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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 一种光刻胶组合物及其用途
    一种光刻胶组合物及其用途_北京科华微电子材料有限公司_202211361864.7
    本申请提供了一种光刻胶组合物及其用途，其中，光刻胶组合物通过添加含多羟基苯基化合物的添加剂，一方面提高了非曝光区的溶解速率，解决了显影后光刻胶图形表面有残留物的问题，另一方面由于光刻胶组合物的结构上可交联的羟基数目多，曝光区交联密度大，使曝...
    2025-09-04
  • 用于EUV光刻的保护膜结构及其制造方法
    用于EUV光刻的保护膜结构及其制造方法_台湾积体电路制造股份有限公司_202510139992.4
    本公开涉及用于EUV光刻的保护膜结构及其制造方法。一种形成保护膜的方法包括：生长碳纳米管(CNT)，用由不同的材料制成的一个或多个纳米管包裹所述CNT，以及去除所述CNT。可以在过滤器之上生长所述CNT，并且随后去除所述过滤器。可以使所述C...
    2025-09-04
  • 有机膜形成材料、图案形成方法以及化合物
    有机膜形成材料、图案形成方法以及化合物_信越化学工业株式会社_202211211942.5
    本发明涉及有机膜形成材料、图案形成方法以及化合物。本发明的目的是提供一种化合物，能形成不仅耐热性、形成于基板的图案的填埋、平坦化特性优良，且对于基板的成膜性、密接性良好的有机下层膜，并提供含有该化合物的有机膜形成材料。本发明的解决手段是一种...
    2025-09-04
  • 一种T型栅模板及其制备方法和应用
    一种T型栅模板及其制备方法和应用_湖北九峰山实验室_202310195915.1
    本发明提供一种T型栅模板及其制备方法和应用，属于半导体器件技术领域。所述T型栅模板由透明材料制成，包括基板、位于所述基板上的第一凸起结构和位于所述第一凸起结构上的第二凸起结构；所述第一凸起结构的侧面覆盖有遮光层；所述第二凸起结构的侧面覆盖有...
    2025-09-04
  • 聚合物、化学增幅负型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法
    聚合物、化学增幅负型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法_信越化学工业株式会社_202510223847.4
    本发明涉及聚合物、化学增幅负型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明的课题是提供：含有具有优良的蚀刻耐性、有机溶剂溶解性、及适当的酸强度，且可产生扩散小的酸的聚合物键结型酸产生剂的化学增幅负型抗蚀剂组成物，以及使用该化学增幅抗蚀剂组成物的...
    2025-09-04
  • 一种基于分数轨道角动量复用全息的信息存储装置和方法
    一种基于分数轨道角动量复用全息的信息存储装置和方法_上海交通大学_202510667911.8
    本发明公开了一种基于分数轨道角动量复用全息的信息存储装置和方法，涉及全息技术领域。本发明将分数轨道角动量到整数轨道角动量的任意转换与传统的整数轨道角动量全息结合，实现分数轨道角动量复用全息。本发明相邻通道的拓扑荷数间隔可以小于1，提高了容量...
    2025-09-04
  • 镜头驱动装置
    镜头驱动装置_河南皓泽电子股份有限公司_202210132949.1
    本发明公开了一种镜头驱动装置，包括外壳、框架、载体、底座、上簧片和下簧片，框架设有磁石组，载体设有第一线圈，底座设有第二线圈，第一线圈与磁石组配合驱动载体沿光轴方向运动，第二线圈与磁石组配合驱动框架和载体在垂直于光轴的平面上运动，以及在框架...
    2025-09-04
  • 异形密封圈、光学镜头及电子产品
    异形密封圈、光学镜头及电子产品_宁波舜宇车载光学技术有限公司_202421612870.X
    本申请公开了一种异形密封圈、使用该异形密封圈光学镜头及电子产品。该异形密封圈包括：密封圈本体和与所述密封圈本体连接的密封圈尾部，所述异形密封圈位于镜筒与所述镜筒内安装的镜片之间，其中，所述密封圈本体与所述镜筒及所述镜片的外侧边缘过盈配合，所...
    2025-09-04
  • 光学成像装置
    光学成像装置_立景创新有限公司_202511018756.3
    一种光学成像装置，包含多个光学镜片。多个光学镜片沿一光轴配置，以朝向一取像方向进行取像，并成像于一成像面。多个光学镜片区分为至少一组固定镜片组以及至少一组可动镜片组；其中，固定镜片组为固定设置，且可动镜片组用以相对于固定镜片组位移，以对光学...
    2025-09-04
  • 感光性树脂组合物、使用该组合物制备的感光性树脂膜和滤色器
    感光性树脂组合物、使用该组合物制备的感光性树脂膜和滤色器_三星SDI株式会社_202480008278.5
    本发明涉及感光性树脂组合物、使用该组合物制备的感光性树脂膜和滤色器，该感光性树脂组合物包含(A)着色剂、(B)光可聚合化合物、(C)光聚合引发剂、(D)粘合剂树脂和(E)溶剂，其中：(A)着色剂包括第一绿色染料、第二绿色染料和白色颜料；并且...
