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最新专利技术
  • 沉积掩模、制造沉积掩模的方法和电子装置
    沉积掩模、制造沉积掩模的方法和电子装置_三星显示有限公司_202511381891.4
    本公开涉及沉积掩模、制造沉积掩模的方法以及电子装置。沉积掩模包括：掩模基底，设置为围绕掩模开口；主涂覆膜，设置在掩模基底上；以及掩模图案，设置为与掩模开口重叠，并且掩模图案与主涂覆膜间隔开，且像素开口介于掩模图案与主涂覆膜之间。掩模基底包括...
    2026-04-22
  • 一种带有炫彩色膜层产品的镀膜治具及其镀膜工艺
    一种带有炫彩色膜层产品的镀膜治具及其镀膜工艺_昆山英利悦电子有限公司_202512007015.1
    本发明公开了一种带有炫彩色膜层产品的镀膜治具及其镀膜工艺，属于镀膜技术领域，包括用于对产品进行镀膜的靶材和用于放置产品的真空腔室，靶材设置于真空腔室上，真空腔室内设置有用于放置产品的治具，治具包括后遮板、铰接于后遮板左侧的左遮板、铰接于后遮...
    2026-04-22
  • 用于半导体晶圆选择性蒸发法的掩膜板
    用于半导体晶圆选择性蒸发法的掩膜板_上海朕芯微电子科技有限公司_202512051556.4
    本发明专利公开了用于半导体晶圆选择性蒸发法的掩膜板，所述掩膜板上开设有若干沉积孔，其特征在于，所述若干沉积孔间均设置有用于与待蒸发晶圆接触的中间支撑体和边缘支撑体，若干所述中间支撑体/边缘支撑体在所述掩膜板的正面构成交错的结构。采用与待蒸发...
    2026-04-22
  • 掩膜板更换装置及图案化生长设备
    掩膜板更换装置及图案化生长设备_中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所_202512056164.7
    本发明公开了一种掩膜板更换装置及图案化生长设备，掩膜板更换装置用于更换掩膜板，所述掩膜板包括主体部及位于所述主体部外侧的凸起部，所述掩膜板更换装置包括样品架，所述样品架用于支撑所述掩膜板及衬底，所述样品架包括外框及设于所述外框内侧且间隔分布...
    2026-04-22
  • 一种硅基双极板表面涂层及其制备方法与应用
    一种硅基双极板表面涂层及其制备方法与应用_重庆中光学建设镀膜科技有限公司_202511942911.0
    本发明公开了一种硅基双极板表面涂层及其制备方法与应用。所述硅基双极板表面涂层包括依次层叠设置于硅基双极板表面的钛过渡层和致密类金刚石碳功能层。所述制备方法包括：采用磁控溅射技术在硅基双极板表面沉积形成钛过渡层，采用磁过滤真空电弧离子镀技术在...
    2026-04-22
  • 热镀锌生产线用气刀的表面强化工艺
    热镀锌生产线用气刀的表面强化工艺_泰尔(安徽)工业科技服务有限公司_202511959251.7
    本发明公开了一种热镀锌生产线用气刀的表面强化工艺，它采用物理气相沉积方法(PVD)在气刀表面沉积TiN涂层，它包括以下步骤：(1)对气刀进行预处理；(2)对气刀进行整体超声除油；(3)工件装入与抽真空；(4)对气刀进行离子轰击清洗；(5)对...
    2026-04-22
  • 一种硬质合金铣刀的刃口强化加工方法
    一种硬质合金铣刀的刃口强化加工方法_贵州西南工具(集团)有限公司_202511960355.X
    本发明涉及铣刀刃口强化技术领域，提供一种硬质合金铣刀的刃口强化加工方法，包括：步骤一、对铣刀基体执行超声清洗与等离子体活化预处理工序，去除基体表面氧化层及附着污染物；步骤二、采用磁控溅射工艺在刃口区域沉积过渡层，所述过渡层厚度为，为TiSi...
    2026-04-22
  • 用于在真空管道内壁制备复合吸气膜的方法及真空管道
    用于在真空管道内壁制备复合吸气膜的方法及真空管道_中国科学院近代物理研究所_202610250022.6
    本发明涉及粒子加速器技术领域，特别是涉及一种用于在真空管道内壁制备复合吸气膜的方法及真空管道。制备方法包括：对真空管道进行预处理，将真空管道安装于磁控溅射镀膜装置的螺线管内部，将TiZr丝状靶与Ag靶同时安装于真空管道；采用磁控溅射镀膜工艺...
    2026-04-22
  • 宽温域减磨耐磨二硼化钨基复合薄膜及其制备方法与应用
    宽温域减磨耐磨二硼化钨基复合薄膜及其制备方法与应用_中国科学院宁波材料技术与工程研究所_202511989468.2
    本发明公开了一种宽温域减磨耐磨二硼化钨基复合薄膜及其制备方法与应用。所述宽温域减磨耐磨二硼化钨基复合薄膜包括在其厚度方向上于基体表面依次层叠设置的铬过渡层、铬/二硼化钨层和二硼化钨/碳/氮掺杂层，所述铬过渡层与基体表面相邻设置，该二硼化钨基...
    2026-04-22
  • 一种镀锌钢带的加工工艺
    一种镀锌钢带的加工工艺_霸州市万事达金属制品有限公司_202610041374.0
    本发明涉及镀锌钢带制备技术领域，提出了一种镀锌钢带的加工工艺，步骤包括：S1、物理前处理：采用物理清洁方式去除钢带表面的油脂和氧化层；S2、真空沉积锌基薄膜：在真空环境下，通过气相沉积方式在经步骤S1处理后的钢带表面形成一层连续的锌基薄膜；...
