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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 一种光刻胶剥离液及其使用方法
    一种光刻胶剥离液及其使用方法_广州微纳芯材料科技有限公司_202510909303.3
    本发明涉及半导体技术领域，具体的，涉及一种光刻胶剥离液及其使用方法。按重量百分比计，组分包括：非质子极性溶剂70‑90％、有机烷醇胺10‑30％、金属抑制剂0.01‑1.5％、界面活性剂0.05‑0.3％；所述金属抑制剂包括四氮唑类衍生物和...
    2025-08-20
  • 光阻成型设备及光阻成型方法
    光阻成型设备及光阻成型方法_TCL华星光电技术有限公司_202210290770.9
    本申请实施例公开了一种光阻成型设备及光阻成型方法，其中，光阻成型设备包括像素极板、喷洒装置以及控制装置。本申请的实施例通过像素极板上的各个像素电极吸附光阻液滴，使得光阻液滴按照其预设图案吸附在衬底上，无需曝光显影操作，简化了加工工艺，同时不...
    2025-08-20
  • 掩膜版偏移量测量方法
    掩膜版偏移量测量方法_上海仪电显示材料有限公司_202510746750.1
    一种掩膜版偏移量测量方法，包括：第一掩膜版上具有第一标识，第二掩膜版上具有第二标识，对基板的同一曝光区域，先采用第一掩膜版进行第一次曝光，而后采用第二掩膜版进行第二次曝光，从而在基板上产生相互重叠的第一标识和第二标识；根据基板上的第一标识和...
    2025-08-20
  • 光刻监测图形及掩膜版图形
    光刻监测图形及掩膜版图形_重庆芯联微电子有限公司_202510785196.8
    本发明提供一种光刻监测图形及掩膜版图形，通过将邻近效应测试图形、线端间距测试图形和线端与圆形结构间距测试图形合并为一个光刻监测图形，所述邻近效应测试图形的子图形位于所述线端间距测试图形和所述线端与圆形结构间距测试图形之间，且所述线端间距测试...
    2025-08-20
  • 感光性树脂组合物、感光干膜及其应用
    感光性树脂组合物、感光干膜及其应用_杭州福斯特电子材料有限公司_202510693714.3
    本发明提供了一种感光性树脂组合物、感光干膜及其应用。感光性树脂组合物包括：碱溶性树脂、光聚合性单体和光引发剂；其中，碱溶性树脂具有如下式(I)所示结构。本发明采用含有环烯酮缩醛类化合物单体开环形成的碱溶性树脂，具有较好的疏水性、较低的玻璃化...
    2025-08-20
  • 一种鼠标接收器
    一种鼠标接收器_深圳市神力传奇文化有限公司_202421827011.2
    本实用新型公开一种鼠标接收器，包括接收器壳体和设置于接收器壳体内的控制单元；所述控制单元电连接有用于与电脑相连接的USB接口和用于与鼠标无线发射单元无线通讯连接的无线接收单元，控制单元能通过USB接口接收来自电脑驱动软件的鼠标参数信息，控制...
    2025-08-20
  • 一种投影设备
    一种投影设备_青岛海信激光显示股份有限公司_202422272969.6
    本实用新型公开了一种投影设备，包括：投影光源，用于出射投影光线；复眼透镜，位于投影光源的出光光路上；复眼透镜包括多个形状相同的微透镜；显示元件，位于复眼透镜的出光光路上；显示元件用于根据待显示图像的图像数据对入射光线进行亮度调制，形成显示图...
    2025-08-20
  • 快门组件及缝隙式大画幅扫描相机
    快门组件及缝隙式大画幅扫描相机_清华大学_202510755394.X
    本发明涉及光学装置技术领域，尤其涉及一种快门组件及缝隙式大画幅扫描相机，快门组件包括胶片盒、缝隙扫描机构和直线驱动机构，胶片盒内设置有感光部件；缝隙扫描机构包括承载部件和刚性插片，承载部件与胶片盒导向配合；刚性插片插设于胶片盒，其两端固定于...
    2025-08-20
  • 压印工艺中控制溢胶圈大小的方法
    压印工艺中控制溢胶圈大小的方法_上海鲲游科技有限公司_202510924699.9
    本发明提供了一种压印工艺中控制溢胶圈大小的方法，该方法包括：调整滚轮压力、滚轮速度和胶水厚度变化量中的至少一者，以调节压印工艺中控制溢胶圈大小的系数属于参考区间内，使得滚轮覆盖前后胶水体积变化量大于或等于胶水挤出流量，压印工艺中控制溢胶圈大...
    2025-08-20
  • 电子设备
    电子设备_维沃移动通信有限公司_202422554542.5
    本申请公开一种电子设备，属于电子设备领域，电子设备包括镜片、摄像模组、灯罩和补光灯，所述摄像模组、所述灯罩和所述补光灯均设置于所述镜片的同一侧，且所述灯罩罩设于所述补光灯朝向所述镜片的一侧；在垂直于镜片的进光方向的平面内，所述补光灯的投影位...
