆二均传动连接于动力输入轴一...
    2025-08-13
  • 光学组件和投影仪
    光学组件和投影仪_惠州TCL移动通信有限公司_202510872990.6
    本申请实施例提供一种光学组件和投影仪，光学组件包括：灯板，其上设置有灯珠；导光板，所述导光板具有依次连接的四个侧面以及与所述四个侧面连接的第一端面，至少一个侧面设置有所述灯板，所述灯珠发出的光自所述侧面经所述导光板匀光和聚光后至所述第一端面...
    2025-08-13
  • 一种放置稳定的投影仪
    一种放置稳定的投影仪_深圳市杰奇科技创新有限公司_202422375029.X
    本实用新型涉及投影仪产品技术领域，公开了一种放置稳定的投影仪，该投影仪包括投影壳体、设置于投影壳体内部的控制模块以及至少一个增稳组件，该控制模块包括光源组件以及与光源组件配合的光路组件，光路组件两侧分别设置有第一散热风机和第二散热风机，第一...
    2025-08-13
  • 一种近场光刻掩模平坦化方法
    一种近场光刻掩模平坦化方法_中国科学院光电技术研究所_202510880061.X
    本发明属于半导体制造技术领域，并具体公开了一种近场光刻掩模平坦化方法，通过在掩模具有图形结构的表面进行一次沉积形成填充图形结构的介质层，再将介质层进行一次平坦化处理后，通过二次沉积和分区控制二次平坦化介质层，不仅能够有效保护图形结构，降低光...
    2025-08-13
  • 一种掩膜版检测装置
    一种掩膜版检测装置_苏州瑞而美光电科技有限公司_202422507536.4
    本实用新型涉及检测装置技术领域，且公开了一种掩膜版检测装置，包括：检测箱其内部设置有放置板，用于放置掩膜版；风机设置于检测箱的外侧壁；吸风口设置于检测箱的内侧的壁，并与风机连接；检测箱的内部设置有清理组件，清理组件包括：横杆一端插入检测箱的...
    2025-08-13
  • 新型化学增幅正性光致抗蚀剂组合物及其制备
    新型化学增幅正性光致抗蚀剂组合物及其制备_上海艾深斯科技有限公司_202310692140.9
    本发明涉及新型聚合物和含有所述聚合物的组合物，从而提供基于聚合物的光致抗蚀剂用于光刻法例如KrF中的不同应用。本发明的光致抗蚀剂组合物包含乙酰氧基苯乙烯共聚物和羟基苯乙烯共聚物的混合物。
    2025-08-13
  • 一种镜头老化后的曝光图形补偿方法
    一种镜头老化后的曝光图形补偿方法_源卓微纳科技(苏州)股份有限公司_202410163729.4
    本发明公开了一种镜头老化后的曝光图形补偿方法，步骤1：对掩膜图形A进行曝光形成曝光图形，将曝光图形与掩膜图形A进行对比形成X补偿表、Y补偿表；步骤2：遍历待曝光掩膜图形的每条边，获取每条边端点的坐标；步骤3：根据端点的坐标在X补偿表、Y补偿...
    2025-08-13
  • 一种时域可控的超快成像装置及方法
    一种时域可控的超快成像装置及方法_武汉大学_202510656330.4
    本发明公开一种时域可控的超快成像装置及方法，装置包括：超短脉冲激光器，用于产生设定的超短激光脉冲；时域整形单元，用于对所述超短激光脉冲进行时域调制，获得具有设定帧间隔的脉冲序列作为探测光，所述脉冲序列中的各个子脉冲具有不同的波长；成像单元，...
    2025-08-13
  • 一种喷墨型纳米压印胶、制备方法及其应用
    一种喷墨型纳米压印胶、制备方法及其应用_张江国家实验室_202410161298.8
    本发明提供一种喷墨型纳米压印胶、制备方法及其应用，按照喷墨型纳米压印胶的质量百分比计，喷墨型纳米压印胶包括6wt％～13wt％的功能低聚物、5wt％～8wt％的功能单体和79wt％～87wt％的稀释剂。本发明采用稀释剂调整粘度，通过功能低聚...
    2025-08-13
  • 光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质
    光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质_中芯国际集成电路制造(上海)有限公司_202110988906.9
    一种光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质，光学邻近修正方法包括：提供目标图形；将目标图形的边分割为多个第一线段，包括两端点、位于两端点间的第一采样点；利用第一线段，对目标图形进行第一光学邻近修正处理，形成第一初始修正后图形、相应第...
