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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 全息材料、体全息光栅及制备方法、体全息光波导及设备
    全息材料、体全息光栅及制备方法、体全息光波导及设备_珠海莫界科技有限公司_202411260269.3
    本申请公开了一种全息材料、全息材料的制备方法、体全息光栅的制备方法、体全息光栅、体全息光波导及全息设备，该制备方法包括：提供自由基捕获剂的溶液和光致聚合物全息子材料，所述自由基捕获剂用于捕获所述光致聚合物全息子材料发生光氧化反应和/或热氧化...
    2026-03-16
  • 相移掩模坯料和相移掩模的制造方法
    相移掩模坯料和相移掩模的制造方法_信越化学工业株式会社_202511240487.5
    本发明涉及一种相移掩模坯料和相移掩模的制造方法。该相移掩模坯料包括相移膜和与相移膜接触地形成并由含铬材料形成的遮光膜，其中相移膜由含硅而不含碳的材料形成，遮光膜由含铬、氧、氮和碳的材料形成，遮光膜具有包括四层的层叠结构：第一层、第二层、第三...
    2026-03-16
  • 半导体光刻胶组合物及使用所述组合物形成图案的方法
    半导体光刻胶组合物及使用所述组合物形成图案的方法_三星SDI株式会社_202511257190.X
    提供一种半导体光刻胶组合物及使用所述半导体光刻胶组合物形成图案的方法。半导体光刻胶组合物包含：有机金属化合物；(甲基)丙烯酸酯类聚合物，包含选自各自具有2到6的化合价的金属之中的至少一者；以及溶剂。
    2026-03-16
  • 光罩版图校正方法及其系统、设备、存储介质
    光罩版图校正方法及其系统、设备、存储介质_北京超弦存储器研究院_202411260112.0
    本公开涉及一种光罩版图校正方法及其系统、设备、存储介质。该光罩版图校正方法包括：获取曲线型的光罩光学校正版图；对曲线型的光罩光学校正版图进行曼哈顿化处理，并基于光刻模型获取曼哈顿化优化版图；对曼哈顿化优化版图进行电子束邻近效应校正，得到电子...
    2026-03-16
  • 一种光罩清洗工艺参数的标定版图和标定方法
    一种光罩清洗工艺参数的标定版图和标定方法_擎方科技(济南)有限公司_202512055938.4
    本发明公开了一种光罩清洗工艺参数的标定版图和标定方法，该标定版图包括光罩基板，以及设置在光罩基板上的至少一种类型的SRAF图形结构；其中，对同一类型的SRAF图形结构，按照不同的线宽参数设置有多个；对同一类型同一线宽参数的SRAF图形结构，...
    2026-03-16
  • 光刻胶模型的确定方法、装置、计算机设备及存储介质
    光刻胶模型的确定方法、装置、计算机设备及存储介质_腾讯科技(深圳)有限公司_202411252597.9
    本申请实施例公开了一种光刻胶模型的确定方法、装置、计算机设备及存储介质，涉及光刻技术领域。包括：获取光刻胶模型的模型信息，模型信息包括光刻胶模型的基础项、基础项的基础项数量范围以及基础项中参数的参数值范围，光刻胶模型用于预测光刻形成的光刻胶...
    2026-03-16
  • 含金属光刻胶显影剂组成物及包括使用其显影步骤的方法
    含金属光刻胶显影剂组成物及包括使用其显影步骤的方法_三星SDI株式会社_202511260399.1
    本发明提供一种用于含金属光刻胶的显影剂组成物以及包括利用显影剂组成物的显影步骤的形成图案的方法。用于含金属光刻胶的显影剂组成物可施加至具有暴露部分和未暴露部分的含金属光刻胶并包括有机溶剂和添加剂，其中暴露部分包括金属‑氧‑金属键结的金属氧化...
    2026-03-16
  • 一种纳米印刷版辊工艺
    一种纳米印刷版辊工艺_承拓高科(厦门)科技有限公司_202511895401.2
    本申请涉及纳米印刷版辊领域，公开了一种纳米印刷版辊工艺，包括以下步骤：a、制备圆柱形版辊坯料，所述圆柱形版辊坯料的表面具有级联反应功能层；b、根据预设的二维衍射图案，生成包含各纳米凸起结构目标高度信息的数字蓝图；c、根据所述数字蓝图，对所述...
    2026-03-16
  • 光学邻近校正方法和包括该方法的制造掩模的方法
    光学邻近校正方法和包括该方法的制造掩模的方法_三星电子株式会社_202110423235.1
    本公开提供了光学邻近校正方法和制造掩模的方法。该光学邻近校正方法包括：从图案掩模提取第一图案；对第一图案的至少一部分执行光刻，以形成第一第一图案；在形成第一图案的位置处形成第一第一图案；以及在其上形成有第一第一图案的图案掩模上执行校正。
    2026-03-16
  • 一种冗余控制系统
    一种冗余控制系统_北京机械设备研究所_202411188764.8
    本发明涉及一种冗余控制系统，属于冗余控制技术领域，解决了现有控制系统可靠性较差的问题。本发明的系统包括：主总线、备用总线和至少一组具有备份的控制器组，每组具有备份控制器组均包括：主控制器、热备份控制器和冷备份控制器；其中，主控制器、热备份控...
