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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 一种数字孪生虚拟沉浸式交互VR显示装置
    一种数字孪生虚拟沉浸式交互VR显示装置_江苏龙腾数字建造技术研究院有限公司_202510684330.5
    本发明涉及一种数字孪生虚拟沉浸式交互VR显示装置，包括底座，所述底座上的两侧分别固定设置有两支板，所述两支板的上方固定设置有一顶板，其中一个支板上固定设置有一驱动件，所述驱动件的输出轴可转动地穿过与该驱动件相邻的支板且固定连接有一转轴，所述...
    2025-08-15
  • 基于体素干涉与折射场调控的复合式全息成像系统及方法
    基于体素干涉与折射场调控的复合式全息成像系统及方法_王言汐_202510509215.4
    本发明提供了基于体素干涉与折射场调控的复合式全息成像系统及方法，属于全息成像技术领域。包括光场信息采集模块，用于建立光场交叉与干涉模型，在光场交叉与干涉模型中获取第i个像素点xs的位置，并根据第i个像素点xs发射红、绿和蓝光，获得红、绿和蓝...
    2025-08-15
  • 一种新型科勒照明装置和投影机光学系统
    一种新型科勒照明装置和投影机光学系统_深圳亮仔光电科技有限公司_202510867416.1
    本发明公开了一种新型科勒照明装置，包括按光线行进方向依次设置的LED光源、聚光器、准直透镜、空心导光棒和LCD光阀，空心导光棒的内壁设有反射膜；空心导光棒的入射端与准直透镜的出射面相贴合，空心导光棒的出射端与LCD光阀的入射面相贴合。或者包...
    2025-08-15
  • 一种光学邻近修正方法及装置
    一种光学邻近修正方法及装置_青岛澳柯玛云联信息技术有限公司_202410170220.2
    本发明提供一种光学邻近修正方法及装置，所述方法包括：S1：进行第一次OPC迭代；S2：对OPC迭代结果进行EPE检查；S3：判定是否存在EPE且迭代次数是否未达到设定最大次数，若存在EPE且迭代次数未达到设定最大次数，则以存在EPE的点为中...
    2025-08-15
  • 一种正性光刻胶组合物及其应用
    一种正性光刻胶组合物及其应用_合肥鼎材科技有限公司_202410168976.3
    本发明提供一种正性光刻胶组合物及其应用，所述正性光刻胶组合物包括光敏性树脂、光敏剂、增感剂和硅烷偶联剂改性纳米二氧化硅的组合；所述硅烷偶联剂具有如式I所示结构。通过特定的硅烷偶联剂改性纳米二氧化硅的设计及其与其他组分的相互复配，显著提升了正...
    2025-08-15
  • 调控高阻层片电阻的OPC修正方法
    调控高阻层片电阻的OPC修正方法_上海华力集成电路制造有限公司_202510572479.4
    本申请提供一种调控高阻层片电阻的OPC修正方法，包括：步骤一，在原始版图中划定高阻层和硅化物阻挡层所在的版图区域，根据该版图区域确定高阻层片电阻的阻值；步骤二，根据步骤一中确定的高阻层片电阻的阻值，缩减高阻层的与硅化物阻挡层相交叠部分的宽度...
    2025-08-15
  • 一种动圈防抖影像系统
    一种动圈防抖影像系统_睿恩光电有限责任公司_202510760644.9
    本发明公开了一种动圈防抖影像系统，包括座体、连接于座体的镜头组件、与镜头组件在光轴方向相间隔的图像感应部件、驱动图像感应部件和镜头组件在光轴方向相对移动的对焦组件，对焦组件包括相对于座体固定的磁石、以及相对于图像感应部件固定的对焦载体，对焦...
    2025-08-15
  • 一种数字增益调整控制电路
    一种数字增益调整控制电路_中国电子科技集团公司第五十八研究所_202510543312.5
    本发明公开一种数字增益调整控制电路，包括功率检测器、数字峰值检测器、增益控制模块及数字增益调整模块。功率检测器采用平滑均方根算法计算输入信号的功率，根据区域适配不同的步长快速调整增益系数；数字峰值检测器采用滑动窗口最大值法检测输入信号的峰值...
    2025-08-15
  • 投影仪音腔结构
    投影仪音腔结构_音品电子(深圳)有限公司_202422519438.2
    本实用新型公开了投影仪音腔结构包括下壳、风管片、上壳、第一喇叭以及第二喇叭，所述下壳内左部和右部分别设有第一腔体和第二腔体，第一腔体左侧设有第一喇叭下缺口，第一腔体右侧设有第二喇叭下缺口，下壳内中部设有第一定位块，第一腔体内设有若干个第一定...
    2025-08-15
  • 一种提高背照式CCD光刻对准精度的方法及系统
    一种提高背照式CCD光刻对准精度的方法及系统_中国电子科技集团公司第四十四研究所_202510716685.8
    本申请提供一种提高背照式CCD光刻对准精度的方法及系统，所述方法包括：在正照工艺下，图像传感单元的介质层制作完成后，在所述介质层上制作反标记；其中所述反标记是由光刻机可识别的对准标记经过翻转后得到的；进行背照工艺，在所述图像传感单元正面键合...
