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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 一种箔式电阻应变计生产用曝光设备
    一种箔式电阻应变计生产用曝光设备_厦门市诺盛测控技术有限公司_202423313889.7
    本实用新型涉及曝光设备技术领域，特别是涉及一种箔式电阻应变计生产用曝光设备，其包括操作台、支撑座、压盖、张紧组件、推板、直线驱动组件以及升降驱动组件。操作台上设置机箱，机箱内设置曝光组件和抽真空组件，机箱上设置门洞；支撑座的底部设置滑座，滑...
    2025-11-20
  • 一种具有气浴装置的光刻设备
    一种具有气浴装置的光刻设备_源卓微纳科技(苏州)股份有限公司_202423178775.6
    本实用新型公开了一种具有气浴装置的光刻设备，光刻设备包括多个曝光镜头，以及安装于曝光镜头一侧的气浴装置，气浴装置包括内部形成气浴腔的壳体，壳体一端设置有与气浴腔连通的进气口，多组出气通道间隔设置于所述壳体一侧或相对两侧，每组出气通道包括多个...
    2025-11-20
  • 一种用于EUV光源光能引导及监控的光学系统
    一种用于EUV光源光能引导及监控的光学系统_无锡影速半导体科技有限公司_202423187671.1
    本实用新型涉及一种用于EUV光源光能引导及监控的光学系统，属于EUV光刻工艺技术领域。本实用新型通过在光源后构建由多组不同的反射镜构成的光学系统，该光学系统包括直角棱镜反射镜组、抛物面反射镜等多种结构的反射镜组件，采用全反射系统，避免了透射...
    2025-11-20
  • 防护膜及防护膜组件
    防护膜及防护膜组件_琳得科株式会社_202480021677.5
    一种防护膜(100)，其含有第1纤维状材料(1)和第2纤维状材料(2)，第1纤维状材料(1)的长度LFB1为20μm以下，第2纤维状材料(2)的长度LFB2为100μm以上且小于250μm。一种防护膜组件(200)，其具备：具有框部(31)...
    2025-11-20
  • 光学镜头、摄像模组和光学镜头的组装方法
    光学镜头、摄像模组和光学镜头的组装方法_宁波舜宇光电信息有限公司_202180040644.1
    一种光学镜头(10)，包括：第一光学透镜(111)、第二镜头部分(12)和遮光件(13)。第二镜头部分(12)，包括镜筒(121)和安装于镜筒(121)内的至少一第二光学透镜(122)。第一光学透镜(111)被设置于第二镜头部分(12)上。...
    2025-11-20
  • 限幅器、芯片及接收机
    限幅器、芯片及接收机_浙江大学_202411461289.7
    本发明提供一种限幅器、芯片及接收机。本发明通过设计限幅器中微带线和二极管单元的位置，本发明可以将限幅器中的二极管单元的功率平均分配，并且通过将分配完成的功率合成输出，本发明可以降低限幅器的功率损耗并提高输入信号的功率利用率；通过为二极管单元...
    2025-11-20
  • 一种半导体套刻精度量测中长寿命快门结构
    一种半导体套刻精度量测中长寿命快门结构_上海琮光半导体科技有限公司_202423288038.1
    本实用新型公开了一种半导体套刻精度量测中长寿命快门结构，包括：快门挡片、小型气浮平台、音圈电机、磁栅尺模块以及接近式光电开关，所述快门挡片的右端连接所述小型气浮平台的内部滑块的左端，所述小型气浮平台的内部滑块的右端固定连接一个连接板的左侧，...
    2025-11-20
  • 曝光装置
    曝光装置_合肥芯碁微电子装备股份有限公司_202423309294.4
    本实用新型公开了一种曝光装置，曝光装置包括：机台；玻璃夹紧组件，玻璃夹紧组件设置于机台上，玻璃包括上玻璃夹紧件和下玻璃夹紧件，上玻璃夹紧件和下玻璃夹紧件相对设置，以适于将两者之间的物料夹紧，上玻璃夹紧件的一端相对下玻璃夹紧件可向上转动。由此...
    2025-11-20
  • 用于摄像模组的驱动装置、摄像模组及终端设备
    用于摄像模组的驱动装置、摄像模组及终端设备_宁波舜宇光电信息有限公司_202180055153.4
    一种用于摄像模组(2000)的驱动装置(1000)、摄像模组(2000)及终端设备(4000)。其中，驱动装置(1000)包括第一驱动装置(1100)；第二驱动装置(1200)；一组弹性支撑部件(1300)，连接第一驱动装置(1100)和第...
    2025-11-20
  • 基于图形环境拟合的接触孔版图修正方法及掩模版
    基于图形环境拟合的接触孔版图修正方法及掩模版_中国科学院光电技术研究所_202510334252.6
    本公开提供一种基于图形环境拟合的接触孔版图修正方法，包括：在接触孔版图中随机确定至少一个图形区域；基于超分辨光刻模型对至少一个图形区域进行光学邻近效应修正，同时获得至少一个图形区域中接触孔图形的实际边界移动量；以最小化实际边界移动量与预测边...
