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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 活动遮挡机构包括活动遮挡、活动遮挡支撑部件和弹性部件。活动遮挡在一个方向上移动以关闭开口。活动遮挡支撑部件支撑活动遮挡。弹性部件在相反的方向上施力活动遮挡和活动遮挡支撑部件。活动遮挡包括钩在活动遮挡支撑部件上的抵靠部,抵靠部被弹性部件施力。...
  • 本实用新型公开了一种带有外灯罩的投影灯,包括有底座、安装在所述底座上的且为半透光状的外灯罩以及分别安装在所述外灯罩内的且相互配合的投影装置和反射镜;所述投影装置包括有向前依次分布的LED灯、投影片和成像镜头;所述反射镜与所述投影装置相对设置...
  • 一种光机包括照明模块和成像模块。照明模块包括光源,成像模块包括液晶面板。光机还包括第一导热片、第二导热片和调节件。第一导热片包括第一端和第二端,第一导热片的第一端与光源连接。第二导热片包括第一端和第二端,第二导热片的第一端与液晶面板连接。调...
  • 一种镜头驱动机构,包括基板、镜头驱动模块、以及集成电路模块。镜头驱动模块设置于基板该镜头驱动模块包括:顶壳以及底座,构成外壳并固定地连接该基板,外壳形成容纳空间;镜头承载件,位于容纳空间内并用以承载镜头;电路基板,位于容纳空间内;驱动组件,...
  • 本发明提供一种高反射率且具有优异的耐变色性、耐热性、耐酸性、柔软性的热固化性树脂组合物、干膜、固化物、以及电子部件。所述热固化性树脂组合物,其特征在于,含有:(A)以苯氧基树脂为起始原料的含有羟基和羧基的树脂、(B)封端异氰酸酯化合物、(C...
  • 本实用新型提出一种投影仪气流横向内循环散热结构,包括密封壳,所述密封壳的内部安装有投影机构。本实用新型中,通过导热片将光源产生的热量迅速传导至顶散热片和底散热片,实现了多路径散热,避免热量集中,提高散热效率,而风机A吸入外部冷空气并通过换热...
  • 本发明涉及半导体器件制造技术领域,公开了一种掩模板的制备方法、掩模板及图案转移方法,掩模板的制备方法,包括:刻蚀半导体基底,形成掩模窗口;半导体基底一侧表面上具有透射层,掩模窗口为半导体基底的另一侧表面上暴露透射层的预设区域的开口,透射层对...
  • 一种光刻设备,包括:衬底支撑件,被配置为支撑衬底,该衬底支撑件包括被配置为从靠近衬底的边缘的位置抽取流体的开口;至少一个处理系统,被配置为处理衬底,处理包括测量衬底或相对于衬底支撑件移动衬底;和控制器,被配置为控制至少一个处理系统,并向开口...
  • 本申请公开了一种成像结构以及摄像装置,成像结构包括摄像头组件、防护罩、第一控制块以及光圈调节组件。摄像头组件包括音圈马达和镜头,镜头安装于音圈马达内。防护罩盖接于音圈马达,第一控制块安装于防护罩。光圈调节组件包括底座、多个光圈叶片和多个第二...
  • 本发明涉及半导体器件制造技术领域,公开了一种掩模板的制备方法、掩模板及图案转移方法,掩模板的制备方法包括:提供半导体基底;在半导体基底的一侧表面上形成第一透射层;在远离半导体基底的第一透射层的一侧表面上形成多个金属块;在远离半导体基底的第一...
  • 本发明涉及一种正性光刻胶组合物及其制备与使用方法,所述光刻胶组合物包括如下质量百分比的各组分:聚合物树脂,光刻胶组合物总质量的15~25%;萘酰亚胺类光致产酸剂,聚合物树脂的1.0~6.0%;酸扩散控制剂,萘酰亚胺类光致产酸剂的8~40%;...
  • 提供了一种半导体光刻胶组成物和使用该半导体光刻胶组成物形成图案的方法。该半导体光刻胶组成物包括含Sn有机金属化合物、包含至少一个芳基和不饱和键的羧酸化合物,以及溶剂。
  • 本发明提供了一种多光斑零位偏差标定方法,包括:提供基板,所述基板上具有至少四个测量点;调焦调平系统将同一光束依次投影到每个所述测量点上进行第一次测量,所述光束包含至少两个测量光斑,每次投影至所述测量点上时,同一个所述测量光斑与所述测量点对准...
  • 本发明提供了一种调焦调平装置及光刻机,投影微镜阵列组件的j个投影微镜组将入射至其上的所述检测光束转换为j个投影光斑并投影成像在基底的表面,探测微镜阵列组件的j个探测微镜组分别将j个探测光斑分光后形成j个第一标记光斑和j个第二标记光斑,投影微...
  • 本发明涉及半导体器件制造领域,具体提供一种应用于图案转移的掩模板及其制备方法、图案转移方法。应用于图案转移的掩模板包括:薄膜窗口结构,薄膜窗口结构具有透射作用;薄膜窗口结构包括半导体衬底、位于半导体衬底的一侧表面的刻蚀停止层以及位于刻蚀停止...
  • 本发明提供一种厚膜化学增幅型正型抗蚀剂组合物。一种厚膜化学增幅型正型抗蚀剂组合物,其包含具有特定结构的碱可溶性树脂(A)、光酸产生剂(B)以及溶剂(C)。
  • 本发明提供一种掩模坯料(100),利用由氮化硅系材料形成的单层膜构成的遮光膜(2)具有对于ArF曝光用光的较高的遮光性能,并且能够降低遮光膜的图案的EMF偏差。掩模坯料在透光性基板(1)上具备遮光膜。遮光膜对于ArF曝光用光的光学浓度为3....
  • 本实用新型涉及相机配件技术领域,具体涉及一种双层调节镜头结构,包括:第一安装环;第二安装环,与第一安装环可转动连接;第一镜片,与第二安装环同轴设置在第二安装环内;第三安装环,可转动设置在第二安装环内;第二镜片,与第三安装环同轴设置在第三安装...
  • 本发明涉及一种化学放大光刻胶及其制备与使用方法,所述光刻胶包括如下质量百分比的各组分:聚合物树脂,光刻胶的5~10%;光酸,聚合物树脂的4~10%;猝灭剂,光酸的10~40%;UV吸收剂,聚合物树脂的0.5~5%;流平剂,光刻胶的0.1~0...
  • 本发明提供一种显示装置,包括图像处理模块、阵列光源、光源位移模块和成像模块,图像处理模块用于将一帧图像拆分成多个以时分复用方式显示的子帧,每个子帧包括多个像素。阵列光源包括阵列排布的多个光源,多个光源用于一一对应地形成多个光斑,多个光斑对应...
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