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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 本发明公开了一种光罩清洗工艺参数的标定版图和标定方法,该标定版图包括光罩基板,以及设置在光罩基板上的至少一种类型的SRAF图形结构;其中,对同一类型的SRAF图形结构,按照不同的线宽参数设置有多个;对同一类型同一线宽参数的SRAF图形结构,...
  • 本申请实施例公开了一种光刻胶模型的确定方法、装置、计算机设备及存储介质,涉及光刻技术领域。包括:获取光刻胶模型的模型信息,模型信息包括光刻胶模型的基础项、基础项的基础项数量范围以及基础项中参数的参数值范围,光刻胶模型用于预测光刻形成的光刻胶...
  • 本申请公开了一种混合曝光方法、曝光系统、存储介质及程序产品,应用于光刻技术领域。方法包括:基于预设的曝光精度,将待曝光图形划分为第一图形区域和第二图形区域,第一图形区域的曝光精度低于第二图形区域的曝光精度;采用第一曝光工艺对第一图形区域对应...
  • 本发明涉及一种压印系统、特别是纳米压印系统,包括:至少一个基本柔性的印模,其被配置为用于压印、特别是纳米压印;至少一个辊,其被配置为用于向至少一个基本柔性的印模和/或至少一个待压印的基底施加压力;至少一个平台,其被配置为用于在压印期间为至少...
  • 本发明提供了一种光刻模型的校正方法、设备、介质及产品。光刻模型的校正方法包括:获取初始光刻模型,初始光刻模型基于第一特征项组构建,且初始光刻模型针对第一特征项组中的每个特征项均已经过初步校正并确定对应的初始参数值和初始权重系数值;基于第二特...
  • 本发明涉及一种冗余电气架构的车辆控制系统工作方法,属于冗余控制系统技术领域,解决了现有控制系统可靠性较差的问题。本发明的方法包括:启动时默认主控制器为该具有备份的控制器组中的有效控制器,热备份控制器通过主控制器的心跳信号、故障信号和第一校验...
  • 本发明提供一种光源系统,包括第一光发射器、第二光发射器以及光导管。第一光发射器在时序周期内的第一时段发出具有第一颜色波段的第一光。第二光发射器在时序周期内的第二时段发出具有第二颜色波段的第二光,在时序周期内的其余时段不发出第二光。光导管位于...
  • 本发明公开了一种涂布显影机中晶圆边缘曝光结构、系统及曝光方法,应用于芯片制备领域,该结构包括:晶圆边缘曝光装置和传光装置;传光装置的输入端用于连接光刻机的光束量测模块,对光束量测模块进行分光,得到光束量测模块的分光光束;传光装置的输出端延伸...
  • 本申请提出了一种线路板曝光机校准方法、装置、电子设备及存储介质,涉及电路板制作领域。根据本申请的第一方面,提出了一种线路板曝光机校准方法,应用于线路板曝光机,线路板曝光机包括相机、平台和数字微镜,方法包括:基于测试板的标准靶点移动相机,对相...
  • 本申请涉及一种光罩夹取装置。该光罩夹取装置,包括:夹取模组、横梁、驱动模组、第一按键以及手柄,驱动模组位于横梁上,夹取模组与驱动模组传动连接,手柄与横梁连接,第一按键位于手柄上,第一按键与驱动模组电连接,第一按键可以启动驱动模组工作驱动夹取...
  • 本发明提供一种散热模块及投影装置,散热模块包括用于沿组装方向依序配置的弹性件、导热件、制冷芯片及散热器,并使弹性件呈现组装状态。弹性件包括本体、以及位于本体两侧且分别从本体向外延伸的至少二板部。导热件设在弹性件的本体上。制冷芯片具有相对的第...
  • 本申请涉及一种光刻建模文件生成方法、光刻模型的建立方法、光刻建模文件生成装置、计算机设备、存储介质和计算机程序产品。光刻建模文件生成方法包括:获取初始建模文件,初始建模文件包括多个量测点的量测信息,量测信息包括量测值;根据目标量测点,链接目...
  • 本发明提供了光源装置、曝光装置和物品制造方法。所述光源装置包括:元件阵列,在所述元件阵列中排列多个发光元件,其中,所述多个发光元件包括:第一发光元件;以及第二发光元件,其具有与所述第一发光元件的温度特性不同的温度特性,所述温度特性指示元件温...
  • 公开了一种用于含金属光刻胶的显影剂组合物以及一种利用显影剂组合物形成图案的方法。显影剂组合物可包含金属化合物、有机溶剂和添加剂,并且可被施加到具有曝光部分和非曝光部分的含金属光刻胶。在非曝光部分中,在含金属光刻胶中金属化合物与有机溶剂之间的...
  • 本发明提供一种用于含金属光刻胶的显影剂组成物以及包括利用显影剂组成物的显影步骤的形成图案的方法。用于含金属光刻胶的显影剂组成物可施加至具有暴露部分和未暴露部分的含金属光刻胶并包括有机溶剂和添加剂,其中暴露部分包括金属‑氧‑金属键结的金属氧化...
  • 本发明提供一种硬对硬压印装置及硬对硬压印方法,包括:自适应调平机构、模具和基底;所述自适应调平机构包括传感器、至少两组电机以及调平面板,所述电机对称设置于所述调平面板顶端两侧,所述传感器用于感应所述调平面板底面压力,所述自适应调平机构的底面...
  • 本公开提供了一种基于微透镜阵列匀化器的激光直写式光刻优化方法和系统,激光直写式光刻优化方法包括:利用光刻成像模型处理第一激光束的参数,得到第一空间像结果;使用基于微透镜阵列的匀化器模型对第一激光束进行匀化处理,得到匀化后的第二激光束;利用光...
  • 一种基于电磁场保护离轴EUV收集镜的离子隔离装置,包括EUV光源系统、锥形腔室、直流电压发生器、电极板、永磁铁、Mo/Si多层膜收集镜、EUV照相机、法拉第杯以及计算机;EUV光源系统在真空腔内,通过激光提供足够的能量,激发靶材,产生等离子...
  • 本发明属于高压直流控制系统技术领域,公布了一种高压直流控制系统直流测量设备可靠性提升方法,括以下步骤:S1,将电子互感器的激光供能板卡替换为经过筛选的同类型板卡;S2,将直流控制主机接入动作柜冗余的合并单元,形成两路测量通道;S3,设置测量...
  • 提供一种绘制装置、绘制方法及记录有程序的存储介质。位置检测部(113)通过对由拍摄部获取到的拍摄图像进行使用了模板的图案匹配,检测基板的位置。存储部(111)存储向第1图案上绘制的第2图案的作为CAD数据的第2CAD数据。数据生成部(115...
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