    2026-03-16
  • 能够防溅射的掩模版清洗设备
    能够防溅射的掩模版清洗设备_深圳市龙图光罩股份有限公司_202520807558.4
    本实用新型属于掩模版清洗领域，尤其涉及一种能够防溅射的掩模版清洗设备，包括：清洗腔；载板台，用于水平承载掩模版；旋转电机，设于所述清洗腔内，并用于带动所述载板台绕一竖直轴线转动；防溅射罩，由聚四氟乙烯材料制成，并呈圆筒状，且竖直设置，所述防...
    2026-03-16
  • 一种用于纳米压印的软模具
    一种用于纳米压印的软模具_宁波天璇新材料科技有限公司_202520567003.7
    本申请公开了一种用于纳米压印的软模具。该软模具包括依次设置的柔性基材、压印胶层、催化剂层、金属镀层和脱模层。在软模具中设置催化剂层、金属镀层和脱模层，能有效地隔绝纳米压印过程中压印胶层与被压印的UV固化材料之间发生反应引起压印工艺的失败，同...
    2026-03-16
  • 一种征信数据报送方法、装置及设备
    一种征信数据报送方法、装置及设备_中国人民财产保险股份有限公司_202310665200.8
    本发明公开了一种征信数据报送方法、装置及设备，该方法包括：将业务系统的业务数据持久化到业务数据库中，并形成对应的逻辑日志；对逻辑日志进行解析，将解析结果传输至第一消息中间件中；通过征信预处理模块对第一消息中间件中的消息进行消费，将与消息对应...
    2026-03-16
  • 光照设备及其使用方法以及半导体处理设备
    光照设备及其使用方法以及半导体处理设备_福建省晋华集成电路有限公司_202210451848.0
    本申请公开一种光照设备及其使用方法以及半导体处理设备，能够减小因灯泡灼烧(Bulb burning)导致的UVLS发出的光源强度衰减，优化光刻效果。本申请中的光照设备包括：光源，用于输出第一功率的光信号，且所述光信号至少能够沿预设光路出射；...
    2026-03-16
  • 光刻机高速高精度工作台定位校准方法
    光刻机高速高精度工作台定位校准方法_安徽国芯智能装备有限公司_202610158252.X
    本发明涉及光刻机工作台技术领域，公开了光刻机高速高精度工作台定位校准方法。该方法包括采集工作台位置数据与运动参数，分析位置误差和运动稳定性匹配程度，生成位置误差控制参数集；再基于该参数集，提取环境干扰值与梯度变化量，分析环境干扰对定位精度的...
    2026-03-16
  • 感光性树脂组合物及经图案化的聚酰亚胺树脂膜的制造方法
    感光性树脂组合物及经图案化的聚酰亚胺树脂膜的制造方法_东京应化工业株式会社_202511159890.5
    本发明涉及感光性树脂组合物及经图案化的聚酰亚胺树脂膜的制造方法。本发明的课题是提供光刻特性及保存稳定性优异并且能够形成机械特性及耐化学药品性优异的聚酰亚胺树脂膜的感光性树脂组合物、和使用该感光性树脂组合物的经图案化的聚酰亚胺树脂膜的制造方法...
    2026-03-16
  • 一种用于集成电路的显影液组合物
    一种用于集成电路的显影液组合物_福建省佑达环保材料有限公司_202610008932.3
    本发明公开了一种用于集成电路的显影液组合物，属湿电子化学品领域。按质量百分数之和为100%计，所述组合物中各组分及其所占质量百分数为：无机碱1.0‑5.0%、显影促进剂1.0‑3.0%、渗透剂0.1‑1.0%、非离子Gemini表面活性剂0...
    2026-03-16
  • 投射系统
    投射系统_精工爱普生株式会社_202520583156.0
    本实用新型提供投射系统，抑制外观设计性的降低并且操作性优异。本实用新型的投射系统具备：投影仪，其射出光作为被投射到投射面的投射图像；投射柜，其收纳投影仪；以及保持部件，其载置物体，投射柜具有：壳体，其具有根据投影仪的构造而配置的第一开口和用...
    2026-03-16
  • 显影装置及显影方法
    显影装置及显影方法_株式会社斯库林集团_202510640636.0
    本发明在对基板供给显影液并进行显影处理的显影装置及显影方法中，在罐内有效率地消除因向罐内回收显影液而产生的泡，从而提高显影装置的运转率。在本发明中，由于第一罐内的显影液被循环供给，因此泡因显影液返回至第一罐而被导入至第一罐内。对所述泡供给与...
    2026-03-16
  • 曝光装置、测量装置和元件制造方法
    曝光装置、测量装置和元件制造方法_株式会社尼康_202080105053.3
    目的在于提供一种为了进行高精度的曝光，能够在使用空间光调制器的曝光的间隙，在短时间内高精度地测量空间光调制器的运行状态的曝光装置、测量装置、测量方法和元件制造方法。曝光装置包括：曝光照明光学系统，对空间光调制器进行照明，所述空间光调制器包括...
    2026-03-16
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