    2025-08-20
  • 矩阵型白激光灯以及投影装置
    矩阵型白激光灯以及投影装置_中山联正科技有限责任公司_202422244978.4
    本实用新型公开了一种矩阵型白激光灯以及投影装置，涉及激光光学整形技术领域，其中，矩阵型白激光灯包括基板、多个白激光组件以及多个偏移组件；多个白激光组件安装于基板上，各白激光组件用于发出白激光光束；多个偏移组件与至少部分多个白激光组件对应设置...
    2025-08-20
  • 一种电活性材料驱动的非相继三状态式摇摆机构
    一种电活性材料驱动的非相继三状态式摇摆机构_西安交通大学_202310506324.1
    本发明涉及智能材料技术领域，尤其涉及一种电活性材料驱动的非相继三状态式摇摆机构，包括转角执行器、边界控制器和菱形驱动器，边界执行器包括连接框架、柔性梁和导向块，连接框架包括呈十字设置的横向框架和竖向框架，导向块通过柔性梁悬挂于横向框架上；转...
    2025-08-20
  • 用于确定掩模版变形的方法和系统
    用于确定掩模版变形的方法和系统_ASML荷兰有限公司_202380088639.7
    一种计算机系统，所述计算机系统被配置成依赖于处于冷状态中的掩模版的参考数据和所述掩模版的掩模版对准量测来初始化掩模版加热模型。在对第一批次衬底执行光刻过程时更新所述掩模版加热模型的状态。储存所述掩模版加热模型的当前状态。生成掩模版输送数据。...
    2025-08-20
  • 曝光装置以及物品的制造方法
    曝光装置以及物品的制造方法_佳能株式会社_202111052718.1
    本发明涉及曝光装置以及物品的制造方法。为了提供能够考虑载置台的移动而校正载置台的位置的测量结果从而提高曝光性能的曝光装置，本发明涉及的曝光装置具备：第1载置台，具有第1反射面，一边保持基板及原版中的一方，一边以预定的频率往返移动；第1测量部...
    2025-08-20
  • 光刻装置及其中的基底传输方法
    光刻装置及其中的基底传输方法_上海微电子装备(集团)股份有限公司_202011413536.8
    本发明公开了一种光刻装置及其中的基底传输方法，所述光刻装置包括工件台以及基底传送装置，所述基底传送装置用于传送基底，所述基底传送装置包括基底传送板叉，所述基底传送板叉包括板叉臂、吸附组件以及驱动组件。所述板叉臂上设置有至少两个吸附组件，通过...
    2025-08-20
  • 一种光刻胶用剥离液及其制备方法
    一种光刻胶用剥离液及其制备方法_惠州达诚微电子材料有限公司_202410545014.5
    本发明涉及一种光刻胶用剥离液及其制备方法，剥离液按照重量份数计算，包括：32‑58份有机胺、0.5‑2.5份螯合剂、0.2‑2份表面活性剂和50‑80份有机溶剂；其中，所述有机胺为2‑羟基吡啶‑N‑氧化物和单乙醇胺经过酯化反应结合后的反应产...
    2025-08-20
  • 一种防溅射装置、清洁装置及基板处理设备
    一种防溅射装置、清洁装置及基板处理设备_盛美半导体设备(上海)股份有限公司_202410438100.6
    本申请涉及半导体器件制造领域，具体为一种防溅射装置、清洁装置及基板处理设备。防溅射装置用于阻挡喷嘴喷射至基板上的药液溅射至腔室内，具体包括第一保护罩，所述喷嘴设置在所述第一保护罩内；第二保护罩，当喷嘴向基板喷射药液时围设在所述基板和所述第一...
    2025-08-20
  • 一种曝光参数快速整定方法、系统及数字曝光机
    一种曝光参数快速整定方法、系统及数字曝光机_深圳光迪科技有限公司_202211516147.7
    本发明公开了一种曝光参数快速整定方法、系统及数字曝光机，方法包括：控制数字曝光机的曝光头投射图案处于静态全投射状态；以给定的初始曝光头光功率、初始曝光静态扫描速度对曝光头投射图案进行曝光尺标定曝光；根据曝光尺的标定曝光结果调节曝光静态扫描速...
    2025-08-20
  • 一种热成像快门
    一种热成像快门_深圳市赤翼电子有限公司_202422039245.7
    本实用新型涉及一种热成像快门，包括安装座，所述安装座上设置有安装座通光孔，所述安装座上转动设置有叶片组件，所述叶片组件上设置有滑槽，所述滑槽内滑设有滑柱，所述滑柱的侧壁上可拆装设置有软垫，所述安装座上设置有驱动滑柱的驱动机构，驱动机构驱动滑...
    2025-08-20
  • 光刻曝光控制方法及装置
    光刻曝光控制方法及装置_中国科学院上海高等研究院_202510693132.5
    本说明书涉及一种光刻曝光控制方法及装置，方法包括：获取样品台底座的当前速度和当前加速度；将所述样品台底座的当前速度和当前加速度输入预先训练的相对位移预测模型中，以输出掩模和样品之间的当前相对位移；基于掩模和样品之间的当前相对位于以及历史相对...
    2025-08-20
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