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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 掩模版坐标校准方法、装置、设备和存储介质
    掩模版坐标校准方法、装置、设备和存储介质_佛山清溢微电子有限公司_202510805793.2
    本申请涉及一种掩模版坐标校准方法、系统、掩模版设备和存储介质。所述方法包括：获得一张目标掩模版，所述目标掩模版为测量及校准后的金版；建立掩模版设备的坐标系和所述目标掩模版的测量坐标系；分别以N个角度测量所述目标掩模版的测量矩阵，所述N为大于...
    2025-09-01
  • 一种多媒体信息显示投影屏幕
    一种多媒体信息显示投影屏幕_北京洛德时代文化产业发展有限公司_202422635142.7
    本实用新型公开了一种多媒体信息显示投影屏幕，包括，底座，所述安装块的内部设置有安装槽，所述安装槽的内表面滑动连接有连接块，所述连接块的内部设置有第一滑槽，所述第一滑槽的前内壁固定连接有第一弹簧，通过将连接块插入安装槽，推动拨块，拨块带动限位...
    2025-09-01
  • 一种深海数字激光全息成像系统及成像方法
    一种深海数字激光全息成像系统及成像方法_山东大学_202510642738.6
    本发明公开了一种深海数字激光全息成像系统及成像方法，属于深海目标检测设备技术领域，包括光源舱和成像舱，二者相互靠近的一端均设有光学窗口端盖，两个光学窗口端盖上设有同轴设置的光学窗口；光源舱内部设有一端与光学窗口端盖相连接的笼式光路支撑结构，...
    2025-09-01
  • 光源装置和投影仪
    光源装置和投影仪_精工爱普生株式会社_202510200917.4
    提供光源装置和投影仪，光利用效率优异。光源装置具有：第1光源，射出第1光；第1波长转换元件，将第1光转换为第2光；第1光学层，使第1光透过并反射第2光；第1导光部，引导第2光；第2光源，射出第3光；第2波长转换元件，将第3光转换为第4光；第...
    2025-09-01
  • 时钟和数据恢复部件的动态增益控制
    时钟和数据恢复部件的动态增益控制_朗美通经营有限责任公司_202510186333.6
    本文涉及时钟和数据恢复部件的动态增益控制。在一些实施方式中，时钟和数据恢复(CDR)芯片包括连续时间线性均衡器(CTLE)电路和温度测量部件，其中CTLE电路能够以可变增益值来配置，并且其中可变增益值是基于温度测量部件的输出的。
    2025-09-01
  • 一种基于激光直写一步制备双环形结构的系统及方法
    一种基于激光直写一步制备双环形结构的系统及方法_华南师范大学_202210868958.7
    本发明公开了一种基于激光直写一步制备双环形结构的系统及方法，该系统包括沿光路设置的连续激光器、扩束系统、衰减片、半波片、光快门、分光装置、油浸物镜和正负性可调光刻胶样品；还包括三维高精度纳米定位平移台、透镜、CCD相机和计算机；分光装置将入...
    2025-09-01
  • 多带电粒子射束描绘装置及其调整方法
    多带电粒子射束描绘装置及其调整方法_纽富来科技股份有限公司_202210259329.4
    提供能够简便且高精度地进行多射束的像散校正的多带电粒子射束描绘装置及其调整方法。多带电粒子射束描绘装置具备：物镜，调整多射束的焦点位置；像散校正元件，校正多射束的像散；检查孔径，使多射束中的一根通过；偏转器，使多射束偏转，在检查孔径上扫描多...
    2025-09-01
  • 相位转移光掩模
    相位转移光掩模_力晶积成电子制造股份有限公司_202410254067.1
    本发明公开一种相位转移光掩模，其包括透明基板、主特征图案以及桥接特征图案。主特征图案设置在透明基板上且包括多个第一相位转移图案，其中多个第一相位转移图案在第一方向上沿伸且在与第一方向交叉的第二方向上彼此间隔开来。桥接特征图案设置在透明基板上...
    2025-09-01
  • 多带电粒子束描绘区域的有效温度计算方法、多带电粒子束描绘装置、多带电粒子束描绘方法及程序
    多带电粒子束描绘区域的有效温度计算方法、多带电粒子束描绘装置、多带电粒子束描绘方法及程序_纽富来科技股份有限公司_202380014038.1
    多带电粒子束描绘区域的有效温度计算方法在射束阵列区域通过温度计算对象的关注网格区域的时间区域中，累计关注网格区域的周围的多个单位热源区域提供给关注网格区域的温度上升量，计算关注网格区域的有效温度。在射束阵列区域通过关注网格区域的时间区域内的...
    2025-09-01
  • 光源装置和投影仪
    光源装置和投影仪_精工爱普生株式会社_202510200919.3
    本发明提供光源装置和投影仪，其光利用效率优异。本发明的光源装置具备：第1光源，其射出第1光；第1波长转换元件，其将第1光转换为第2光；第1光学层，其使第1光透过并反射第2光；第1导光部，其对第2光进行导光；第2光源，其射出第3光；第2波长转...