    2025-11-20
  • 控制策略的确定方法及系统、车辆、存储介质和程序产品
    控制策略的确定方法及系统、车辆、存储介质和程序产品_重庆长安汽车股份有限公司_202511270880.9
    本申请涉及一种控制策略的确定方法及系统、车辆、存储介质和程序产品，包括：通过第一片上系统中的第一感知模块，利用第一感知算法对车辆周围环境的感知信息进行处理，得到车辆对应的第一感知结果；通过第二片上系统中的第二感知模块，利用第二感知算法对感知...
    2025-11-20
  • 一种曝光设备及生产方法、计算机可读存储介质
    一种曝光设备及生产方法、计算机可读存储介质_上海芯上微装科技股份有限公司_202510372493.X
    本发明提供了一种曝光设备及生产方法、计算机可读存储介质，曝光设备包括基底承载模块、预对准模块、工件台、下片台、以及传输模块；预对准模块、下片台、述工件台沿水平的第一方向依次间隔设置；基底承载模块位于预对准模块远离工件台的一侧；传输模块位于基...
    2025-11-20
  • 一种伺服作动系统三余度信号表决方法
    一种伺服作动系统三余度信号表决方法_中国航空工业集团公司金城南京机电液压工程研究中心_202511303857.5
    本发明属于航空飞行器领域，具体涉及一种伺服作动系统三余度信号表决方法，依次执行状态判断；三余度表决；两余度表决；单余度表决。本发明通过判断当前余度状态，进行不同余度的表决方法，实现不同余度下的表决结果输出，保证伺服作动系统的可靠输出，提高系...
    2025-11-20
  • 玻璃基板纳米压印工艺及设备
    玻璃基板纳米压印工艺及设备_广东中图半导体科技股份有限公司_202511455349.9
    本发明属于纳米压印技术领域，公开了玻璃基板纳米压印工艺及设备。玻璃基板纳米压印工艺包括封闭母版并将玻璃基板移动至第一位置处遮挡母版；解除母版的封闭并在玻璃基板的遮挡下对母版点胶；移动热压组件至玻璃基板上方并控制玻璃基板和热压组件同步下压至固...
    2025-11-20
  • 光刻工艺监控方法及装置、计算机可读存储介质
    光刻工艺监控方法及装置、计算机可读存储介质_上海光通信有限公司_202410586535.5
    一种光刻工艺监控方法及装置、计算机可读存储介质，所述方法包括：对采用待测光刻工艺制备得到的待测光刻层进行光学关键尺寸测量，得到光谱信息；将光谱信息输入预设数据库，预设数据库包括至少一个预设子数据库，各预设子数据库均具有一个样本光刻层的光谱信...
    2025-11-20
  • 一种电力电子变压器冗余控制器切换方法
    一种电力电子变压器冗余控制器切换方法_西安为光能源科技有限公司_202511501018.4
    本发明涉及电力装备技术领域，公开了一种电力电子变压器冗余控制器切换方法，包括如下步骤：构建冗余控制阵列来实时采集电力电子变压器的模拟量数据以获取两组瞬时交互数据；主控制器以其中任意一组瞬时交互数据生成控制逻辑来控制电力电子变压器的运行状态，...
    2025-11-20
  • 制造固化膜的方法及其使用
    制造固化膜的方法及其使用_默克专利有限公司_202080031246.9
    本发明提供一种高膜密度、高膜硬度、高耐蚀刻性的固化膜的制造方法。一种制造固化膜的方法，包括(1)在基板的上方应用组合物(i)；(2)由组合物(i)形成含烃膜；以及(3)对含烃膜照射等离子体、电子束和/或离子，形成固化膜。该固化膜的使用。
    2025-11-20
  • 光束传递模块及投影装置
    光束传递模块及投影装置_中强光电股份有限公司_202410598279.1
    一种光束传递模块及具有此光束传递模块的投影装置。光束传递模块包括支架、致动器组件、光学组件以及支架盖。致动器组件配置于支架且位于影像光束的传递路径上。光学组件配置于支架且位于照明光束的传递路径上。支架盖承载光学组件并与支架连接。本发明的光束...
    2025-11-20
  • 具透明窗口的光罩盒及其制造方法
    具透明窗口的光罩盒及其制造方法_家登精密工业股份有限公司_202511366653.6
    本发明公开了一种具透明窗口的光罩盒及其制造方法，其特征在于光罩盒包括：相互配合的第一壳体和第二壳体、透明窗口件，以及热塑性密封材，第一壳体和第二壳体两者间界定出用来容置光罩的容置空间，第一壳体具有穿透第一壳体的窗口，用来暴露出光罩，透明窗口...
    2025-11-20
  • 一种光掩模修补方法及光掩模
    一种光掩模修补方法及光掩模_上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司_202311507469.X
    本申请公开了一种光掩模修补方法及光掩模，属于半导体技术领域，该方法包括：确定光掩模背离保护膜的表面的待修补区域；待修补区域与光掩模内部遮光层的缺陷区域对应；在待修补区域沉积遮光膜，以遮挡从保护膜的表面射入遮光层的缺陷区域后穿透透明基板的光，...
    2025-11-20
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