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喷涂装置;染料;涂料;抛光剂;天然树脂;黏合剂装置的制造及其制作,应用技术
  • 本发明涉及一种石英部件及保护方法、等离子体设备及等离子体处理方法,应用于半导体加工设备技术领域。其中,保护方法包括:采用溴基等离子体选择性去除石英部件表面既有的金属化合物钝化层;随后,沉积新的金属化合物钝化层,利用新的金属化合物钝化层提供抗...
  • 本发明涉及广告牌技术领域,尤其涉及一种具有防护功能的广告牌,包括有支撑框架和矩形框等;支撑框架上安装有矩形框。本发明实现了通过将LED柔性显示屏展开,从而将广告内容进行展示,并且通过手机指定的APP能够对LED柔性显示屏上的内容进行自主更改...
  • 本发明涉及显示控制技术领域,尤其是涉及一种内容感知显示控制方法及系统,包括五大主要模块,获取输入模块、CPU联动模块、特征分析模块,内容识别模块和显示驱动控制模块,首先获取输入图像数据,CPU联动进行预设寄存器数据和控制信号写入,进行图像数...
  • 本申请公开一种木纹显示屏,涉及车载显示技术领域,包括中框、设置于中框中部的光显组件、光学胶结层及具有透光纹理区域的IML木纹膜片层。光显组件由背光模组、液晶显示面板及复合光学盖板层叠构成。中框内的控制器内置木纹显示系统,该系统利用光学特性存...
  • 本发明涉及高温合金冶炼技术领域,具体涉及一种高铝钛铸造镍基高温合金纯净化冶炼方法。所述的纯净化冶炼方法,步骤一、低钙镍合金制备;步骤二、纯净化冶炼:配料与装炉、熔化期、精炼期、合金化期、钙处理净化期和浇铸期;纯净化冶炼过程在真空感应熔炼炉中...
  • 本发明公开了一种高纯度2‑溴‑6‑硝基苯甲醛的合成方法,属于有机合成技术领域,所述合成方法为在20‑30℃下,将1, 2‑二氯乙烷、2‑溴‑6‑硝基甲苯混合,搅拌至溶解,加入N‑溴邻苯二甲酰亚胺和引发剂混合,升温至70‑100℃,回流反应,...
  • 本发明公开了一种3‑巯基苯甲酸的合成方法,属于有机合成技术领域,所述合成方法为将苯甲酸与第一部分氯磺酸混合,在100‑110℃下反应,加入第二部分氯磺酸,在120‑130℃下反应,降温,在0‑5℃下搅拌,得到3‑氯磺酰基苯甲酸;在惰性环境下...
  • 本公开提供一种相邻膜、成膜方法以及成膜装置,使氧化物半导体的特性稳定。一种相邻膜,是在高密度等离子体处理装置中进行在基板上沉积包含硅原子的膜的沉积处理并在所述沉积处理后进行后处理而形成的氧化物半导体的相邻膜,所述沉积处理包括利用第一处理气体...
  • 本发明公开一种用于纤维材料表面连续功能化改性的原子层沉积反应器及制备系统,涉及原子层沉积设备技术领域,包括总腔室,总腔室内,沿碳纤维传输方向依次串联设置有第一鸭嘴式低压腔室、半循环反应腔A、第二鸭嘴式低压腔室、第三鸭嘴式低压腔室、半循环反应...
  • 本发明公开了一种低成本高质量品种钢RH直上连铸工艺,根据钢种的不同采用下述RH工艺;超低碳钢:RH进站钢水中游离氧[O]≤550ppm、碳含量[C]=0.025%~0.055%;RH脱碳的氧含量[O]不足时,进行RH吹氧强制脱碳,吹氧量/m...
  • 本发明提供一种高强韧耐铅铋腐蚀陶瓷涂层的制备方法,涉及铅铋环境防护涂层技术领域,包括:对基体依次进行打磨、抛光和清洗;将Ti靶和TiSi靶分别安装在直流磁控靶上,AlCrY靶安装在射频磁控靶上,将基体置于基片台上放置于镀膜设备腔室内;将腔室...
  • 一种玻璃组合物包含:50 mol%至70 mol% SiO22;15 mol%至30 mol% Al22O33;5 mol%至20 mol% Na22O;0 mol%至15 mol% MgO;以及0 mol%至15 mol% CaO。所述玻...
  • 本发明提供了一种高得率三水乙酸钠的制备方法,属于精细化工产品合成技术领域。本发明的制备方法,包括步骤:(1)将冰醋酸、含钠碱性溶液和水反应,得到初始乙酸钠溶液;(2)将步骤(1)的初始乙酸钠溶液和溶媒溶剂进行反应,固液分离,得到固体和液体;...
  • 本申请公开了一种显示组件及显示装置,包括:第一壳体和第二壳体,所述第一壳体上设置有第一显示面板,所述第二壳体上设置有第二显示面板;第一滑动机构,包括设置在所述第一壳体上的第一滑轨以及设置在所述第二壳体上第一转轴,所述第一滑轨和所述第一转轴滑...
  • 本发明涉及炼钢生产操作控制技术领域,具体涉及一种防止转炉出钢翻炉的方法,包括步骤一:为转炉配置倾角仪和与倾角仪适配的显示系统;步骤二:设置转炉向前倒渣侧倾动的倾动最大角速度;步骤三:设置转炉向后出钢侧倾动的倾动最大角速度;步骤四:设置出钢最...
  • 本发明提供一种铝合金综合变质剂及其制备方法。所述变质剂包括Al基体、TiCxx晶种以及位于所述Al基体中的第二相,所述第二相包含Al和过渡族金属元素,所述TiCxx晶种包含具有亚微米尺度的第一TiCxx晶种和具有纳米尺度的第二TiCxx晶种...
  • 本实用新型提供一种化学气相沉积设备,具有热退火功能,化学气相沉积设备包括:反应腔;底座,位于所述反应腔内部,所述底座内设置加热模块,用于将所述底座上承载的衬底加热至第一温度;工艺气体供应装置,位于所述反应腔外部,用于提供工艺气体;进气装置,...
  • 本实用新型公开了一种缓冲装置,设置在工艺腔和传输腔之间,包括缓冲腔,经由所述缓冲腔在所述工艺腔和传输腔之间传输晶圆,所述缓冲装置包括:气体供应装置,用于向所述缓冲腔内提供吹扫气体;抽气装置,用于抽出所述缓冲腔内的所述吹扫气体;控制器,分别与...
  • 本申请提供一种MPCVD微波单晶生长压力控制装置及设有该压力控制装置的生长设备,包括炉体和真空泵,其特征在于,在炉体和真空泵之间设有过滤器,且在所述过滤器的两端构置有两条用于连通所述炉体与所述真空泵的旁侧管道,且两条所述旁侧管道的进气口和出...
  • 本发明属于铝合金表面处理技术领域,具体涉及一种铝合金表面耐磨涂层的复合梯度制备方法,先对铝合金表面进行预处理,采用超音速气体动力注入技术制备得到厚度为0.05~0.09mm的注入层,再采用冷喷涂技术制备得到厚度为0.5~0.8mm的过渡层,...
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