    2025-08-13
  • 掩膜制备方法及图案化方法
    掩膜制备方法及图案化方法_清华大学_202410154118.3
    本公开实施例提供一种掩膜制备方法及图案化方法，包括：提供基板、模板以及微纳米颗粒；将微纳米颗粒组装于第一表面或者第二表面以形成微纳米颗粒层；将模板和基板叠置，使微纳米颗粒层位于第一表面与第二表面之间；对模板和基板进行压合；将模板与基板分离，...
    2025-08-13
  • 光学邻近效应修正方法、装置、存储介质及电子设备
    光学邻近效应修正方法、装置、存储介质及电子设备_华芯程(杭州)科技有限公司_202510706877.0
    本申请公开了一种光学邻近效应修正方法、装置、存储介质及电子设备，其中，该光学邻近效应修正方法包括获取待修正掩膜版图；对待修正掩膜版图的掩膜边界进行离散化处理，得到若干第一边界段；基于霍普金斯光学传递矩阵，计算每条第一边界段的雅可比矩阵；将雅...
    2025-08-13
  • 一种正性光刻胶
    一种正性光刻胶_北京北旭电子材料有限公司_202510565503.1
    本发明属于光刻胶技术领域，具体涉及一种正性光刻胶。以正性光刻胶原料质量计，所述光刻胶原料包括：10‑25wt％的酚醛树脂；1‑10wt％的重氮类化合物；1‑7wt％的酚羟基化合物；70‑85wt％的溶剂；所述溶剂包括主溶剂和辅助溶剂；所述主...
    2025-08-13
  • 一种利于散热的投影仪
    一种利于散热的投影仪_深圳市杰奇科技创新有限公司_202422367268.0
    本实用新型涉及投影仪技术领域，公开了一种利于散热的投影仪，包括投影壳体；光源组件，包括设置于所述投影壳体内的电路基板和设置于所述电路基板正面的LED芯片；散热组件，包括百叶窗、散热基座和至少一个散热铜管，所述散热基座贴合设置于所述电路基板背...
    2025-08-13
  • 一种基于阵列式喷雾水幕的3D全息投影系统
    一种基于阵列式喷雾水幕的3D全息投影系统_厦门哆想数字技术有限公司_202510908387.9
    本发明公开了一种基于阵列式喷雾水幕的3D全息投影系统，涉及3D全息投影技术领域，本发明通过采用基于数据驱动的方式，对初始3D全息投影的质量进行系统性分析，并据此判断是否需要对喷雾阵列预设的喷射力度及角度进行调整，相较于以往技术中通常依赖人工...
    2025-08-13
  • 用于使图案形成装置放电的系统和方法
    用于使图案形成装置放电的系统和方法_ASML荷兰有限公司_202380091034.3
    本文中公开一种光源，所述光源被布置成照射光刻设备中的图案形成装置的非图案化表面，其中，所述光源被配置成使得响应于来自所述光源的照射，所述非图案化表面由于光电效应而发射电子。有利地，当所述非图案化表面带电时，可以使所述非图案化表面在所述非图案...
    2025-08-13
  • 一种掩模版的图形校正方法及校正系统
    一种掩模版的图形校正方法及校正系统_合肥晶合集成电路股份有限公司_202510947122.X
    本发明提供了一种掩模版的图形校正方法及校正系统，方法包括以下步骤：设置多个主图形和多个辅助图形，收集主图形和辅助图形光刻后的晶圆数据；在掩模版上搜寻与辅助图形具有相同特征尺寸的主图形，作为参照图形；获取参照图形从掩模版上被转印到晶圆上的缩放...
    2025-08-13
  • 一种可抗飞行干扰的镜头像移补偿装置
    一种可抗飞行干扰的镜头像移补偿装置_西安雷华测控技术有限公司_202011065842.7
    本发明公开了一种可抗飞行干扰的镜头像移补偿装置，包括设置在探测器前方的反射镜框架，陀螺仪和反射镜分别设置在反射镜框架的相平行的陀螺轴和反射镜轴上；陀螺仪设在陀螺轴上悬空框内，反射镜的镜面朝向采集图像的探测器；反射镜框架上还设有与双轴陀螺相连...
    2025-08-13
  • 用于组装掩模版组件的设备
    用于组装掩模版组件的设备_ASML荷兰有限公司_202080017405.X
    本发明涉及一种用于处置大致平面物体的物体处置设备，所述物体处置设备包括：两个支撑臂，所述两个支撑臂中的至少一个相对于另一支撑臂大致在平面中可移动，使得所述两个支撑臂可操作以抓取和保持设置在所述平面中的物体；其中所述支撑臂中的每个支撑臂包括至...
    2025-08-13
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