Document
拖动滑块完成拼图
首页 专利交易 IP管家助手 科技果 科技人才 积分商城 国际服务 商标交易 会员权益 需求市场 关于龙图腾
 /  免费注册
到顶部 到底部
清空 搜索
摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 本发明提供一种黑色树脂组合物、硬化膜以及黑色滤光片。黑色树脂组合物包括黑色着色剂(A)、乙烯性不饱和单体(B)、溶剂(C)、树脂(D)、光起始剂(E)、紫外线吸收剂(F)以及表面活性剂(G),其中所述树脂(D)包括重量平均分子量为2, 00...
  • 本公开提供一种光学调节器件、镜头组件及电子设备。光学调节器件包括第一调节件和第二调节件,第一调节件包括第一反射面和第二反射面,第二调节件包括第三反射面和第四反射面,第一调节件相对第二调节件活动设置;光学调节器件被配置为,通过调整第一调节件相...
  • 本实用新型涉及一种掩膜板检测用固定机构及用于掩膜板检测的设备,属于掩膜板检测技术领域。本实用新型以环形的底板为基础,在相对两角分别设置第一直角抵接端和第二直角抵接端并配合固定吸附件和移动吸附件以对掩膜板进行两个对角的限位,从而实现对掩膜板的...
  • 提供:能够得到具有更优异的断裂伸长率的固化物而不有损作为负型感光性树脂组合物的分辨率的目标的溶解对比度(γ值)的负型感光性树脂组合物。提供一种负型感光性树脂组合物,其特征在于,包含:(A)多羟基酰胺化合物、(B)光产酸剂、(C)交联剂和(D...
  • 本发明所涉及的感光性树脂组合物含有粘合剂聚合物、光聚合性化合物、光聚合引发剂及增感剂,粘合剂聚合物具有源自丙烯酸的第1结构单元、源自苯乙烯或苯乙烯衍生物的第2结构单元及源自(甲基)丙烯酸酯化合物的第3结构单元,以源自构成粘合剂聚合物的聚合性...
  • 本公开提供了一种光学元件驱动机构。光学元件驱动机构包含一第一活动部、一固定组件、一第一驱动组件以及一锁附组件。第一活动部包括一光学元件。固定组件具有一第一开口,并且第一活动部可相对固定组件运动。第一驱动组件配置以驱动第一活动部相对固定组件运...
  • 本发明实施例公开了一种本发明实施例提供了一种驱动装置、镜头模组和电子设备,驱动装置的传动机构包括曲柄和与曲柄连接的至少两个连杆,曲柄与底座相对摆动连接,每个连杆与一个移动镜头座连接,第一驱动机构驱动曲柄转动,曲柄通过连杆带动多个移动镜头座移...
  • 本发明公开一种动态反射产生抽象光纹理的装置,包括:机箱主体、反射凹凸镜、竖向移动组件以及横向移动组件;机箱主体的光线入射端设有防水玻璃;竖向移动组件包括:升降板、齿条、齿轮、电机以及电机固定板;升降板的一端与机箱主体的内壁铰接,另一端与齿条...
  • 本实用新型提供了一种阻尼旋钮机构以及跟焦遥控器,阻尼旋钮机构包括基座、转动组件以及阻尼调节组件,转动组件可转动地安装于基座;阻尼调节组件包括阻尼件和驱动件,阻尼件设置于基座和驱动件之间,驱动件活动连接于转动组件,驱动件能够相对转动组件绕基座...
  • 本发明公开一种多波长叠栅条纹阵列标记对准调平系统及方法,包括扫描运动台、掩模台、激光光源、耦合器、准直扩束器、掩模对准标记光栅、基片对准标记光栅、分光棱镜、相机。激光光源控制发出平行光源,通过耦合器进行光束耦合,再经过准直扩束器进行入射光斑...
  • 本发明实施例提供了一种主控设备切换的方法、装置、电子设备和存储介质,获取第一主控设备的元数据,获取第一主控设备的地址标识和第二主控设备的地址标识;建立第一主控设备的地址标识与预设标识的第一映射关系,预设标识与第一主控设备的元数据的第二映射关...
  • 本发明涉及一种降低浸没式光刻机曝光缺陷的方法,包括:通过悍马法制备氧化石墨烯,并利用阳离子‑π相互作用制备阳离子控制的氧化石墨烯膜;将所述氧化石墨烯膜装配在浸没式光刻机的浸没系统的液体通道中,以使浸没液流经所述氧化石墨烯膜进行纯化后再流向晶...
  • 本实用新型公开了一种投影机的光机散热结构,包括光机机身、PCB板和一体散热结构,光机机身侧部底端设有PCB板,PCB板下表面开设有凹槽,用于放置成像芯片;成像芯片通过与其接触的导热冷头导出热量到热电制冷片冷面,从而降低且控制成像芯片的温度,...
  • 一种多波段直写式曝光镜头及曝光设备,所述多波段直写式曝光镜头包括光源和成像镜头,所述光源发出的光线通过所述成像镜头投影至工件,所述光源为微发光二极管阵列,所述微发光二极管阵列连接图形控制单元,所述图形控制单元控制每个微发光二极管的开启或者关...
  • 本发明涉及光掩模生产领域,特别是涉及一种光掩模修补方法及装置,通过扫描待处理光掩模,得到光掩模图像信息;根据所述光掩模图像信息,确定风险颗粒缺陷;根据预设的寻址规则,确定各个所述风险颗粒缺陷对应的蚀刻区域;所述蚀刻区域位于所述风险颗粒缺陷相...
  • 本实用新型涉及曝光设备技术领域,特别是涉及一种箔式电阻应变计生产用曝光设备,其包括操作台、支撑座、压盖、张紧组件、推板、直线驱动组件以及升降驱动组件。操作台上设置机箱,机箱内设置曝光组件和抽真空组件,机箱上设置门洞;支撑座的底部设置滑座,滑...
  • 本实用新型公开了一种具有气浴装置的光刻设备,光刻设备包括多个曝光镜头,以及安装于曝光镜头一侧的气浴装置,气浴装置包括内部形成气浴腔的壳体,壳体一端设置有与气浴腔连通的进气口,多组出气通道间隔设置于所述壳体一侧或相对两侧,每组出气通道包括多个...
  • 本实用新型涉及一种用于EUV光源光能引导及监控的光学系统,属于EUV光刻工艺技术领域。本实用新型通过在光源后构建由多组不同的反射镜构成的光学系统,该光学系统包括直角棱镜反射镜组、抛物面反射镜等多种结构的反射镜组件,采用全反射系统,避免了透射...
  • 一种防护膜(100),其含有第1纤维状材料(1)和第2纤维状材料(2),第1纤维状材料(1)的长度LFB1为20μm以下,第2纤维状材料(2)的长度LFB2为100μm以上且小于250μm。一种防护膜组件(200),其具备:具有框部(31)...
  • 一种光学镜头(10),包括:第一光学透镜(111)、第二镜头部分(12)和遮光件(13)。第二镜头部分(12),包括镜筒(121)和安装于镜筒(121)内的至少一第二光学透镜(122)。第一光学透镜(111)被设置于第二镜头部分(12)上。...
技术分类