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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 一种掩膜版、曝光设备和曝光方法
    一种掩膜版、曝光设备和曝光方法_京东方科技集团股份有限公司_202211203997.1
    本申请实施例提供了一种掩膜版、曝光设备和曝光方法。该掩膜版包括：有多个子掩膜图形组的第一掩膜子版和有多个透光区的第二掩膜子版。第二掩膜子版设置在第一掩膜子版的一侧，且能够相对第一掩膜子版移动。移动对位结构与第二掩膜子版连接，用于根据接收到的...
    2025-08-22
  • 投影设备
    投影设备_深圳市当智科技有限公司_202510932351.4
    本发明公开了一种投影设备，包括支架、光机组件、水冷系统，所述光机组件包括光阀壳体和光阀，所述光阀安装于所述光阀壳体内，所述支架内开设有与所述水冷系统连通的水流通道，所述支架于对应所述水流通道位置的外表面形成第一散热面，所述光阀壳体与所述第一...
    2025-08-22
  • 基于信息交叉验证的企业信用风险评估方法及系统
    基于信息交叉验证的企业信用风险评估方法及系统_广州科技贸易职业学院_202510655712.5
    本发明涉及企业信用风险评估技术领域，一种基于信息交叉验证的企业信用风险评估方法及系统，包括：根据风险评估指标及前向风险指标组合构建迭代风险指标组合，根据违约率逼近值集计算风险评估指标的违约率置信度，得到违约率置信度集，根据违约率置信度集构建...
    2025-08-22
  • 制造电子器件的水溶液、制造抗蚀剂图案的方法以及制造器件的方法
    制造电子器件的水溶液、制造抗蚀剂图案的方法以及制造器件的方法_默克专利有限公司_202480007309.5
    提供一种制造电子器件的水溶液，其能抑制缺陷。提供了一种制造电子器件的水溶液，其包含：具有特定结构的磺酸衍生物(A)、含有水的溶剂(B)以及具有特定结构的羟基衍生物(C)。
    2025-08-22
  • 一种三余度飞控系统的可靠性和MTBF分析方法
    一种三余度飞控系统的可靠性和MTBF分析方法_中国航空工业集团公司西安飞行自动控制研究所_202510537176.9
    本发明属于民机飞控系统验证的技术领域，具体涉及一种三余度飞控系统的可靠性和MTBF分析方法。包括：步骤1：构造三余度飞控系统和故障的整合形式化模型；步骤2：基于三余度飞控系统和故障的整合形式化模型，构造单点故障统计数学模型，并将整合形式化模...
    2025-08-22
  • 电子器件的制造方法
    电子器件的制造方法_极光先进雷射株式会社_202080104279.1
    本公开的一个观点的电子器件的制造方法包含以下步骤：根据在晶片的扫描场内被形成的图案求出作为与扫描方向正交的扫描宽度方向上的畸变成分的倍率；在扫描场内的多点计测晶片高度，求出扫描宽度方向的晶片高度的平均值；求出在基于晶片高度的平均值的对焦位置...
    2025-08-22
  • 用于光刻仿真的方法、设备和介质
    用于光刻仿真的方法、设备和介质_全芯智造技术有限公司_202411311559.6
    本公开的实施例涉及一种用于光刻仿真的方法、设备和介质。在此提出的方法包括：将待仿真的光刻胶区域划分为多个光刻胶单元；基于光刻胶区域中的光刻胶的力学性质、光刻胶单元之间的平衡距离和用户设置的用于近邻相互作用的截断半径，确定与光刻胶势能相关联的...
    2025-08-22
  • 一种运动摄像机主动散热机构
    一种运动摄像机主动散热机构_深圳市奥赛克科技有限公司_202510989315.1
    本发明公开了一种运动摄像机主动散热机构，属于运动相机技术领域，包括支架以及设置于支架顶端且用于安装运动相机的相机壳体，相机壳体上装配有散热器，相机壳体上开设有与散热器相配合的圆形孔，圆形孔内固定设置有第二孔板，第二孔板的外侧贴合设置有第一孔...
    2025-08-22
  • 用于投射曝光设备的模块、方法以及投射曝光设备
    用于投射曝光设备的模块、方法以及投射曝光设备_卡尔蔡司SMT有限责任公司_202480008279.X
    本发明有关于用于半导体光刻的投射曝光设备(1、101)的模块，包含加热装置，其具有至少一个辐射源(53)，用于发射电磁加热辐射以加热模块的部件(Mx、117)的至少多个区域。在本文中，加热装置包含至少一个加热元件(51)，其内建于部件(Mx...
    2025-08-22
  • 一种轻便式卡盘柔光箱
    一种轻便式卡盘柔光箱_绍兴上虞明星摄影器材厂_202422616528.3
    本实用新型提供了一种轻便式卡盘柔光箱，包括卡盘本体，卡盘本体上限位安装有用于连接柔光布的第一支撑杆，卡盘本体沿周向方向设置有滑动槽，滑动槽内滑动安装有用于连接柔光布的第二支撑杆，第二支撑杆可相对第一支撑杆沿周向方向转动打开或者收折，滑动槽一...