    2025-09-04
  • 一种纳米晶块压印机构
    一种纳米晶块压印机构_苏州威斯东山电子技术有限公司_202422139250.5
    本实用新型公开了一种纳米晶块压印机构，包括支撑架，所述支撑架的顶部设有压印组件，所述支撑架的底部内壁固定连接有凸块，凸块的顶部转动固定连接有转动杆，转动杆的顶端固定连接有连接板，连接板通过可拆卸的固定组件与凸块相固定，所述连接板的两侧均固定...
    2025-09-04
  • 新型不透光二元光掩模制备方法
    新型不透光二元光掩模制备方法_广州新锐光掩模科技有限公司_202510822247.X
    本申请提供一种新型不透光二元光掩模制备方法，包括以下步骤：在曝光工艺中，增加曝光剂量以使曝光区域的光化学反应更充分，从而提高已曝光区域和未曝光区域溶解度的差异；在显影工艺中，对显影液采用喷淋方式并调节显影液参数以确保显影液均匀覆盖光掩模表面...
    2025-09-04
  • UV光源的复合式机械减振支撑装置
    UV光源的复合式机械减振支撑装置_河南东微电子材料有限公司_202510936461.8
    本发明提供一种UV光源的复合式机械减振支撑装置，属于光刻设备技术领域，包括基座、UV光源和减振模块，减振模块包括连接件和支撑缓冲件，UV光源通过连接件连接至支撑缓冲件，支撑缓冲件环绕UV光源轴线对称分布，支撑缓冲件还连接至基座；基座上安装有...
    2025-09-04
  • 一种曝光机解析度提升结构
    一种曝光机解析度提升结构_浙江长兴合利光电科技有限公司_202422457395.X
    本实用新型涉及曝光机技术领域，具体涉及一种曝光机解析度提升结构，包括灯板，所述灯板的底部固定安装有散热器,所述灯板的顶部固定安装有多组LED灯珠，所述灯板的顶部且位于LED灯珠的外侧固定安装有灯罩，所述灯罩的内侧且位于多组LED灯珠的顶部均...
    2025-09-04
  • 一种车辆底盘控制器的冷备份控制系统及方法
    一种车辆底盘控制器的冷备份控制系统及方法_湖南行必达网联科技有限公司_202310113594.6
    本发明提供了一种车辆底盘控制器及冷备份控制系统和方法，包括主控制系统、备份控制系统以及备份切换电路，主控制系统包括主控制器MCU1和与MCU1连接的主电源芯片SBC，备份控制系统包括备份控制器MCU2和与MCU2连接的备份电源，供电电源Vi...
    2025-09-04
  • OPC建模量测图形数据选择方法
    OPC建模量测图形数据选择方法_上海华力集成电路制造有限公司_202111426254.6
    本申请涉及半导体集成电路制造技术领域，具体涉及一种OPC建模量测图形数据选择方法。方法包括：提供对应半导体器件特定层的掩模版数据文件和OPC初始模型；从掩模版数据文件中，选取实际特征尺寸属于第一特征尺寸范围的掩模图形作为测试图形，所有测试图...
    2025-09-04
  • 一种底面压印装置
    一种底面压印装置_武汉芯力科技术有限公司_202422601090.1
    本实用新型公开了一种底面压印装置，属于压印装置技术领域，包括钢带、驱动组件、第一连接件、第二连接件和控制组件。钢带上印有图案。钢带两端分别连接第一连接件和第二连接件，驱动组件连接于第一连接件，驱动组件能够驱动第一连接件转动，第一连接件带动钢...
    2025-09-04
  • 从EUV光刻设备中的表面移除分子
    从EUV光刻设备中的表面移除分子_ASML荷兰有限公司_202480010112.7
    一种被配置为将EUV辐射投影到衬底位置的光刻设备，该光刻设备包括：照射系统，该照射系统包括用于沿着束路径引导EUV辐射的多个反射表面；以及IR源，该IR源被配置为产生IR辐射；其中所述IR源和照射系统被布置为使得IR辐射沿着束路径投影。
    2025-09-04
  • 底切结构的形成方法及底切结构
    底切结构的形成方法及底切结构_上海新微技术研发中心有限公司_202510722350.7
    本申请涉及半导体制造领域，具体地说，是涉及一种底切结构的形成方法及底切结构，该底切结构的形成方法包括：在晶圆上形成第一正性光刻胶层；对第一正性光刻胶层分别进行两次曝光，以形成第一底部曝光图形和第二底部曝光图形，其中，第一底部曝光图形和第二底...
    2025-09-04
  • 一种顶面压印装置
    一种顶面压印装置_武汉芯力科技术有限公司_202422603775.X
    本实用新型公开了一种顶面压印装置，属于压印装置技术领域，包括移动平台、基座和压辊组件，移动平台上设置有第一驱动组件，基座通过第一驱动组件连接于移动平台，第一驱动组件包括第一驱动件，第一驱动件能够带动基座沿第一方向移动，第一方向平行于压印件的...
    2025-09-04
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