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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 一种风机塔筒平台限位装置及其使用方法
    一种风机塔筒平台限位装置及其使用方法_东方电气风电股份有限公司_202511787908.6
    本发明公开了一种用于海上风机塔筒平台的限位装置及方法，属于风力发电设备技术领域。该装置包括设置在塔筒内部的平台、平台周向的围边、多个周向支撑单元以及平台防撞橡胶垫。周向支撑单元通过可调节螺杆使其底盘顶紧塔筒内壁，提供刚性支撑与宏观限位；平台...
    2026-01-14
  • 一种蔬菜种植流水线式移栽机
    一种蔬菜种植流水线式移栽机_灌南县新安镇农村经济和农业技术服务中心_202511517931.3
    本发明公开了一种蔬菜种植流水线式移栽机，涉及农业机械技术领域，包括移栽机机构，所述移栽机机构的顶部设置有存放机构，所述存放机构的顶部设置有喷淋机构。本发明在需要将存放托盘安装限位时，在U型连接件的侧面设置有支撑块可对存放托盘的端头进行限位挤...
    2026-01-14
  • 一种轻薄刺绣面料及其制备方法
    一种轻薄刺绣面料及其制备方法_惠州奥普特绣花有限公司_202511510706.7
    本发明涉及一种轻薄刺绣面料及其制备方法，属于面料技术领域，所述制备方法包括：S1、制备改性聚氨酯乳液，将棉纤维和涤纶纤维浸渍于改性聚氨酯乳液中，烘干，即得处理后的棉纤维和涤纶纤维，备用；S2、取处理后的棉纤维和涤纶纤维，采用赛络紧密纺的方式...
    2026-01-14
  • 一种重布线层制作方法
    一种重布线层制作方法_成都奕成集成电路有限公司_202511377308.2
    本发明公开了一种重布线层制作方法，包括步骤：在载板上进行光敏性介质材料涂胶；先采用全曝光的方式曝光出孔，再采用半曝光的方式曝光出线路：显影同时形成孔和线路的图形：做种子层：电镀：通过刻蚀或者研磨将多余的金属去掉：然后再重复以上即可在制作的重...
    2026-01-14
  • 一种用于垃圾填埋场的给排水装置
    一种用于垃圾填埋场的给排水装置_山东中辉环境工程有限公司_202423238566.6
    本实用新型涉及垃圾处理技术领域，且公开了一种用于垃圾填埋场的给排水装置，包括填埋区，填埋区内挖有若干集水坑，填埋区与集水坑内均铺设有防渗层，所述集水坑内放置有集水桶，集水桶的上方固定连接有圆筒状金属网，集水桶的中间部位固定连接有支撑杆，支撑...
    2026-01-14
  • 摄影器材支撑装置
    摄影器材支撑装置_深圳市乐其创新股份有限公司_202511611261.1
    本申请公开一种摄影器材支撑装置，包括支撑座、多个支脚、锁定机构、流道和驱动机构：支撑座的主平面用以安装摄影器材；多个支脚间隔设置于主平面的周侧，支脚包括第一脚管构件和第二脚管构件，第一脚管构件与支撑座连接，第二脚管构件与第一脚管构件活动连接...
    2026-01-14
  • 一种双叠氮类化合物的制备方法
    一种双叠氮类化合物的制备方法_河北凯诺中星科技有限公司_202510862963.0
    本申请涉及有机合成技术领域，具体公开了一种双叠氮类化合物的制备方法，包括以下步骤：(1)在搅拌作用下，将对氯苯甲醛加入到溶剂I中，然后滴加三甲基硅叠氮，于30‑40℃下反应4‑6h，经后处理，获得对叠氮基苯甲醛；所述对氯苯甲醛和三甲基硅叠氮...
    2026-01-14
  • 一种用于平头商用车的装饰灯系统及商用车辆
    一种用于平头商用车的装饰灯系统及商用车辆_一汽解放汽车有限公司_202511436464.1
    本发明涉及商用车辆装饰灯技术领域，具体公开了一种用于平头商用车的装饰灯系统及商用车辆，该用于平头商用车的装饰灯系统包括正迎风外饰件、风压发电模块、储能滤波模块和装饰灯主体。由于平头商用车的正前方有较大面积且无法规避的正迎风区域，可以利用正迎...
    2026-01-14
  • D类放大器
    D类放大器_立锜科技股份有限公司_202411064796.7
    D类放大器，包括环路滤波器、脉宽调制产生器、第一多工器、第二多工器及功率级。环路滤波器根据输入信号产生正负环路滤波信号。脉宽调制产生器耦接在环路滤波器，根据正负环路滤波信号产生第一正负脉宽调制信号。第一多工器耦接在脉宽调制产生器，从包含第一...
    2026-01-14
  • 一种自锁式摄影云台
    一种自锁式摄影云台_西安四方机电有限责任公司_202520655251.7
    本实用新型涉及摄影云台技术领域，具体提供一种自锁式摄影云台，包括：底座、俯仰定座、俯仰动座、压缩弹性件、离合盘、限位机构、第二配合件和按压组件；俯仰定座包括底架和至少两个侧架，侧架固接于底架，底架与底座转动连接，形成第一转动；俯仰动座与俯仰...
