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最新专利技术
  • 基于MEMS扫描微镜的激光投影成像方法及装置
    基于MEMS扫描微镜的激光投影成像方法及装置_华中科技大学_202511691974.3
    本申请涉及一种基于MEMS扫描微镜的激光投影成像方法及装置，其中，方法包括：根据第一谐振频率和第一相位确定第一正弦驱动信号波形，同理确定第二正弦驱动信号波形，通过向MEMS扫描微镜发送第一正弦驱动信号波形和第二正弦驱动信号波形，并基于MEM...
    2026-01-21
  • 一种小型化投影光学引擎结构
    一种小型化投影光学引擎结构_熊猫电子集团有限公司_202511633735.2
    本发明公开了一种小型化投影光学引擎结构，包括光源、光源上方的光杯架、光杯架上方紧贴光杯架的蜂窝式阵列透镜、隔热偏振玻璃组、LCD显示面板，所述光源、光杯架、蜂窝式阵列透镜、隔热偏振玻璃组和LCD显示面板均相互平行且几何中心点法线重合，光源发...
    2026-01-21
  • 投影机专用的液冷散热装置
    投影机专用的液冷散热装置_深圳昂湃技术股份有限公司_202511731731.8
    本申请涉及散热技术领域，公开了一种投影机专用的液冷散热装置，包括水冷板、泵浦及水冷排，水冷板包括上壳体及连接在上壳体下方的下壳体，于上壳体和下壳体的内部形成有液体流道；泵浦固定在水冷板且与液体流道连通；水冷排设于上壳体且沿着背离下壳体方向延...
    2026-01-21
  • 一种车用投影仪以及搭载有车用投影仪的车辆
    一种车用投影仪以及搭载有车用投影仪的车辆_北京一数科技有限公司_202410931791.3
    本发明实施例提供了一种车用投影仪以及搭载有车用投影仪的车辆。包括：第一光源、第二光源、硅基液晶LCoS芯片、扩展器件、合光器件；第一光源为用于发射红、绿、蓝三色光的激光二级管LD光源和用于发射红光的非偏振光源中的一者，第二光源为LD光源和非...
    2026-01-21
  • 一种光源系统及投影设备
    一种光源系统及投影设备_宜宾市极米光电有限公司_202410939631.3
    本申请涉及显示技术领域，公开了一种光源系统及投影设备，本申请提供的光源系统，通过设置第一循环元件、第二循环元件和光再利用元件，可以在对第一光源组件和第二光源组件出射的相同基色的光进行分光合光时，尽可能的将所有光都透过分光合光元件，从而可以提...
    2026-01-21
  • 一种投影设备
    一种投影设备_青岛海信激光显示股份有限公司_202410939717.6
    本发明公开了一种投影设备，包括激光光源，以及沿着激光光源的出光路径上依次设置的衍射光学元件、倍率透镜、匀光元件、全反射棱镜和显示元件。激光光源包括三类出光区域和与三类出光区域对应设置的三个衍射光学元件，三类出光区域出射的激光的波长不同，每个...
    2026-01-21
  • 一种光源系统及投影设备
    一种光源系统及投影设备_宜宾市极米光电有限公司_202410939758.5
    本申请涉及显示技术领域，公开了一种光源系统及投影设备，光源系统可以将受激发光中的残留激发光进行再利用，提高激发光的利用率，以及受激发光的激发效率，从而可以提高投影设备的亮度；并且受激发光中的残留激发光进行再利用后，可以提高投影设备的色域；并...
    2026-01-21
  • 一种数字媒体投影设备
    一种数字媒体投影设备_南通理工学院_202511742494.5
    本发明公开了一种数字媒体投影设备，涉及投影设备的技术领域，包括存放机构、升降机构、冷却机构及投影仪，其中：存放机构包括安装箱、升降条及横移条，升降条与安装箱之间连接有减震结构；升降机构设置于安装箱的内侧并包括双头电机、伸缩架及升降板，双头电...
    2026-01-21
  • 悬浮显示设备
    悬浮显示设备_香港中文大学(深圳)_202511893124.1
    本申请公开一种悬浮显示设备，悬浮显示设备包括气囊和投影组件，气囊包括内层囊体和外层囊体；投影组件与气囊连接用于将图像投影在气囊上；其中，内层囊体和外层囊体的透光性不同，内层囊体用于显示图像的部分，外层囊体用于显示图像的其余部分。本申请能够灵...
    2026-01-21
  • 悬浮显示设备
    悬浮显示设备_香港中文大学(深圳)_202511893126.0
    本申请公开一种悬浮显示设备，涉及显示设备技术领域。悬浮显示设备包括气囊和投影组件，气囊内部用于填充气体以悬浮在空中；投影组件连接于气囊的外侧，用于将图像投影在气囊上。本申请的悬浮显示设备能够灵活移动调整位置，满足动态显示场景需求。
    2026-01-21
  • 一种透射型屏幕、制作方法及投影系统
    一种透射型屏幕、制作方法及投影系统_四川菲斯特科技有限公司_202511574524.6
    本发明属于投影显示领域，公开了一种透射型屏幕，包含：成像层和微结构层，所述微结构层上设置有若干棱镜，所述棱镜由折射面和反射面相交构成，在所述若干棱镜的反射面上靠近所述折射面与反射面相交处的区域设置有黑色吸光材料。本发明的透射型屏幕通过在棱镜...