    2026-04-22
  • 一种在硅通孔表面制备Ti薄膜层方法及TSV结构片
    一种在硅通孔表面制备Ti薄膜层方法及TSV结构片_无锡邑文微电子科技股份有限公司_202512013346.6
    本发明提供了一种在硅通孔表面制备Ti薄膜层方法及TSV结构片。所述方法包括：将具有硅通孔的晶片置于反应腔中，通入氩气；以自电离等离子体物理气相沉积的方式，在所述晶片表面、硅通孔侧壁以及硅通孔底部沉积Ti薄膜层；所述自电离等离子体物理气相沉积...
    2026-04-22
  • 一种冷阴极EB-PVD双层复合功能同质陶瓷涂层及其制备方法
    一种冷阴极EB-PVD双层复合功能同质陶瓷涂层及其制备方法_中国航空制造技术研究院_202511874201.9
    本发明属于热障涂层技术领域，具体公开了一种冷阴极EB‑PVD双层复合功能同质陶瓷涂层及其制备方法。所述涂层为同质陶瓷构成的双层结构，内层为致密陶瓷涂层，外层为传统柱状陶瓷涂层。所述制备方法采用冷阴极电子枪EB‑PVD技术，制备获得所述涂层。...
    2026-04-22
  • 一种用于真空蒸镀机冷凝管的防溅射机构
    一种用于真空蒸镀机冷凝管的防溅射机构_铜陵市超越电子股份有限公司_202610078977.8
    本发明涉及真空蒸镀设备技术领域，具体为一种用于真空蒸镀机冷凝管的防溅射机构，包括壳体，以及固定安装在壳体内壁的冷凝管，所述壳体内位于冷凝管位置固定安装有挡板，所述壳体内壁上还固定安装有导流板，所述导流板与壳体之间设置有排水机构，用于对冷凝水...
    2026-04-22
  • 一种具有多重冷却的弧靶
    一种具有多重冷却的弧靶_烟台先进材料与绿色制造山东省实验室_202610059463.8
    本发明公开了一种具有多重冷却的弧靶，涉及真空镀膜技术领域，本发明具有多重冷却的弧靶包括阳极外壳，其一端固定连接有绝缘外壳，另一端开口，所述绝缘外壳上穿设有铜柱；靶座位于所述阳极外壳内靠近开口位置处，且所述靶座与所述铜柱位于所述阳极外壳内的一...
    2026-04-22
  • 一种晶粒尺寸≤120μm铝硅铜靶材的制备方法
    一种晶粒尺寸≤120μm铝硅铜靶材的制备方法_宁波江丰电子材料股份有限公司_202511932166.1
    本发明涉及一种晶粒尺寸≤120μm铝硅铜靶材的制备方法，具体涉及铝硅铜靶材技术领域，所述制备方法包括：将铝硅铜合金材料依次进行第一热锻、第一热处理、第二热锻、第二热处理、第一压延、第二压延和第三热处理，得到晶粒尺寸≤120μm铝硅铜靶材；所...
    2026-04-22
  • 一种靶材快换装置及更换方法
    一种靶材快换装置及更换方法_宁波江丰电子材料股份有限公司_202511981394.8
    本发明涉及真空镀膜设备技术领域，公开了一种靶材快换装置及更换方法，该靶材快换装置包括子夹具、母夹具、插接件和固定组件，母夹具开设有插槽，插接件插接于插槽内，顶推块和撑杆滑动设置于母夹具，夹爪转动设置于母夹具，顶推块设置有斜面，撑杆的一端与斜...
    2026-04-22
  • 多工艺兼容的镀膜设备
    多工艺兼容的镀膜设备_广东越好电子装备有限公司_202512008954.8
    本申请公开一种多工艺兼容的镀膜设备。所述镀膜设备内限定有相互平行的第一直线传送方向和第二直线传送方向，所述第一镀膜腔和所述第二镀膜腔沿所述第一直线传送方向布置，所述第三镀膜腔和所述第四镀膜腔沿所述第二直线传送方向布置；所述中转腔内设置有旋转...
    2026-04-22
  • 一种旋转靶材的涂布方法
    一种旋转靶材的涂布方法_深圳庸行科技有限公司_202512043127.2
    本发明属于靶材制造领域，公开一种旋转靶材的涂布方法。包括以下步骤：(1)、检测靶材、清洗靶材并烘干处理；(2)、对靶材内壁进行紫外线处理；(3)、安装靶材至涂布夹具，在烘箱中对靶材进行热处理；(4)、将热处理后的靶材连同涂布夹具一起置于涂布...
    2026-04-22
  • 铁磁性金属的制备方法和磁电输运器件
    铁磁性金属的制备方法和磁电输运器件_内蒙古大学_202610018208.9
    本公开提供铁磁性金属的制备方法和磁电输运器件。铁磁性金属的制备方法包括：采用低能团簇束流沉积方法，在衬底上沉积由CoFe形成的纳米团簇，以形成纳米颗粒膜，其中，纳米颗粒膜中不含掺杂元素。本公开利用团簇组装工程的纳米团簇结构无序特性和尺寸可调...
    2026-04-22
  • 一种具有金刚石覆层三维骨架的离子束复合溅射靶材组件及其制备方法
    一种具有金刚石覆层三维骨架的离子束复合溅射靶材组件及其制备方法_中国兵器科学研究院宁波分院_202610268775.X
    本发明公开了一种具有金刚石覆层三维骨架的离子束复合溅射靶材组件及其制备方法，包括：复合溅射靶材、冷却背板和过渡层，复合溅射靶材包括具有金刚石覆层的三维骨架，以及填充于所述三维骨架中的主溅射材料；所述三维骨架为蜂窝状结构或网状结构；过渡层设置...
    2026-04-22
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