    2025-08-15
  • 一种电磁驱动镜头装置、摄像头及电子设备
    一种电磁驱动镜头装置、摄像头及电子设备_厦门市众惠微电子有限公司_202422527755.9
    本实用新型涉及一种电磁驱动镜头装置、摄像头及电子设备，电磁驱动镜头装置包括底座、外壳、承托镜头的载体、支撑载体的OIS悬丝和AF悬丝、用于驱动载体的OIS磁石和OIS线圈、用于驱动载体的AF磁石和AF线圈，所述OIS悬丝和AF悬丝相互垂直。...
    2025-08-15
  • 一种多光谱全息成像系统和成像方法
    一种多光谱全息成像系统和成像方法_江苏集萃苏科思科技有限公司_202510698257.7
    本发明公开了一种多光谱全息成像系统和成像方法，该系统包括：多波长光源模块由多个独立驱动的不同波长的光源组件组成；光纤耦合模块由多个光纤束组成，光纤束与光源组件的出射端面连接，用于约束光源组件的光信号为点光源；用于将光源组件的光信号约束出光面...
    2025-08-15
  • 透镜驱动装置、照相装置以及电子设备
    透镜驱动装置、照相装置以及电子设备_新思考电机有限公司_202010894696.2
    提供可相对于轴向使透镜向两侧移动的透镜驱动装置、照相装置以及电子设备。其中的透镜驱动装置(10)包括定子(12)、相对于所述定子(12)被移动地支撑且具有保持透镜的透镜保持部(22)的动子(14)、在所述动子(14)移动方向相隔设置的在与所...
    2025-08-15
  • 一种正性光刻胶组合物及其应用
    一种正性光刻胶组合物及其应用_南开大学_202510748354.2
    本发明公开了一种正性光刻胶组合物及其应用，所述正性光刻胶组合物包含有聚硫醚高分子化合物以及光刻胶溶剂。所述聚硫醚高分子化合物包含如下结构： 2025-08-15
  • 一种聚酰亚胺树脂前驱体、碱溶性树脂及正性感光组合物
    一种聚酰亚胺树脂前驱体、碱溶性树脂及正性感光组合物_合肥鼎材科技有限公司_202410171857.3
    本发明属于光刻技术领域，具体涉及一种聚酰亚胺树脂前驱体、碱溶性树脂及其应用，同时还涉及一种正性感光组合物。本发明的聚酰亚胺树脂前驱体由二胺单体、二酐单体以及封端剂共聚而成，所述封端剂包括式A、式B和式Z三部分，式A代表封端剂与聚酰亚胺树脂末...
    2025-08-15
  • 激光镜头及其制备方法和激光设备
    激光镜头及其制备方法和激光设备_青岛海信激光显示股份有限公司_202410176477.9
    本申请提供实施例属于光学设备技术领域，提供一种激光镜头及其制备方法和激光设备，旨在解决相关技术中激光镜头发生温漂问题，影响激光电视的投影画面效果的技术问题。激光镜头包括：镜头座、透镜组件和反射镜，反射镜的制备材料包括散热材料和光学材料，散热...
    2025-08-15
  • 透镜驱动装置、照相机装置以及电子设备
    透镜驱动装置、照相机装置以及电子设备_新思考电机有限公司_202011605792.7
    本发明提供一种透镜驱动装置、照相机装置以及电子设备，能够在上表面侧的固定部上配置电部件。透镜驱动装置(1)具备：基座(25)；框架(12)，其具有从基座(25)立起的两个立起部(121)和与两个立起部(121)相连的水平部(122)；以及安...
    2025-08-15
  • 滤色器用红色着色组合物及其制法、滤色器用红色着色抗蚀剂组合物、滤色器及显示装置
    滤色器用红色着色组合物及其制法、滤色器用红色着色抗蚀剂组合物、滤色器及显示装置_阪田油墨株式会社_202011337548.7
    本发明提供一种能够抑制由有机颜料引起的升华物且能得到对比及亮度优异的滤色器的滤色器用红色着色组合物的制造方法。所述方法包括：将吡咯并吡咯二酮颜料与树脂以及吡咯并吡咯二酮化合物的磺化物一起进行盐磨处理而得到微粒子化颜料的微粒子化工序，以及将包...
    2025-08-15
  • 调焦调平系统、调焦调平方法及曝光装置
    调焦调平系统、调焦调平方法及曝光装置_上海微电子装备(集团)股份有限公司_202410175922.X
    本发明提供一种调焦调平系统、调焦调平方法及曝光装置，所述调焦调平系统在探测器前设置分光光栅；光源单元发出的光束经投影光栅透射后投影成像至待测器件，光束经待测器件反射至分光光栅，分光光栅将含有待测器件表面信息的信号光衍射分离成两路信号光并被探...
    2025-08-15
  • 用于确定掩模版变形的方法和系统
    用于确定掩模版变形的方法和系统_ASML荷兰有限公司_202380089328.2
    本文中公开了一种计算机系统，所述计算机系统被配置成：使用依赖于掩模版在第一时段期间的第一状态的边界条件来对所述掩模版在所述第一时段期间的变形进行建模；使用依赖于所述掩模版在第二时段期间的第二状态的边界条件来对所述掩模版在所述第二时段期间的变...
    2025-08-15
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