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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 叶片驱动装置和摄像装置。叶片驱动装置(1)具有:基座,其形成有开口;设置有凸轮孔的叶片部件,其能够以叶片轴为中心在封闭开口的关闭位置与开放开口的打开位置之间进行旋转;以及致动器,其驱动叶片部件在关闭位置与打开位置之间进行旋转。致动器包含旋转...
  • 本实用新型涉及音叉晶体加工技术领域,尤其是一种用于音叉晶体生产的光刻胶涂布设备,包括光刻胶涂布机本体,所述光刻胶涂布机本体包括涂布加工室,光刻胶涂布机本体顶部的后侧安装有废气净化组件,废气净化组件包括传输管和固定框,传输管的正表面开设有进气...
  • 一种图形设计方法及系统、掩膜版组合、设备及存储介质,图形设计方法包括:提供初始图形,包括多个主图形;定义相邻主图形之间的距离为间距;设置预设问题间距,包括违例间距和弱点间距,违例间距小于光刻分辨率极限,且弱点间距大于光刻分辨率极限;基于预设...
  • 本实用新型涉及散热机构技术领域,且公开了一种防焊LDI用散热机构,包括点阵镜头、激光+LED模块、LED模块以及DMD反射模块,所述点阵镜头上套装有防护壳,所述防护壳的中部向下形成开口,所述防护壳的内部设有旋转喷气机构,所述防护壳上连通有供...
  • 本实用新型提供一种掩模板运动机构及曝光机设备,涉及光刻机技术领域。其中掩模板运动机构包括用于承载并安装掩模板的掩模板支架、背板及底座,掩模板支架沿竖直方向滑动设置于背板上;背板设置于底座上,底座用于与曝光机对位平台连接;还包括抵触组件与压合...
  • 本实用新型公开一种纳米压印装置用辊压结构,辊压结构设置在纳米压印装置的工作台上,辊压结构包括支架,支架的顶部连接有第一横板,第一横板上设置有第一升降组件,第一升降组件上装配有可由第一升降组件控制上升和下降的第二横板,第二横板上设有气缸,气缸...
  • 本申请提供了一种散热组件及投影仪,散热组件包括第一吸热模块、散热模块及热管,第一所述吸热模块的表面用于贴合所述投影仪上多个朝向不同的发热模块;散热模块与所述第一吸热模块间隔设置;所述热管的一端连接所述第一吸热模块连接,所述热管的另一端连接所...
  • 本申请实施例提供了一种企业信贷的管理方法及装置,方法包括:获取目标企业的贷款信息,贷款信息中包括贷款金额和第一票链信息,第一票链信息用于表征目标企业在第一预设时间内直接参与的供应链票据交易信息;根据贷款金额和第一票链信息的匹配程度确定目标企...
  • 本实用新型涉及码垛机技术领域,具体公开了一种OSB用多层叠板码垛机,包括传送带,所述传送带的输出端一侧安装有可升降的码垛台,且码垛台的底部安装有升降机,所述码垛台的一侧设置有码垛机构,所述码垛台的上方平行设置有堆叠板,且堆叠板的末端连接有前...
  • 本实用新型公开了一种手术刀脉冲分离机。其技术要点是:包括有底座以及设置在底座上的脉冲机构,所述底座设置在机架上,所述底座与脉冲机构之间具有通孔,机架上设有收集杆,所述收集杆位于脉冲机构下方,所述脉冲机构包括有继电器以及设置在继电器上的分离杆...
  • 致动器组件2,包括:第一部件10,其中第一主轴线P参照第一部件10定义;第二部件100,该第二部件100可相对于第一部件10移动,其中,第二主轴线P参照第二部件100定义;第三部件200,该第三部件200可相对于第二部件100和第一部件10...
  • 本申请涉及一种光源装置,包括至少两个激光模块组,每一所述激光模块组包括至少一个激光模块,同一所述激光模块组的所述激光模块用于出射偏振方向相同的子光源光。其中,多束所述子光源光合光形成光源光,至少两个所述激光模块组出射的所述子光源光的偏振方向...
  • 本实用新型涉及一种投影机的激光光源系统,包括光导管、光机系统、以及至少两个能够发出红、绿、蓝三色光束的激光光源模组,所述光导管设在每个激光光源模组的输出光路上,所述光导管与每个激光光源模组之间的投影光路上均设有能够将激光光源模组发出的光束聚...
  • 本发明公开了一种面粉生产用面粉袋堆垛装置,涉及面粉生产技术领域,该面粉生产用面粉袋堆垛装置,包括安装板,所述安装板的顶部固定有支撑块,所述支撑块的内侧固定有放置板,所述安装板的顶部设置有防止面粉袋倒塌的防护装置,所述放置板的底部设置有方便进...
  • 公开由热能生成电力或氢气的方法和系统。该方法包括通过选择性渗透膜将第一盐溶液与第二盐溶液分离,通过第一盐溶液和/或第二盐溶液接收来自热源的热能,以及使第一盐溶液与第二盐溶液以受控制的方式混合,随着第一盐溶液与第二盐溶液之间的盐度差减小,捕获...
  • 一种图形检测方法、设备和存储介质,所述方法基于待检测的目标物理晶圆图形单元的测量结果,计算所述目标物理晶圆图形单元的关键尺寸偏移参数值和SPLC参数值,并获取计算得到的关键尺寸偏移参数值对应的SPLC阈值,基于计算得到的SPLC参数值与所获...
  • 本发明提供一种光刻胶去除方法及装置,该方法包括:湿法去胶步骤:采用基板片传送装置将基板片传送到湿法去胶腔体中以去除基板片表面的光刻胶;缺陷检测步骤:采用缺陷检测装置检测基板片表面的光刻胶总残留量,若光刻胶总残留量低于预设值,则进行下一基板片...
  • 本发明涉及机械动力,转换放大动能回收。针对现有动能输入大与回收问题,通过本机械转换动能,利用杠杆原理,地心引力物体下垂原理,使大盘转动回收稳定动能。本发明放大机械设备可回收数倍输入动能。
  • 本实用新型涉及曝光机技术领域,提供一种高效率曝光机,其包括:基座;工作台,工作台安装于基座上并用于承载待曝光件;激光模块,用于发射光信号;DMD组件,用于接受光信号并经过处理再反射到镜头装置;镜头装置,用于对光信号进行投射;冷却液冷却组件,...
  • 本发明提供了一种高重复频率的极紫外辐射光源及EUV光刻机光源,其中一部分所述目标激光脉冲入射至兆瓦级光学增益腔内产生兆瓦平均功率的第二红外激光脉冲;另一部分所述目标激光脉冲经过倍频整形处理后入射至常温甚高频光阴极微波电子枪,驱动所述常温甚高...
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