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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 本实用新型涉及画框投影技术领域,公开了一种可开门的画框投影幕,包括画框幕边框,所述画框幕边框设置有两组,所述画框幕边框之间固定连接有两组所述画框支撑杆,所述画框支撑杆的内侧固定连接有门框支撑杆,所述门框支撑杆的顶端安装有门楣主体,所述门框支...
  • 本发明适用于超快光学成像领域,提供了一种紧凑型的单次超快分幅直接成像装置,包括:飞秒激光器;倍频器;分光组件,用于将倍频光和剩余未倍频的基频光进行分光处理;展宽器,用于将基频光进行脉冲展宽,得到信号光;时序空间编码系统,用于将照射物体后的信...
  • 本实用新型公开了一种标定总成及具有其的曝光装置,标定总成包括支架、标定件和导光件,支架上设有安装槽;标定件设于安装槽上;导光件设于安装槽上且导光件设于标定件的出光侧,导光件用于调整标定件的标定光束延伸路径。通过在标定件的出光侧对应设置有导光...
  • 公开了一种推断光刻工艺的第一处理参数的值的方法,第一处理参数受制于第二处理参数的耦合相关性。方法包括根据测量数据确定第一度量和第二度量,第一度量和第二度量中的每一者取决于第一处理参数和第二处理参数两者。第一度量表示与第二处理参数相比对第一处...
  • 本实用新型涉及拍摄灯架技术领域,具体为一种组合式柔光布支架,包括用于安装闪光灯的轨道架和用于安装柔光布的柔光布支架,轨道架的底端固定安装有连接滑杆,轨道架的中部表面固定安装有安装板,安装板上固定安装有滑杆二,滑杆二与轨道架垂直设置,轨道架的...
  • 本发明公开了一种微纳结构、微纳结构的制备方法及应用,通过在模板的压印腔中注入过量的压印胶,然后刮除多余压印胶,在模板的第一表面形成厚度一致的压印胶层,然后将胶层直接与衬底进行压印,可以获得残胶层厚度一致的微纳结构,解决了残胶厚度不均的问题,...
  • 本申请公开了一种基于反演光刻技术的掩模规则违反约束方法及相关装置,涉及反演光刻技术中掩模规则检查及矫正技术领域,该方法包括获取目标图形对应的初始掩模;对初始掩模进行宽度违反、间距违反和最小面积违反的规则检查,确定初始掩模中掩模规则违反区域;...
  • 本实用新型公开了一种新型通风散热装置,包括机壳,机壳内连接有投影仪本体,所述机体包括互相扣合设置的上机体、下机体、后挡板和前挡板;所述前挡板与后挡板上均设有气流口,所述投影仪本体内设有连通前挡板与后挡板的气体通道,气体通道包括靠近前挡板设置...
  • 本申请涉及光罩盒技术的领域,尤其涉及一种半导体光罩盒支撑结构,其用于存储掩膜板,包括第一外盒、第二外盒、第一内盒、第二内盒和支撑件,第一外盒和第二外盒的同侧相互铰接,第一内盒和第二内盒分别对应连接于第一外盒和第二外盒的内腔中,支撑件连接于第...
  • 本实用新型公开了一种光伏玻璃加工用曝光台,包括支撑座与UV灯箱,所述支撑座内部设置有结构完全相同的送料组件与出料组件。本申请中,夹持架夹持到光伏玻璃水平端外表壁,以此实现光伏玻璃的夹持,接着升降缸拉动框架与光伏玻璃上行复位,驱动件带动传动杆...
  • 本发明涉及等离子体技术领域,特别涉及一种多电源的极紫外光生成系统和方法。所述系统包括:极紫外光发生器、电源装置和延迟装置;电源装置与极紫外光发生器电性连接,并向极紫外光发生器内部施加电流脉冲以辐射极紫外光;电源装置包括多个电源模块,每个电源...
  • 本发明公开了一种纳米压印拼版设备及拼版方法,包括:平台组件,设置有用于放置待加工晶圆的承接平台;压印组件,用于将软膜上的图案转移到晶圆上;膜框组件,设置在所述平台组件和所述压印组件之间,用于固定软膜;升降架组件,用于固定相机对位组件和UV光...
  • 本发明提供一种优化计算光刻回圈计算收敛的方法、系统、终端及介质,通过模型对光罩图形在光刻过程中的行为进行仿真,得到仿真光罩图形,进而基于其与仿真目标的差值动态确定当前回圈的反馈权重值,计算光罩图形边缘移动值并调整图形,形成的新光罩图形作为下...
  • 本实用新型公开了一种可调式反光装置,包括反光体和挡光件,所述反光体具有用于连接光源的安装孔,所述挡光件设于反光体所围设的空间内,且对应安装孔设置,所述反光体的反光面沿径向间隔设有至少两组转接点,所述挡光件通过连接件可拆卸连接于转接点,所述挡...
  • 本实用新型提供了一种避免颜色不均(Mura)的周边曝光机,包括一载台、一光源及一暗室,所述载台包括一底座、一盖板及若干支撑杆;所述盖板设置在所述底座上方,边缘为倾斜面设计,所述盖板的上表面为镜面结构,所述支撑杆阵列排序固定在所述底座上且上端...
  • 本实用新型涉及电子装置技术领域,具体为一种可变光圈摄像驱动装置。所述装置包括定子和动子;动子包括由内至外依次套设的第一旋转载体、第二旋转载体和支撑载体。还包括导轴,使所述支撑载体能够在底座上延第一方向和第二方向做往复运动。本实用新型的优点效...
  • 一种抗蚀剂下层膜形成用组合物,其含有第一成分和溶剂,所述第一成分具有芳香族环、通过单键直接键合于所述芳香族环的至少1个氧原子、以及酚性羟基以外的至少1个羟基,所述溶剂包含相对于所述溶剂为50质量%以上的水。
  • 本实用新型涉及一种用于立体仓储的冗余自动化控制系统,属于立体仓储库自动化控制技术领域。所述控制系统包括多个控制器、远程IO模块、多个变频器组、冗余双电源交换机及现场检测组件;现场检测组件连接到远程IO模块的IO接口;多个变频器组之间级联;多...
  • 本申请涉及干涉曝光机构及加工设备,其中干涉曝光机构包括:用于输出光束的光源;设置于光源一侧的扩束准直组件、设置于扩束准直组件一侧的偏振组件、设置于偏振组件一侧的反射镜单元;温控组件,位于偏振组件的一侧;样品加工台,位于反射镜单元的一侧;隔振...
  • 本发明涉及信用风险评估技术领域,具体为一种风控模型稳定性提升方法,包括对企业的预设风控模型进行识别分析,以确定预设风控模型的信用评估图谱;基于预设稳定性图谱对企业现有预设风控模型的信用评估图谱进行对比分析,查找到企业当前使用的预设风控模型稳...
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