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最新专利技术
  • 一种光刻机载物台平整度实时监测方法、装置和设备
    一种光刻机载物台平整度实时监测方法、装置和设备_上海新微技术研发中心有限公司_202511477902.9
    本申请公开了一种光刻机载物台平整度实时监测方法、装置、设备和可读存储介质，涉及传感器技术领域。包括：先基于标准平面对目标位移测量传感器进行零点与漂移校正；目标位移测量传感器包括激光干涉式位移传感器、电容式间隙传感器和激光共焦位移传感器；激光...
    2026-03-06
  • 一种半导体制造晶圆光刻装置
    一种半导体制造晶圆光刻装置_北京谦亨祥瑞科技有限公司_202511431988.1
    本发明属于半导体加工技术领域，公开了一种半导体制造晶圆光刻装置，包括底座，所述底座表面固定安装有竖板，所述竖板表面转动安装有固定盘，两组竖板之间设置有顶板，所述顶板底壁设置有光刻机，两组竖板之间设置有定位机构，所述定位机构包括有承载组件与输...
    2026-03-06
  • 光刻机加工用恒温恒湿设备
    光刻机加工用恒温恒湿设备_托普斯(常州)精密机械有限公司_202511406188.4
    本发明涉及恒温恒湿设备领域，尤其涉及光刻机加工用恒温恒湿设备，机体内部配置有冷水盘管，冷水盘管上方依次配置有热水盘管、设备箱、电加热板、加湿器。本发明中，仅需在预热舱中集中升温后，舱内流通的沸腾清水在水泵组件作用下于设备箱、热水盘管、预热盘...
    2026-03-06
  • 用于光刻的掩模数据处理方法及设备
    用于光刻的掩模数据处理方法及设备_光科芯图(北京)科技有限公司_202511365181.2
    本发明提供一种用于光刻的掩模数据处理方法及设备。应用于集成电路制造领域。该方法包括：S11，获取连续掩膜数据；S12，根据连续掩膜数据中各个孔位对应的透射率值确定离散阶梯值集合；S13，以离散阶梯值集合中的阶梯值为扩散目标，基于预设扩散路径...
    2026-03-06
  • 一种图像曝光校正方法及系统
    一种图像曝光校正方法及系统_江西万年晟光智能科技有限公司_202511329463.7
    本发明提供了一种图像曝光校正方法及系统，所述方法包括获取待校正的输入图像，将所述输入图像及其反向图像进行多尺度分解，分别得到对应的低频分量和高频分量；利用神经网络对所述低频分量进行曝光校正处理，并对所述高频分量进行细节增强处理；将处理后的所...
    2026-03-06
  • 一种金刚石对顶砧微光刻及材料转移系统
    一种金刚石对顶砧微光刻及材料转移系统_吉帕科技(深圳)有限公司_202511166453.6
    本发明公开了一种金刚石对顶砧微光刻及材料转移系统，包括底板；支撑件，设于所述底板上；主光盒，安装于所述支撑件上，用于实现显微成像与微纳光刻曝光；调焦机构，连接所述主光盒，用于驱动所述主光盒沿竖直方向移动以调整焦距；物镜转盘，与所述主光盒相连...
    2026-03-06
  • 用于双镶嵌结构的平板印刷工艺
    用于双镶嵌结构的平板印刷工艺_应用材料公司_202510839662.6
    本公开的实施方式包括用于制造双镶嵌结构的装置和方法。光刻胶第一区域内的第一部分暴露于来自辐射源的第一剂量的电磁辐射。所述第一部分具有第一深度和第一表面积。所述光刻胶的所述第一区域内的第二部分则暴露于来自所述辐射源的第二剂量的电磁辐射。所述第...
    2026-03-06
  • 一种减少EBR区域光刻胶残留的方法
    一种减少EBR区域光刻胶残留的方法_重庆中科渝芯电子有限公司_202511618658.3
    本发明公开一种减少EBR区域光刻胶残留的方法，包括以下步骤：1)对晶圆进行预处理；2)采用旋涂法在预处理后的晶圆表面涂光刻胶；3)对完成光刻胶涂敷的晶圆用EBR液做边缘、背面清洗；4)对完成EBR清洗的晶圆做干燥处理。本发明解决了机台在EB...
    2026-03-06
  • 一种用于有机绝缘膜的多元酸酐基正性光刻胶组合物
    一种用于有机绝缘膜的多元酸酐基正性光刻胶组合物_烟台希尔德材料科技有限公司_202511645065.6
    本发明属于光刻胶技术领域，具体涉及一种用于有机绝缘膜的多元酸酐基正性光刻胶组合物，以质量份计，包括以下组分：基于多元羧酸衍生物的亚克力聚合物20‑100份；光致产酸剂0.03‑20份；酸生成剂或者碱生成剂0.01‑10份；表面活性剂0.01...
    2026-03-06
  • 一种基于小分子室温交联制备QD图案的方法及其制得的QLED光刻器件
    一种基于小分子室温交联制备QD图案的方法及其制得的QLED光刻器件_河南大学_202511404511.4
    本发明公开一种基于小分子室温交联制备QD图案的方法及其制得的QLED光刻器件，属于量子点(QD)纳米技术图案化显示技术领域。通过在QD溶液中引入小分子材料4, 4'‑双(3‑乙烯基‑9H‑咔唑‑9‑基)‑1, 1'‑联苯(CBP‑V)和光引...