    2025-09-01
  • 多层光罩的关键尺寸控制方法
    多层光罩的关键尺寸控制方法_合光光掩模科技(安徽)有限公司_202510976184.3
    本发明提供了一种多层光罩的关键尺寸控制方法，包括：将多层光罩的版图分为多个芯片层，每个芯片层的四周均设有切割道区域；针对每个芯片层，在位于该芯片层的四周的切割道区域均摆放至少一组关键尺寸量测图形组，每一组关键尺寸量测图形组均包括至少一种尺寸...
    2025-09-01
  • 一种PACK外壳堆叠柱机构
    一种PACK外壳堆叠柱机构_苏州优乐赛共享服务股份有限公司_202421821375.X
    本申请公开了一种PACK外壳堆叠柱机构，涉及堆叠技术领域，改善了现有物料存储方式不仅占用大量的存储空间且不便于配套机械手操作的问题，其包括间隔设置的立柱、设置于立柱上的联动托架，多个立柱构成矩形框架结构；联动托架包括转动设置于立柱的活动托板...
    2025-09-01
  • 相机兔笼
    相机兔笼_深圳市唯迹科技有限公司_202210835526.6
    本发明涉及一种相机兔笼，该相机兔笼包括支臂组件和驱动组件，支臂组件包括顺次相连的多个支撑臂，多个支撑臂能够围合形成收容空间，定义相邻两个支撑臂为第一支撑臂和第二支撑臂；驱动组件包括活动件和复位件，活动件在周向限位于第一支撑臂和第二支撑臂；活...
    2025-09-01
  • 绘制装置
    绘制装置_株式会社斯库林集团_202210803271.5
    绘制装置(1)的绘制头移动机构(42)使头单元(43)沿着头移动路径在第1绘制位置与第2绘制位置之间水平移动。气体送出部(5)沿着头移动路径配置。气体送出部(5)的气体流路(51)沿着头移动路径从第1绘制位置延伸到第2绘制位置。气体送出口设...
    2025-09-01
  • 一种APD光电探测器的实时增益放大控制电路
    一种APD光电探测器的实时增益放大控制电路_湖北三江航天万峰科技发展有限公司_202510650182.5
    本申请属于光电探测技术领域，具体公开了一种APD光电探测器的实时增益放大控制电路，包括：第一增益控制电路和第二增益控制电路；第一增益控制电路，用于接收APD光电探测器输出的光电探测信号，并按照第一增益对光电探测信号进行放大，获取第一放大信号...
    2025-09-01
  • 一种食品托盘收料装置
    一种食品托盘收料装置_湖北博洋环保塑料有限公司_202422696388.5
    本实用新型属于托盘加工领域，提供了一种食品托盘收料装置，所述托盘收料装置包括机架，所述机架的底部设有一对支撑限位座，顶部滑动设有接料座，所述机架的顶部还设有用于驱动接料座滑动的直线电机，所述支撑限位座上设有收料仓架，所述机架内正对收料仓架设...
    2025-09-01
  • 光源系统和投影装置
    光源系统和投影装置_中强光电股份有限公司_202410205719.2
    一种光源系统，可提供均匀度佳的照明光束，其包括分别提供第一和第二光束的激光光源模块与激发光源模块、合光元件、第一匀光元件、波长转换元件和第二匀光元件。第一匀光元件设置在激发光源模块和合光元件之间，其出光面为第一形状，且在垂直于第二光束的光轴...
    2025-09-01
  • 可调式光学模块及投影机
    可调式光学模块及投影机_中强光电股份有限公司_202211432882.X
    本发明提供一种可调式光学模块，包括光学元件、承载件、框架、两第一定位件、基座及两第二定位件。承载件或框架的包括从两侧凸出且沿第一轴线延伸的两第一枢轴，另一者包括两第一枢孔。两第一枢轴分别位于两第一枢孔内。框架或基座包括从两侧凸出且沿第二轴线...
    2025-09-01
  • 套刻标记结构及套刻误差测量方法
    套刻标记结构及套刻误差测量方法_荣芯半导体(宁波)有限公司_202510655265.3
    本发明提供一种套刻标记结构及套刻误差测量方法，所述套刻标记结构包括前层套刻标记和当层套刻标记，所述前层套刻标记包括多个第一子套刻标记，所述当层套刻标记包括多个第二子套刻标记，多个所述第一子套刻标记构成内部中空的第一方形，多个所述第二子套刻标...
    2025-09-01
  • 光刻胶去除方法和去胶机
    光刻胶去除方法和去胶机_无锡邑文电子科技有限公司_202210305069.X
    本实施例提供了一种光刻胶去除方法和去胶机，涉及半导体技术领域。去胶机包括去胶机本体、进气管道和等离子体形成装置。等离子体形成装置设置于去胶机本体的反应腔，等离子体形成装置具有与反应腔连通的等离子体形成腔室，等离子体形成装置用于形成等离子体。...
    2025-09-01
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