    2025-08-22
  • 一种光刻机的能量校准方法及装置
    一种光刻机的能量校准方法及装置_长鑫新桥存储技术有限公司_202510464927.9
    本公开实施例提供一种光刻机的能量校准方法及装置。所述方法包括：利用温度传感器测量得到光刻过程中的温度参数；根据预设关系模型，得到所述温度参数对应的能量转换系数；所述预设关系模型为能量转换系数与温度参数的关系模型；基于所述能量转换系数对光刻机...
    2025-08-22
  • 一种双余度控制器的主备通道判别方法
    一种双余度控制器的主备通道判别方法_中国航空工业集团公司金城南京机电液压工程研究中心_202510537212.1
    本发明属于属于航空机电技术领域，涉及一种双余度控制器的主备通道判别方法。基于硬件平台支持通道间CCDL通信、NVM非易失性存储器和FPGA现场可编程门阵列进行设计，通过CCDL通信获取对方通道的通道类型数据、NVM存储大小码值、随机数，判别...
    2025-08-22
  • 光致抗蚀剂组合物及图案形成方法
    光致抗蚀剂组合物及图案形成方法_罗门哈斯电子材料有限责任公司_202110793744.3
    本文公开了一种光致抗蚀剂组合物，其包含：通过自由基聚合形成的第一聚合物，所述第一聚合物包含由包含烯属不饱和双键和酸不稳定基团的单体形成的聚合单元；光酸产生剂；具有式(1)的淬灭剂：
    2025-08-22
  • 提升光刻工艺窗口的方法
    提升光刻工艺窗口的方法_安徽晶微科技有限公司_202510763409.7
    一种提升光刻工艺窗口的方法包括步骤：S1，提供两张光刻流程前的产品片；S2，涂胶，获得两张涂胶片，针对两张产品片，采用不同粘度的胶且旋涂匀胶后的厚度相同，其余涂胶参数相同；S3，曝光，涂胶后的各涂胶片采用沿X方向和Y方向二维阵列分布的晶粒构...
    2025-08-22
  • 优化光源的方法
    优化光源的方法_上海华力集成电路制造有限公司_202510821467.0
    本发明公开了一种优化光源的方法，包括：步骤一、采用初始光源进行SMO优化得到输出光源。步骤二、采用输出光源进行仿真得到工艺窗口。当工艺窗口满足要求时，输出光源作为最终输出光源。当工艺窗口偏小时，进行后续步骤三。步骤三、选出位于工艺窗口的边界...
    2025-08-22
  • 碱性显影型树脂组合物、干膜、固化物和具有该固化物的电子部件
    碱性显影型树脂组合物、干膜、固化物和具有该固化物的电子部件_太阳油墨(苏州)有限公司_202480007014.8
    一种碱性显影型树脂组合物、干膜、固化物和具有该固化物的电子部件。碱性显影型树脂组合物由至少双组分体系的树脂组合物构成，碱性显影型树脂组合物含有：(A)环氧树脂、(B)含羧基乙烯基酯树脂、(C)光聚合引发剂、(D)感光性单体、(E)无机填料和...
    2025-08-22
  • 工作模胶、工作模及工作模胶的制备方法
    工作模胶、工作模及工作模胶的制备方法_业桓科技(成都)有限公司_202510947422.8
    本申请提供一种工作模胶，应用于纳米压印技术中，由以下组分组成：具有层状晶体结构的物质含量为1%~50wt%；丙烯酸酯的含量为20%~90wt%；甲基丙烯酸酯的含量为5%~20wt%；以及光起始剂的含量为1%~10wt%；其中，各组分的含量总...
    2025-08-22
  • 一种母管制机组的协调控制方法、装置、电子设备和存储介质
    一种母管制机组的协调控制方法、装置、电子设备和存储介质_烟台龙源电力技术股份有限公司_202510618779.1
    本申请公开了一种母管制机组的协调控制方法、装置、电子设备和存储介质，该方法和装置应用于电子设备，具体为基于高压蒸汽母管的多个历史压力值和蒸汽阀的多个历史开度值进行计算处理，得到第一控制器输出值；基于每台汽机的可调节裕度、发电量偏离值和第一控...
    2025-08-22
  • 一种光场分辨方法和系统
    一种光场分辨方法和系统_中国科学院光电技术研究所_202510889388.3
    本申请提供一种光场分辨方法和系统，涉及超快光场成像技术领域。所述光场分辨方法包括：将参考光束进行延时处理，得到延时参考光束；将探针光束进行延时处理，得到延时探针光束；将所述延时探针光束经过超快事件场景，得到调制探针光束；将所述调制探针光束和...
    2025-08-22
  • 光刻机的曝光剂量计算方法
    光刻机的曝光剂量计算方法_新毅东(北京)科技有限公司_202510990566.1
    本申请涉及光刻机技术领域，更为具体地说，涉及一种光刻机的曝光剂量计算方法，提供了一种光刻机的曝光剂量计算方法，该光刻机的曝光剂量计算方法包括：在匀光系统两端的第一分光棱镜和第二分光棱镜处分别设置第一反射率传感器和第二反射率传感器以获得光源发...
    2025-08-22
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