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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 本发明公开一种多波长叠栅条纹阵列标记对准调平系统及方法,包括扫描运动台、掩模台、激光光源、耦合器、准直扩束器、掩模对准标记光栅、基片对准标记光栅、分光棱镜、相机。激光光源控制发出平行光源,通过耦合器进行光束耦合,再经过准直扩束器进行入射光斑...
  • 本发明涉及一种降低浸没式光刻机曝光缺陷的方法,包括:通过悍马法制备氧化石墨烯,并利用阳离子‑π相互作用制备阳离子控制的氧化石墨烯膜;将所述氧化石墨烯膜装配在浸没式光刻机的浸没系统的液体通道中,以使浸没液流经所述氧化石墨烯膜进行纯化后再流向晶...
  • 本实用新型公开了一种投影机的光机散热结构,包括光机机身、PCB板和一体散热结构,光机机身侧部底端设有PCB板,PCB板下表面开设有凹槽,用于放置成像芯片;成像芯片通过与其接触的导热冷头导出热量到热电制冷片冷面,从而降低且控制成像芯片的温度,...
  • 一种多波段直写式曝光镜头及曝光设备,所述多波段直写式曝光镜头包括光源和成像镜头,所述光源发出的光线通过所述成像镜头投影至工件,所述光源为微发光二极管阵列,所述微发光二极管阵列连接图形控制单元,所述图形控制单元控制每个微发光二极管的开启或者关...
  • 本实用新型公开了一种具有气浴装置的光刻设备,光刻设备包括多个曝光镜头,以及安装于曝光镜头一侧的气浴装置,气浴装置包括内部形成气浴腔的壳体,壳体一端设置有与气浴腔连通的进气口,多组出气通道间隔设置于所述壳体一侧或相对两侧,每组出气通道包括多个...
  • 本发明涉及光掩模生产领域,特别是涉及一种光掩模修补方法及装置,通过扫描待处理光掩模,得到光掩模图像信息;根据所述光掩模图像信息,确定风险颗粒缺陷;根据预设的寻址规则,确定各个所述风险颗粒缺陷对应的蚀刻区域;所述蚀刻区域位于所述风险颗粒缺陷相...
  • 本实用新型涉及曝光设备技术领域,特别是涉及一种箔式电阻应变计生产用曝光设备,其包括操作台、支撑座、压盖、张紧组件、推板、直线驱动组件以及升降驱动组件。操作台上设置机箱,机箱内设置曝光组件和抽真空组件,机箱上设置门洞;支撑座的底部设置滑座,滑...
  • 本实用新型涉及一种用于EUV光源光能引导及监控的光学系统,属于EUV光刻工艺技术领域。本实用新型通过在光源后构建由多组不同的反射镜构成的光学系统,该光学系统包括直角棱镜反射镜组、抛物面反射镜等多种结构的反射镜组件,采用全反射系统,避免了透射...
  • 一种防护膜(100),其含有第1纤维状材料(1)和第2纤维状材料(2),第1纤维状材料(1)的长度LFB1为20μm以下,第2纤维状材料(2)的长度LFB2为100μm以上且小于250μm。一种防护膜组件(200),其具备:具有框部(31)...
  • 本实用新型公开了一种半导体套刻精度量测中长寿命快门结构,包括:快门挡片、小型气浮平台、音圈电机、磁栅尺模块以及接近式光电开关,所述快门挡片的右端连接所述小型气浮平台的内部滑块的左端,所述小型气浮平台的内部滑块的右端固定连接一个连接板的左侧,...
  • 本实用新型公开了一种曝光装置,曝光装置包括:机台;玻璃夹紧组件,玻璃夹紧组件设置于机台上,玻璃包括上玻璃夹紧件和下玻璃夹紧件,上玻璃夹紧件和下玻璃夹紧件相对设置,以适于将两者之间的物料夹紧,上玻璃夹紧件的一端相对下玻璃夹紧件可向上转动。由此...
  • 一种光学镜头(10),包括:第一光学透镜(111)、第二镜头部分(12)和遮光件(13)。第二镜头部分(12),包括镜筒(121)和安装于镜筒(121)内的至少一第二光学透镜(122)。第一光学透镜(111)被设置于第二镜头部分(12)上。...
  • 本发明提供一种限幅器、芯片及接收机。本发明通过设计限幅器中微带线和二极管单元的位置,本发明可以将限幅器中的二极管单元的功率平均分配,并且通过将分配完成的功率合成输出,本发明可以降低限幅器的功率损耗并提高输入信号的功率利用率;通过为二极管单元...
  • 本实用新型提出了一种可调光便捷摄影棚,包括背板、顶板、底板、左侧板和右侧板,所述背板、顶板、底板、左侧板和右侧板围成一面开口的箱体状结构,在箱体状结构的开口处、沿其边缘向外延伸设置有至少一个能够翻折的反光挡板,反光挡板的翻折角度可调;本实用...
  • 本实用新型涉及一种纠偏机构、曝光机构和曝光设备,所述纠偏机构包括安装底板、驱动调节机构和调节板,驱动调节机构安装于安装底板,调节板与驱动调节机构相连,纠偏机构竖直设置,驱动调节机构包括至少三个驱动装置,驱动装置分别设置于安装底板的相邻两边,...
  • 本发明属于纳米压印技术领域,公开了玻璃基板纳米压印工艺及设备。玻璃基板纳米压印工艺包括封闭母版并将玻璃基板移动至第一位置处遮挡母版;解除母版的封闭并在玻璃基板的遮挡下对母版点胶;移动热压组件至玻璃基板上方并控制玻璃基板和热压组件同步下压至固...
  • 一种光刻工艺监控方法及装置、计算机可读存储介质,所述方法包括:对采用待测光刻工艺制备得到的待测光刻层进行光学关键尺寸测量,得到光谱信息;将光谱信息输入预设数据库,预设数据库包括至少一个预设子数据库,各预设子数据库均具有一个样本光刻层的光谱信...
  • 本发明涉及电力装备技术领域,公开了一种电力电子变压器冗余控制器切换方法,包括如下步骤:构建冗余控制阵列来实时采集电力电子变压器的模拟量数据以获取两组瞬时交互数据;主控制器以其中任意一组瞬时交互数据生成控制逻辑来控制电力电子变压器的运行状态,...
  • 本发明提供一种高膜密度、高膜硬度、高耐蚀刻性的固化膜的制造方法。一种制造固化膜的方法,包括(1)在基板的上方应用组合物(i);(2)由组合物(i)形成含烃膜;以及(3)对含烃膜照射等离子体、电子束和/或离子,形成固化膜。该固化膜的使用。
  • 一种光束传递模块及具有此光束传递模块的投影装置。光束传递模块包括支架、致动器组件、光学组件以及支架盖。致动器组件配置于支架且位于影像光束的传递路径上。光学组件配置于支架且位于照明光束的传递路径上。支架盖承载光学组件并与支架连接。本发明的光束...
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