    2026-01-14
  • 油烟净化设备及其智能双清洗控制方法和可读存储介质
    油烟净化设备及其智能双清洗控制方法和可读存储介质_深圳市万厨云联科技有限公司_202511764760.4
    本发明公开一种油烟净化设备及其智能双清洗控制方法和可读存储介质，油烟净化设备的智能双清洗控制方法包括：获取清洗指令；确认清洗指令为网盘清洗指令，控制控制阀将进水口与第一出水口导通，以使水流流向第一清洗机构；确认清洗指令为电离装置清洗指令，控...
    2026-01-14
  • 半导体装置、接口装置与操作方法
    半导体装置、接口装置与操作方法_创意电子股份有限公司_202411326622.3
    一种半导体装置、接口装置与操作方法，所述接口装置适用于包括第一管芯以及第二管芯的半导体装置。第一管芯以及第二管芯通过电性连接以堆栈成三维结构。接口装置包括布置在第二管芯的可控延迟线、时钟生成器以及相位检测器。可控延迟线接收第一管芯的源时钟信...
    2026-01-14
  • 一种玻尿酸羊绒纺纱工艺
    一种玻尿酸羊绒纺纱工艺_杭州宝函科技有限公司_202311413811.X
    本发明公开了一种玻尿酸羊绒纺纱工艺，该工艺包含：步骤1，将原料和毛混绒，再通过玻尿酸溶液进行处理，得到纤维状物质；步骤2，通过梳毛，将步骤1所得的纤维原料均匀梳理，获得粗纱纤维，再制成多根头的均匀毛卷；步骤3，将步骤2所得的毛卷均匀牵拉，加...
    2026-01-14
  • 用于风力涡轮机部件的运输系统
    用于风力涡轮机部件的运输系统_西门子歌美飒可再生能源公司_202480039210.3
    本发明涉及一种用于风力涡轮机部件(2)的运输系统(1)，包括用于提供用于支撑风力涡轮机部件(2)的支撑区域的基部平台(3)、用于承载基部平台(3)的载体装置(4)和用于升降基部平台(3)的升降装置(5)，其中基部平台(3)包括多个第一适配器...
    2026-01-14
  • 一种多功效复合面料及其制备方法
    一种多功效复合面料及其制备方法_南通岚居纺织品有限公司_202511520027.8
    本发明提供了一种多功效复合面料及其制备方法，涉及复合面料技术领域，包括经向纱线和纬向纱线，所述经向纱线为合成纤维一，所述纬向纱线为复合纱线；所述复合纱线包括导电丝纱和包覆在导电丝纱上的复合纱，所述复合纱包括再生纤维素纤维与合成纤维二；所述再...
    2026-01-14
  • 表征高风险斑块的系统和方法
    表征高风险斑块的系统和方法_克莱利公司_202080017731.0
    一种使用从沿着血管的计算机断层扫描(CT)扫描收集的图像数据来表征冠状动脉斑块组织数据和血管周围组织数据的方法，图像信息包括冠状动脉斑块和位于冠状动脉斑块附近的血管周围组织的放射密度值，该方法包括量化冠状动脉斑块的区域中的放射密度，量化与冠...
    2026-01-14
  • 一种煤矿防治水监测用取样装置
    一种煤矿防治水监测用取样装置_淮北矿业股份有限公司袁店一井煤矿_202520272764.X
    本实用新型公开了一种煤矿防治水监测用取样装置，属于煤矿防治水监测技术领域，包括：安装架和安装框；多个万向轮，均设置于安装架底部，所述安装框呈“U”形设置，并内部转动连接有两个导向轮，所述安装框内壁一侧转动连接有驱动轴；本实用新型，通过开设在...
    2026-01-14
  • 一种防止气流干扰的无纺布成网机
    一种防止气流干扰的无纺布成网机_河北浩天非织造布有限公司_202520354985.1
    本实用新型涉及无纺布生产技术领域，提出了一种防止气流干扰的无纺布成网机，包括成网机本体以及输送带，输送带设置在成网机本体底部，延伸架均固定在成网机本体外端，输送紧实组件设置在延伸架之间，清理组件设置在延伸架内部，输送紧实组件包括一对输送辊，...
    2026-01-14
  • 一种具有散热结构的光子铝水箱
    一种具有散热结构的光子铝水箱_广州艾颜佳医疗科技有限公司_202520061378.6
    本实用新型属于铝水箱技术领域，公开了一种具有散热结构的光子铝水箱，包括铝水箱机体，所述铝水箱机体的前后两端均安装有水箱盖，所述铝水箱机体的右侧底端开设有两个进水孔，所述铝水箱机体的右侧位于进水孔的上方位置处开设有三个出水孔，两个所述水箱盖的...
    2026-01-14
  • 图形化方法、半导体器件和半导体工艺设备
    图形化方法、半导体器件和半导体工艺设备_北京集成电路装备创新中心有限公司_202511292706.4
    本发明涉及半导体加工技术领域，具体涉及一种图形化方法、半导体器件和半导体工艺设备。所提供的图形化方法，包括：在衬底上依次形成介质层、硬掩膜层和图形化的直写光刻胶层；以图形化的直写光刻胶层为掩膜，刻蚀部分硬掩膜层，形成部分图形化的硬掩膜层；而...
    2026-01-14
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