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  • 本发明公开了屏显玻璃边角磨削设备,其包括定位平台、驱动定位平台沿着磨削路径横移的横移单元、位于磨削路径两侧的研磨单元。本发明一方面基于风刀所形成弧形阻隔区将研磨段阻隔,通过水刀形成第一、二流体穿过研磨段并分别贴合研磨轮的磨削槽和玻璃表面将废...
  • 本发明公开了一种基于多参数反馈的碳化硅抛光液精密调控系统,具体涉及碳化硅加工技术领域,包括碳化硅抛光液中央控制模块、碳化硅抛光液参数检测模块、碳化硅抛光液初级调控模块、碳化硅抛光液次级调控模块以及碳化硅抛光液调控优化模块;所述碳化硅抛光液中...
  • 本发明公开一种微晶玻璃的研磨抛光装置及方法,属于抛光装置技术领域,包括安装板,所述安装板上设有升降组件,所述升降组件上设有能旋转的T形板,所述T形板上设有用于水平工件的研磨的水平研磨组件和用于竖直工件的夹持的夹持组件;所述安装板两侧对称设有...
  • 本发明涉及一种基于声‑光‑磁多能场协同的化学机械抛光装置与方法。化学机械抛光装置包括安装架、真空转台、驱动组件、抛光头和催化光发生器,真空转台具有安装端和溢流槽,真空转台能够在安装端形成负压以用于固定晶圆,溢流槽用于盛接抛光液,安装端位于溢...
  • 本发明公开了一种光纤跳线用端面研磨装置,涉及光纤跳线生产领域,包括机体,机体上设置有打磨轮,且机体上还固定连接有支撑板;还包括自动涂液机构,自动涂液机构包括安装于打磨轮正上方位置的固定框,固定框的底端固定连接有涂抹海绵,固定框的底端还开设有...
  • 本申请涉及光学加工工装制造技术领域,提供了一种研磨垫和研磨垫的弹性模量调节方法,本申请提供的研磨垫包括:弹性调节层、压力感知层、控制层;压力感知层用于采集弹性调节层的压力分布信息,并将压力分布信息传输到控制层;控制层用于根据压力分布信息,确...
  • 本发明涉及一种碳刷自动研磨设备,包括机柜,机柜上安装有上料组件、夹持移动组件、夹持旋转组件研磨组件与出料传输带;所述的上料组件包括底板,底板下方安装有进料传输带,底板上设置有放料槽与滑槽,滑槽与放料槽相通,放料槽的内安装有推料板,滑槽内滑动...
  • 本申请提供了用于化学机械抛光工艺的多层子垫。一种装置包括:顶部垫,包括多个突出和在多个突出之间的多个凹槽;顶部垫之下的第一粘合膜;以及第一抗变形层,在顶部垫之下并通过第一粘合膜附接到顶部垫。第一抗变形层具有第一硬度。该装置还包括第二粘合膜和...
  • 本申请涉及半导体硅加工领域,公开一种用于硅衬底划伤修复的抛光垫及其制备工艺。一种用于硅衬底划伤修复的抛光垫,由无纺布浸渍聚氨酯复合胶液制得,聚氨酯复合胶液由以下重量份的原料制得:聚氨酯树脂100‑120份、弹性剂25‑35份、DMF 80‑...
  • 本发明公开了一种用于化学机械抛光的弹性膜和承载头,属于晶圆制造技术领域。该弹性膜包括:圆盘状的底板;直立筋,自所述底板的边缘向上延伸;间隔筋,设置于直立筋的内侧并自底板向上延伸,以分隔形成多个子压力腔室;所述间隔筋包括褶皱部和连接部,所述褶...
  • 本发明公开了一种轴瓦的检测定位装置,包括固定座、环套、压杆,固定座能够上下移动,固定座设有通孔,环套穿过通孔,通孔的孔径大于环套的外径,压杆插入固定座、且伸出通孔的孔壁,压杆能够沿通孔的径向移动,压杆沿通孔的周向均布有三个,压杆沿通孔的径向...
  • 本发明公开一种硅晶圆研磨用旋转转盘,包括转盘、调节模块、锁止模块、底盘、晶圆载具;所述晶圆载具顶部设有可以嵌合晶圆的卡槽;所述转盘为圆形转盘,转盘圆心设有安装口,转盘上设有均匀交错分布多个同心圆圆环和同心圆凹槽,所述转盘上呈十字均匀分布四个...
  • 本发明公开了一种晶圆传输方法,涉及晶圆制造技术领域;该晶圆传输方法包括:前置单元的前置机械手将晶圆放置于轨道起始位置的晶圆夹持机构上;晶圆夹持机构沿轨道移动至抛光单元的交互位置,在所述交互位置,晶圆夹持机构将晶圆放置于装载组件的装载盘;抛光...
  • 本发明适用于半导体生产设备技术领域,提供了一种半导体材料生产用排水设备,包括加工箱,加工箱的顶部设置有加工区,加工区的底部开设有若干个通水孔二,加工区的下方从上至下依次设置有排水区和储水区,排水区的内壁上从上至下倾斜固接有除砂板和除尘板,除...
  • 本发明公开了一种用于生产装饰镜片的旋转装置,包括支架,所述支架的上端中部固定连接有转动杆,所述转动杆的上端转动连接有安装平台,所述安装平台的中部开设有通槽,通槽内腔设置有用于限制转动杆角度的定位机构,安装平台的下部一侧设置有安装板,安装板靠...
  • 本发明涉及数控回转工作台空间姿态测量调节方法及升降锁紧机构,其中方法将数控回转工作台通过三个间隔120°的升降锁紧机构安装于X轴滑台中央,其中升降锁紧机构A位于X轴正向侧,升降锁紧机构B、升降锁紧机构C分别位于Y轴正向侧、Y轴负向侧;将位移...
  • 本发明涉及打磨台技术领域,尤其是涉及一种湿式铝镁粉尘防爆打磨工作台及其多参数连锁监测系统,湿式铝镁粉尘防爆打磨工作台包括主体框架,所述主体框架上设有作业台面;除尘收集系统,包括设于所述作业台面上方的正面除尘箱和设于所述作业台面下方的台面除尘...
  • 本发明提供一种数控刀具磨床的主轴架移动机构,涉及刀具磨床技术领域,包括移动机构,所述移动机构上安装有调节机构,所述调节机构上安装有打磨机构;所述移动机构包括支撑底板,所述支撑底板两侧开设有侧限位槽,所述支撑底板上滑动安装有滑板,通过上述技术...
  • 本发明涉及磨床尾座技术领域,公开了一种磨床尾座磨损补偿用调节装置,调节装置安装于凸轮磨床上,凸轮磨床包括头架、尾座和操作台,头架和尾座上均设置有顶尖,调节装置包括调节机构和检测机构,调节机构包括安装座、安装板、高度调节组件和水平调节组件,安...
  • 本发明公开了一种大口径无缝管磨粒流抛光用夹具,包括定位座、同轴传动组件、主胀头和副胀头,电机座带动主轴杆转动,主轴杆贯穿同轴传动组件并通过法兰接头与副胀头滑动连接,主轴杆外套设芯锥套,芯锥套的锥胀面与主、副胀头的楔面滑动接触。通过同轴传动组...
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