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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
一种基于矢量全息术生成可调斯格明子阵列的方法
本发明公开了一种基于矢量全息术生成可调斯格明子阵列的方法,包括:S1、通过预设斯格明子阵列空间构型与多个阵元的拓扑态,设计并生成矢量全息图,对入射高斯光束进行相位、幅度及偏振的联合调制,生成多个斯格明子光束的相干叠加场;S2、在构造矢量全息...
一种车载抬头显示装置以及汽车
本发明提供一种车载抬头显示装置,包括:多个全息透镜,设于挡风玻璃上;散射膜,设于所述全息透镜上;散射镜,设于所述散射膜的一侧,所述散射镜包括实像散射镜与虚像散射镜;以及投影仪,设于所述散射镜的一侧;其中,当所述投影仪通过所述实像散射镜、所述...
光学邻近校正方法、电子设备及存储介质
本公开的实施例涉及光学邻近校正方法、电子设备及存储介质。该方法包括:多个运算核心中的每个运算核心分别引用共享的内存中存储的版图中的待校正区块的相邻区块的信息,以确定相邻区块对待校正区块的影响;基于待校正区块的信息以及影响对待校正区块进行OP...
一种曲线图形的联合校正方法、装置、设备及存储介质
本发明涉及集成电路制造领域,特别是涉及一种曲线图形的联合校正方法、装置、设备及存储介质,通过接收目标晶片图案;根据所述目标晶片图案,通过预训练的光学邻近校正模型,确定对应的曲线掩膜图案;根据所述曲线掩膜图案,通过预训练的掩膜工艺校正模型,确...
一种等离子体光刻掩模优化方法、装置、设备和介质
本申请提供一种等离子体光刻掩模优化方法、装置、设备和介质,S1,获取等离子体光刻成像模型,S2,通过等离子体光刻成像模型进行成像计算,得到目标掩模图案在光刻胶层中的空间像光强分布;S3,基于空间像光强分布和光刻胶层的光刻胶模型,确定在光刻胶...
包含多层薄膜的打印系统和方法
本公开的实施例涉及打印系统和方法,所述打印系统和方法可以包含油墨组合物和多层薄膜,所述油墨组合物包含分散在烃液体中的带电油墨颗粒。所述多层薄膜可以包含聚合物芯层;以及与所述聚合物芯层相邻的一个或多个打印层。所述一个或多个打印层可以包含至少5...
光学临近修正方法及其系统、计算机设备和存储介质
本公开涉及一种光学临近修正方法及其系统、计算机设备和存储介质。该光学临近修正方法,包括:获取光罩的套刻误差;将光罩分割为多个区块,基于光罩的套刻误差分别获取各区块的套刻误差;获取用于光罩的设计版图,根据各套刻误差补偿设计版图,得到设计补偿版...
光刻胶转移方法、半导体结构及显示基板
本申请提供了一种光刻胶转移方法、半导体结构及显示基板。该光刻胶转移方法包括:制备第一印章,第一印章包括第一印章基底及贴附于第一印章基底一侧的第一粘附图案;使第一印章的第一粘附图案接触第一光刻胶,第一光刻胶选择性地粘附于第一粘附图案远离第一印...
一种框架幕
一种框架幕,包括支撑结构、膜片和边框,所述支撑结构粘贴设置在所述膜片的非成像显示面,所述边框设置在所述膜片的四周边缘,所述边框包括相对设置的第一边框和相对设置的第二边框,所述第一边框包括第一组件和第二组件,所述第一组件用于锁紧所述膜片,所述...
收集器流动环
提供了用于收集器流动环(CFR)壳体的系统、设备和方法,收集器流动环(CFR)壳体被配置为减轻燃料碎屑在极紫外(EUV)辐射系统中的积聚。示例CFR壳体可以包括多个喷头流动通道出口,该多个喷头流动通道出口被配置为在CFR壳体的等离子体面向的...
掩模版坐标校准方法、装置、设备和存储介质
本申请涉及一种掩模版坐标校准方法、系统、掩模版设备和存储介质。所述方法包括:获得一张目标掩模版,所述目标掩模版为测量及校准后的金版;建立掩模版设备的坐标系和所述目标掩模版的测量坐标系;分别以N个角度测量所述目标掩模版的测量矩阵,所述N为大于...
一种多媒体信息显示投影屏幕
本实用新型公开了一种多媒体信息显示投影屏幕,包括,底座,所述安装块的内部设置有安装槽,所述安装槽的内表面滑动连接有连接块,所述连接块的内部设置有第一滑槽,所述第一滑槽的前内壁固定连接有第一弹簧,通过将连接块插入安装槽,推动拨块,拨块带动限位...
一种深海数字激光全息成像系统及成像方法
本发明公开了一种深海数字激光全息成像系统及成像方法,属于深海目标检测设备技术领域,包括光源舱和成像舱,二者相互靠近的一端均设有光学窗口端盖,两个光学窗口端盖上设有同轴设置的光学窗口;光源舱内部设有一端与光学窗口端盖相连接的笼式光路支撑结构,...
光源装置和投影仪
提供光源装置和投影仪,光利用效率优异。光源装置具有:第1光源,射出第1光;第1波长转换元件,将第1光转换为第2光;第1光学层,使第1光透过并反射第2光;第1导光部,引导第2光;第2光源,射出第3光;第2波长转换元件,将第3光转换为第4光;第...
时钟和数据恢复部件的动态增益控制
本文涉及时钟和数据恢复部件的动态增益控制。在一些实施方式中,时钟和数据恢复(CDR)芯片包括连续时间线性均衡器(CTLE)电路和温度测量部件,其中CTLE电路能够以可变增益值来配置,并且其中可变增益值是基于温度测量部件的输出的。
一种基于激光直写一步制备双环形结构的系统及方法
本发明公开了一种基于激光直写一步制备双环形结构的系统及方法,该系统包括沿光路设置的连续激光器、扩束系统、衰减片、半波片、光快门、分光装置、油浸物镜和正负性可调光刻胶样品;还包括三维高精度纳米定位平移台、透镜、CCD相机和计算机;分光装置将入...
多带电粒子射束描绘装置及其调整方法
提供能够简便且高精度地进行多射束的像散校正的多带电粒子射束描绘装置及其调整方法。多带电粒子射束描绘装置具备:物镜,调整多射束的焦点位置;像散校正元件,校正多射束的像散;检查孔径,使多射束中的一根通过;偏转器,使多射束偏转,在检查孔径上扫描多...
相位转移光掩模
本发明公开一种相位转移光掩模,其包括透明基板、主特征图案以及桥接特征图案。主特征图案设置在透明基板上且包括多个第一相位转移图案,其中多个第一相位转移图案在第一方向上沿伸且在与第一方向交叉的第二方向上彼此间隔开来。桥接特征图案设置在透明基板上...
多带电粒子束描绘区域的有效温度计算方法、多带电粒子束描绘装置、多带电粒子束描绘方法及程序
多带电粒子束描绘区域的有效温度计算方法在射束阵列区域通过温度计算对象的关注网格区域的时间区域中,累计关注网格区域的周围的多个单位热源区域提供给关注网格区域的温度上升量,计算关注网格区域的有效温度。在射束阵列区域通过关注网格区域的时间区域内的...
光源装置和投影仪
本发明提供光源装置和投影仪,其光利用效率优异。本发明的光源装置具备:第1光源,其射出第1光;第1波长转换元件,其将第1光转换为第2光;第1光学层,其使第1光透过并反射第2光;第1导光部,其对第2光进行导光;第2光源,其射出第3光;第2波长转...
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