    2026-01-21
  • 一种掩模器件及其制备工艺
    一种掩模器件及其制备工艺_北京集成电路装备创新中心有限公司_202511804275.5
    本发明提供一种掩模器件及其制备工艺，涉及半导体技术领域。该掩模器件包括自下而上依次堆叠的衬底、光介质层、粘结层和Cr膜层，Cr膜层包括光栅区和阻挡区，光栅区的厚度小于阻挡区的厚度，且光栅区形成有光栅结构；衬底设有供光栅结构向下透光的通光口。...
    2026-01-21
  • 光学邻近效应修正方法
    光学邻近效应修正方法_上海华力集成电路制造有限公司_202511746184.0
    本发明公开了一种光学邻近效应修正方法，通过调整SRAF的宽度和厚度，改变其透光率，实现对晶圆线宽的影响，从而解决密集图形线条周期很小，空间不足，SRAF难以放置的问题，以及SRAF尺寸过小会发生劈裂的问题，优化光罩SRAF设计与晶圆线宽的协...
    2026-01-21
  • 亚分辨率辅助图形的添加方法及光学邻近修正方法
    亚分辨率辅助图形的添加方法及光学邻近修正方法_合肥晶合集成电路股份有限公司_202511905777.7
    本申请提供了一种亚分辨率辅助图形的添加方法及光学邻近修正方法，属于半导体技术领域，先按照添加规则在主图形的至少一侧添加第一层亚分辨率辅助图形，再判断第一层亚分辨率辅助图形的第一侧是否满足添加条件，若否，调整添加规则中对第二层亚分辨率辅助图形...
    2026-01-21
  • 一种刻蚀形貌预测方法、设备、介质及计算机程序产品
    一种刻蚀形貌预测方法、设备、介质及计算机程序产品_东方晶源微电子科技(上海)有限公司_202511404920.4
    本申请公开了一种刻蚀形貌预测方法、设备、介质及计算机程序产品，涉及半导体制造技术领域。该刻蚀形貌预测方法包括：获取掩模版图样本的真实光刻图像样本，根据光刻胶模型，对每个掩模版图样本的真实光刻图像样本在多个光刻工艺窗口下的光刻图形轮廓进行预测...
    2026-01-21
  • 一种掩膜版生产过程中分区曝光图形错位的优化方法
    一种掩膜版生产过程中分区曝光图形错位的优化方法_合肥清溢光电有限公司_202511514674.8
    本发明涉及掩膜版制造，具体涉及一种掩膜版生产过程中分区曝光图形错位的优化方法，确定不同尺寸的图形和设备平台不同Y向移动距离对应的分区曝光时两侧区域图形之间的Y向错位量；进行分区域掩膜版Mask生产时，根据图形尺寸和设备平台Y向移动距离选择相...
    2026-01-21
  • 用于辅助图形优化的方法、设备和存储介质
    用于辅助图形优化的方法、设备和存储介质_全芯智造技术股份有限公司_202511870143.2
    根据本公开的示例实施例提供了用于辅助图形优化的方法、设备和存储介质。该方法包括获取初始掩模图案，初始掩模图案包括主图形和至少一个初始辅助图形；获取多个候选辅助图形组，多个候选辅助图形组中的一个候选辅助图形组包括与主图形对应的至少一个候选辅助...
    2026-01-21
  • 掩膜版修复方法及其修复装置
    掩膜版修复方法及其修复装置_中芯国际集成电路制造(上海)有限公司_202410942386.1
    一种掩膜版修复方法及其修复装置，掩膜版修复方法包括：提供掩膜版，所述掩膜版包括透光区；对所述掩膜版进行损伤缺陷的定位操作，以获取所述透光区中的损伤缺陷的位置信息；基于获取的所述损伤缺陷的位置信息的情况下，对所述损伤缺陷处进行平整化处理，用于...
    2026-01-21
  • 一种纳米压印模版抗粘处理设备
    一种纳米压印模版抗粘处理设备_璞璘科技(杭州)有限公司_202511817894.8
    本发明涉及微纳制造技术领域，具体是一种纳米压印模版抗粘处理设备，包括反应腔室与抗粘试剂输送系统，可在同一腔室内完成模板表面等离子活化、抗粘试剂定量输送、低温气相沉积全过程；通过喷胶阀与多级阀控系统实现微升级试剂精确控制，结合加热蒸发皿实现低...
    2026-01-21
  • 一种双面压印成形方法及双面微纳结构元件
    一种双面压印成形方法及双面微纳结构元件_深圳大学_202511883730.5
    本发明属于微纳成形技术领域，尤其涉及一种双面压印成形方法及双面微纳结构元件。双面压印成形方法包括如下步骤：制模，准备图案化基底，图案化基底具有图案面，于图案面加工对准结构，并根据对准结构于图案面加工微纳结构；切边，根据对准结构，沿第一方向切...
    2026-01-21
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