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  • 本发明涉及半导体技术领域, 提供了一种在衬底表面制备氮化硅薄膜的方法。所述方法包括:(1)在氮气气氛的第一腔体中, 提供具有工艺温度的热盘, 间隔第一距离, 预热衬底至预热温度;所述衬底的材质包括钽酸锂或铌酸锂;(2)将具有所述预热温度的衬...
  • 本发明公开一种基于气相沉积法制备多孔镍钨氧化物薄膜的方法, 包括将反应物前驱体和基片加热前驱体转化为前驱气体;通入沉积气体在基片上进行等离子辅助气相反应沉积;通入选择性刻蚀气体和辅助气体进行刻蚀并循环;在保护气氛下退火处理即得。还公开了由该...
  • 本发明提供了一种提高TOPCon电池LPCVD炉管洁净度的方法, 涉及太阳能电池技术领域。所述方法包括:向LPCVD炉管中通入气体进行吹扫处理, 再将双面抛光的硅片置于LPCVD炉管后进行吸杂处理。本发明通过吹扫步骤与双面抛光片高温吸杂步骤...
  • 本申请涉及一种化学源输送系统, 包括储存装置及输送装置, 储存装置具有输入口与输出口, 输送装置包括:输入管路, 连接于输入口;输出管路, 连接于输出口;以及连接管路, 连接输入管路与输出管路;其中, 输出管路包括第一输出阀, 第一输出阀为...
  • 本发明涉及一种固态前驱体钢瓶包括:钢瓶主体、钢瓶底层、托盘、以及上盖, 所述托盘置于所述钢瓶主体内, 所述托盘内承载有固体前驱体源, 在每层所述托盘上密布有贯穿所述托盘及固体前驱体源的上行通孔, 所述上行通孔的上方设有上方弯头, 在所述托盘...
  • 本申请提供一种卧式炉设备及其晶圆载具, 晶圆载具包括承载主体和承载件, 承载主体上设置有多个承载结构, 多个承载结构沿竖直方向间隔分布于承载主体上, 各承载结构用于支撑承载件;承载件承载于承载结构上, 承载件上设置有用于承载晶圆的承载槽。晶...
  • 本发明涉及化学气相沉积领域, 特别涉及一种气相反应设备, 该气相反应设备通过将加热层内置于反应腔体, 缩短热传导路径, 加快响应速度, 实现快速升温, 提升加热效率。同时多层加热层间隔设置, 加热层包括多根间隔设置的加热丝, 且相邻加热层的...
  • 本发明公开了一种用于PECVD设备的可重构气体分布装置, 属于半导体制造技术领域, 具有可转动机构的上层结构, 可转动机构上开设有第一进气口, 呈环形分布, 用于接受外部气源的工艺气体;具有气路板的下层结构, 气路板设置于可转动机构下方, ...
  • 本发明公开了一种可自动排液排气的表面处理装置, 包括中心吊杆, 垂直固定在所述中心吊杆上部的横向杆, 对称固定在所述横向杆两端下方的两个限位筒, 滑动连接在所述限位筒下方的侧支撑杆, 固定在所述中心吊杆两侧侧壁的两组中心连接环, 固定在所述...
  • 本发明创造提供了一种用于消除曲轴磨削延迟裂纹的加工处理方法, 包括:对曲轴进行预处理;对曲轴进行第一次冷喷涂处理, 以使得曲轴的表面形成纯钛喷涂层;对曲轴进行第二次冷喷涂处理, 以使得曲轴的纯钛喷涂层外侧形成钛基自润滑喷涂层;对曲轴进行超声...
  • 本发明属于燃气轮机维修技术领域, 具体涉及一种燃机热端部件的固态修复方法, 包括如下步骤:S1、获取待修复基体表面的损伤信息;S2、对待修复基体表面的损伤区域进行粗糙化处理, 并对粗糙化处理后的损伤区域进行电化学活化处理;S3、对处理后的损...
  • 本发明涉及液压支架加工设备技术领域, 公开了一种液压支架的激光熔覆处理设备, 包括机体, 所述机体的内顶壁固定连接有电动滑台, 所述电动滑台的滑块底端固定连接有U形的安装架, 所述安装架的一侧固定连接有气缸一, 所述气缸一的驱动端转动连接有...
  • 本发明提供了落料模具镶块刃口的加工方法, 涉及模具加工方法的技术领域, 包括对落料模镶块基体的刃口待熔覆区域进行预处理, 得到中间基体;将中间基体进行加工凹槽, 得到处理后基体;选取金属粉末作为熔覆材料;设置激光熔覆参数, 激光熔覆参数包括...
  • 本发明提供了一种纳米级氧化镓薄膜及其制备方法和应用, 属于半导体材料制备技术领域。该纳米级氧化镓薄膜的制备方法包括:将液态金属镓滴至衬底表面, 将柔性盖片覆盖于液态金属镓表面, 对柔性盖片施加均匀外力以去除多余的液态金属镓, 得到衬底‑氧化...
  • 本发明涉及齿轮加工技术领域, 且公开了具有毛刺清理功能的风机齿轮加工装置, 包括支撑架, 包括:安装筒部, 所述安装筒部设置在支撑架内, 所述安装筒部用于对带动溶液转动加速对齿轮上毛刺的处理;转动部, 所述转动部设置在安装筒部内, 所述转动...
  • 本发明提供一种低坡度角的铝钼蚀刻液, 所述的蚀刻液成分包括占蚀刻液总重量55‑65%的磷酸、5‑10%的硝酸、12‑20%的醋酸、0.5‑2%的乙酸盐, 0.05‑0.5%的表面活性剂, 1‑3%的缓冲剂, 剩余为去离子水。本发明所述的铝钼...
  • 本发明公开了一种酸性腐蚀液, 用于揭示碲化镉/碲锌镉延展性缺陷。包括氢氟酸, 硝酸, 去离子水, 乳酸、硝酸银或硫酸银中的一种, 所述氢氟酸, 所述硝酸, 所述去离子水和所述乳酸的体积比是氢氟酸:10%, 硝酸:35%, 去离子水25%~3...
  • 本发明涉及一种复合金属层蚀刻液, 按照重量份计算, 包括如下组分:无机酸40‑60份;有机酸20‑40份;金属过氧化物1‑10份;钼酸盐1‑5份;酚类化合物1‑10份;超纯水20‑40份。本发明还公开上述蚀刻液的制备方法与应用。本发明的金属...
  • 本发明提供了一种金属构件的多分支内流道化学抛光装置和方法, 通过加压泵将酸液从酸液桶引出, 经塑料多通接头分配至内流道的多个入口, 并通过剩余流道口由另一多通接头将废液汇集后, 导回酸液桶循环使用。本发明通过控制酸液流量及循环时间, 结合特...
  • 本发明提供了一种金属缓蚀剂及其应用, 所述金属缓蚀剂为双(氧氮杂环己烷基)乙烷。本发明金属缓蚀剂对所有金属均具有优异的缓蚀效果。
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