    2026-03-06
  • 一种正性光刻胶组合物及其制备方法和应用
    一种正性光刻胶组合物及其制备方法和应用_江苏艾森半导体材料股份有限公司_202511396221.X
    本发明提供一种正性光刻胶组合物及其制备方法和应用，以重量份计，所述正性光刻胶组合物包括100份改性酚醛树脂、0.5～10份重氮萘醌化合物和0.01～0.1份光致产酸剂；所述改性酚醛树脂的分子结构中包含式I所示结构。采用含有特定结构的酚醛树脂...
    2026-03-06
  • 抗蚀剂材料及图案形成方法
    抗蚀剂材料及图案形成方法_信越化学工业株式会社_202510856581.7
    本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题为提供超过已知抗蚀剂材料的高感度、高分辨率，且LWR小、CDU良好、曝光后的图案形状良好的抗蚀剂材料、及图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂材料，含有：基础聚合物，含有下式(a)表示的重...
    2026-03-06
  • 固化性树脂组合物、固化膜和显示装置
    固化性树脂组合物、固化膜和显示装置_住友化学株式会社_202510824613.5
    本发明提供一种能够形成光扩散性和硬度优异的固化物的固化性树脂组合物。本发明提供一种固化性树脂组合物。该固化性树脂组合物含有树脂(A)、聚合性化合物(B)、聚合引发剂(C)和聚合物粒子(D)。树脂(A)是包含具有芳香族杂环的结构单元的聚合物。
    2026-03-06
  • 光敏树脂组合物、光敏树脂层、及使用其的半导体装置
    光敏树脂组合物、光敏树脂层、及使用其的半导体装置_三星SDI株式会社_202411818392.2
    提供了一种光敏树脂组合物、使用所述组合物制造的光敏树脂层以及包括所述光敏树脂层的半导体装置，所述光敏树脂组合物包括(A)树脂；(B)包含由化学式1表示的化合物的光聚合性化合物；(C)光聚合引发剂；和(D)溶剂。(化学式1中，各取代基与具体实...
    2026-03-06
  • 处理在极紫外光掩模上所检测到的缺陷
    处理在极紫外光掩模上所检测到的缺陷_科磊股份有限公司_202511668160.8
    本发明涉及处理在极紫外光掩模上所检测到的缺陷。本发明提供用于光掩模缺陷处理的方法及系统。一种方法包含将能量引导到光掩模并从所述光掩模检测能量。所述光掩模经配置以供在一或多个极紫外光波长处使用。所述方法还包含基于所述所检测能量而检测所述光掩模...
    2026-03-06
  • 一种光罩清洗方法
    一种光罩清洗方法_绍兴芯链半导体科技有限公司_202511696756.9
    本发明公开了一种光罩清洗方法，涉及光罩技术领域。本发明具体包括以下步骤：S1、预处理，在光罩上设置感应单元，通过感应单元检测光罩表面各处受到的压力，记录干净的光罩受到冲洗时表面各处的压力，将干净的光罩各处受到的压力为标准压力；S2、开始清洗...
    2026-03-06
  • 图形化挡板、微纳光学结构的深度控制方法、衍射光栅
    图形化挡板、微纳光学结构的深度控制方法、衍射光栅_上海鲲游科技有限公司_202511281583.4
    本发明提供了一种图形化挡板、微纳光学结构的深度控制方法、衍射光栅，图形化挡板用于调制深度连续渐变的微纳光学结构，所述挡板包括：扇形基板一和扇形基板二，所述扇形基板一与所述扇形基板二的圆心重合且其边缘相邻设置；所述扇形基板一由至少一个扇形段构...
    2026-03-06
  • 一种棋盘光栅光掩模制造精度优化方法
    一种棋盘光栅光掩模制造精度优化方法_广州新锐光掩模科技有限公司_202511471430.6
    本发明涉及一种棋盘光栅光掩模制造精度优化方法，包括：根据产品精度要求的高低选择不同的光刻工艺；根据上述选择的不同的光刻工艺对基材进行处理，设定基材上铬层的厚度，同时铬层具有高反射性，在根据不同的光刻工艺在铬层上涂覆不同的光阻层；分别针对不同...
    2026-03-06
  • 与光罩盒进行交互掩模版的装置
    与光罩盒进行交互掩模版的装置_新毅东(北京)科技有限公司_202511747541.5
    本发明涉及半导体领域，提供一种与光罩盒进行交互掩模版的装置。与光罩盒进行交互掩模版的装置包括连杆传动组件，包括具有U形槽的第一连杆以及与第一连杆连接的第二连杆，连杆传动组件用于切换光罩盒的锁紧与解锁状态；动力驱动组件，包括电机、由电机驱动的...
    2026-03-06
  • 一种工业X射线胶片及其制备方法
    一种工业X射线胶片及其制备方法_潍坊恒彩数码影像材料有限公司_202511251777.X
    本发明提供一种工业X射线胶片及其制备方法，涉及工业X射线胶片领域。所述工业X射线胶片的制备方法，包括有以下步骤：制备卤化银立方体颗粒乳剂、原位复合改性、制备乳剂层涂布液、涂布成型。本发明的工业X射线胶片的制备方法，能够有效克服影像颗粒度明显...
    2026-03-06
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